[發明專利]一種清洗盆在審
| 申請號： | 202110047736.4 | 申請日： | 2021-01-13 |
| 公開（公告）號： | CN112716331A | 公開（公告）日： | 2021-04-30 |
| 發明（設計）人： | 楊進 | 申請（專利權）人： | 虹漢科技（深圳）有限公司 |
| 主分類號： | A47K1/04 | 分類號： | A47K1/04;A47L25/00 |
| 代理公司： | 深圳市爾遜專利代理事務所(普通合伙) 44505 | 代理人： | 周盈如 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市寶安區福海街道和*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 清洗 | ||
1.一種清洗盆，具有盆體(1)，其特征在于，包括：
支座(2)，安裝在所述盆體(1)的底部；
定位軸(3)，安裝在所述支座(2)上；
至少一個清洗盤(4)，所述清洗盤(4)被配置為與清潔部(17)接觸，所述清潔部(17)與清洗盤(4)之間轉動摩擦，以實現清潔部(17)的清洗；
其中，所述支座(2)用于所述清洗盤(4)的支撐，所述清洗盤(4)沿所述定位軸(3)的軸心線方向上升或下降。
2.根據權利要求1所述的清洗盆，其特征在于，所述清洗盤(4)上設置有清潔齒(5)，所述清潔齒(5)用于與清潔部(17)之間轉動摩擦。
3.根據權利要求2所述的清洗盆，其特征在于，所述清潔齒(5)呈棱錐形或長條形，所述清潔齒(5)的數量有若干個，每相鄰的兩個清潔齒(5)之間設置有排水槽(7)。
4.根據權利要求2所述的清洗盆，其特征在于，所述清洗盤(4)的表面一側設置有第一限位部(6)。
5.根據權利要求1所述的清洗盆，其特征在于，所述支座(2)的外表面具有第一離合片(201)，所述清洗盤(4)的一側具有第二離合片(402)，所述第一離合片(201)與第二離合片(402)螺旋配合。
6.根據權利要求1或5所述的清洗盆，其特征在于，所述清洗盤(4)的底部設置有定位孔(401)，所述定位孔(401)與定位軸(3)適配，用于所述清洗盤(4)的定位。
7.根據權利要求1所述的清洗盆，其特征在于，還包括支架(8)，所述清洗盤(4)的一端穿過所述支架(8)，并通過支架(8)安裝在支座(2)上。
8.根據權利要求7所述的清洗盆，其特征在于，所述支架(8)的上表面具有第二限位部(9)，所述支架(8)的表面分布有若干第一排水孔(10)。
9.根據權利要求7或8所述的清洗盆，其特征在于，所述支架(8)的上表面設置有擋板(11)，在所述擋板(11)的一側分布有若干第二排水孔(12)，所述第二排水孔(12)間隔排列。
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