[發明專利]一種可自清潔且具有凈化功能的印染廢水處理裝置

在審

• 申請號: 202110045775.0
• 申請日: 2021-01-14
• 公開（公告）號: CN112573688A
• 公開（公告）日: 2021-03-30
• 發明（設計）人: 姚海軍
• 申請（專利權）人: 陜西中科文鼎信息科技有限公司
• 主分類號: C02F9/02
• 分類號: C02F9/02;C02F103/30
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種可自清潔且具有凈化功能的印染廢水處理裝置，包括基體（1）、儲水缸（6）和圓盤凸臺（18），其特征在于：所述基體（1）下端設置有可調支座（2），且可調支座（2）底部設置有防滑紋（36），并且基體（1）上端設置有垂直支撐桿（3），所述垂直支撐桿（3）左側設置有控制器（4），且垂直支撐桿（3）上端右側設置有水平支撐桿（5），并且水平支撐桿（5）連接儲水缸（6），所述儲水缸（6）正面外側設置有第一擺頁（7），且第一擺頁（7）與第一旋轉門（8）構成旋轉機構，并且第一旋轉門（8）正面右側設置有第一門鎖把手（9），所述第一旋轉門（8）正面設置有玻璃窗（10），所述儲水缸（6）上端開設有第一活塞孔（11），且第一活塞孔（11）連接有第一活塞（12），并且儲水缸（6）右側上端開設有第二活塞孔（13），所述第二活塞孔（13）內部連接有第二活塞（14），且第二活塞孔（13）下端設置有放水管（15），并且放水管（15）內部設置有過濾網板（16），所述放水管（15）與水龍頭（17）構成螺紋連接，所述旋轉軸（23）貫穿儲水缸（6）的底部，且旋轉軸（23）上端連接卡合圓盤（22），并且卡合圓盤（22）內部開設有內孔（24），所述內孔（24）內部設置有擋塊（26），且擋塊（26）與彈簧（25）構成彈性機構，并且擋塊（26）與旋轉盤（20）內的凹槽（27）構成卡合機構，所述旋轉盤（20）外側設置有清潔刷（21），且旋轉盤（20）上端連接圓盤凸臺（18），并且圓盤凸臺（18）外側設置有防水墊圈（19），所述旋轉軸（23）下端貫穿電機箱體（35）的上端，且旋轉軸（23）下端連接第一軸承（28）和第二軸承（29），并且旋轉軸（23）外側設置有第一齒輪（30），所述第一齒輪（30）與第二齒輪（31）構成嚙合機構，且第二齒輪（31）與電機（32）連接，所述電機箱體（35）通過第一螺紋桿（33）固定有電動伸縮桿（34），且電機箱體（35）正面外側通過第二螺紋桿（38）設置有第二擺頁（37），并且第二擺頁（37）與第二旋轉門（39）構成旋轉機構，所述第二旋轉門（39）正面外側設置有第二門鎖把手（40）。

2.根據權利要求1所述的一種可自清潔且具有凈化功能的印染廢水處理裝置，其特征在于：所述基體（1）有1個，且基體（1）的尺寸大于垂直支撐桿（3）的尺寸和控制器（4）的尺寸，并且基體（1）與水平方向平行，所述可調支座（2）有4個，且可調支座（2）關于基體（1）底部的中心前后左右對稱設置，并且可調支座（2）的高度大于基體（1）的高度。

3.根據權利要求1所述的一種可自清潔且具有凈化功能的印染廢水處理裝置，其特征在于：所述水平支撐桿（5）有2個，且水平支撐桿（5）關于儲水缸（6）的中心上下對稱設置，并且水平支撐桿（5）與水平方向平行，所述水平支撐桿（5）兩個相互平行，且水平支撐桿（5）兩個在垂直方向重合，并且水平支撐桿（5）的長度小于基體（1）的長度。

4.根據權利要求1所述的一種可自清潔且具有凈化功能的印染廢水處理裝置，其特征在于：所述儲水缸（6）有1個，且儲水缸（6）的后端為水平面，并且儲水缸（6）的高度小于垂直支撐桿（3）的高度，所述儲水缸（6）的尺寸大于圓盤凸臺（18）的尺寸，且儲水缸（6）的內部為圓柱形，并且儲水缸（6）的內部直徑小于防水墊圈（19）的直徑。

5.根據權利要求1所述的一種可自清潔且具有凈化功能的印染廢水處理裝置，其特征在于：所述第一擺頁（7）有1個，且第一擺頁（7）與第一旋轉門（8）構成旋轉機構，并且第一擺頁（7）的高度等于第一旋轉門（8）的高度，所述第一旋轉門（8）內部設置有密封裝置，且第一旋轉門（8）的尺寸小于儲水缸（6）的尺寸，并且第一旋轉門（8）的尺寸大于玻璃窗（10）的尺寸。

6.根據權利要求1所述的一種可自清潔且具有凈化功能的印染廢水處理裝置，其特征在于：所述第一活塞孔（11）有1個，且第一活塞孔（11）的直徑小于儲水缸（6）的內部直徑，并且第一活塞孔（11）與第一活塞（12）構成螺紋連接，所述第一活塞孔（11）的直徑大于第一活塞（12）的螺紋直徑，且第一活塞孔（11）的圓心與儲水缸（6）的內部圓心重合，并且第一活塞孔（11）的高度小于儲水缸（6）的高度。