[發(fā)明專利]一種介電溫度系數(shù)修正的深能級(jí)瞬態(tài)譜測(cè)試方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110011402.1 | 申請(qǐng)日: | 2021-01-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112786472B | 公開(公告)日: | 2023-01-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 曾慧中;唐義強(qiáng);孟奔陽(yáng);肖化宇;楊瀟;張文旭;張萬(wàn)里;李言榮 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 電子科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L21/66 | 分類號(hào): | H01L21/66 |
| 代理公司: | 電子科技大學(xué)專利中心 51203 | 代理人: | 閆樹平 |
| 地址: | 611731 四川省成*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 溫度 系數(shù) 修正 能級(jí) 瞬態(tài) 測(cè)試 方法 | ||
本發(fā)明屬于半導(dǎo)體器件的測(cè)試技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種介電溫度系數(shù)修正的深能級(jí)瞬態(tài)譜測(cè)試方法。本發(fā)明通過(guò)結(jié)合DLTS測(cè)試的等效電路,分析了MIS結(jié)構(gòu)中絕緣層電容對(duì)DLTS信號(hào)的影響,再對(duì)DLTS測(cè)試數(shù)據(jù)進(jìn)行分析,計(jì)算出MIS結(jié)構(gòu)中絕緣層電容的影響因子α,然后根據(jù)DLTS譜線數(shù)據(jù)和影響因子對(duì)原始的DLTS信號(hào)譜經(jīng)行了修正,得到了準(zhǔn)確的DLTS信號(hào)譜。解決了介電常數(shù)對(duì)溫度有依賴性的材料制作成MIS結(jié)構(gòu)時(shí),現(xiàn)有DLTS測(cè)試不準(zhǔn)確的問(wèn)題,最終本發(fā)明準(zhǔn)確的得到了該類MIS結(jié)構(gòu)的缺陷能級(jí)、陷進(jìn)濃度和截獲面積。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于半導(dǎo)體器件的測(cè)試技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種基于鎖相放大技術(shù)的DLTS測(cè)量的方法,更具體的為一種介電溫度系數(shù)修正的深能級(jí)瞬態(tài)譜測(cè)試方法。
背景技術(shù)
深能級(jí)瞬態(tài)譜(deep level transient spectroscopy,DLTS)是半導(dǎo)體領(lǐng)域研究和檢測(cè)半導(dǎo)體雜質(zhì)、缺陷深能級(jí)和界面態(tài)等的重要技術(shù)手段。應(yīng)用于半導(dǎo)體領(lǐng)域時(shí),可給出表征半導(dǎo)體禁帶范圍內(nèi)的雜質(zhì)、缺陷深能級(jí)及界面態(tài)隨溫度(即能量)分布的DLTS譜;DLTS可以以微觀物理量的變化來(lái)解釋半導(dǎo)體器件電特性退化原因。
DLTS技術(shù)最先應(yīng)用于不對(duì)稱的PN結(jié)或者肖特基結(jié)結(jié)構(gòu)的樣品。該技術(shù)的檢測(cè)靈敏度通常為半導(dǎo)體材料中摻雜濟(jì)濃度的萬(wàn)分之一甚至更低的缺陷,可得到如多數(shù)載流子陷阱、少數(shù)載流子陷阱、陷阱濃度及分布、陷阱能級(jí)、截獲面積等諸多信息。
隨DLTS技術(shù)的發(fā)展,該技術(shù)被應(yīng)用于金屬-氧化物-半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOS場(chǎng)效應(yīng)晶體管),其往往為n型Si或p型Si的基底,這種樣品中基底的電容和絕緣層的電容在整個(gè)溫度范圍上基本不會(huì)發(fā)生太大的變化,其介電常數(shù)與溫度依賴性不強(qiáng)。但是,對(duì)于介電常數(shù)對(duì)溫度有依賴性的材料(如氧化哈HfO2、鈦酸鍶STO)制備的場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOS結(jié)構(gòu)),也是金屬-絕緣層-半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)(MIS結(jié)構(gòu))。該結(jié)構(gòu)相比于肖特基結(jié)結(jié)構(gòu)的樣品,新增加的絕緣層會(huì)給DLTS測(cè)試帶來(lái)新的影響。在經(jīng)過(guò)Ar+轟擊的STO上存在著一種現(xiàn)象:隨著溫度的降低,被轟擊過(guò)的STO導(dǎo)電層的電導(dǎo)和電容會(huì)急劇增加,介電常數(shù)會(huì)隨溫度的變化急劇變化。對(duì)于這類樣品須考慮介電常數(shù)變化對(duì)DLTS影響,因此當(dāng)前DLTS技術(shù)的適用性存在一定的局限。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)上述存在問(wèn)題或不足,本發(fā)明的目的在于為介電常數(shù)對(duì)溫度有依賴性的MIS結(jié)構(gòu)器件,提供一種介電溫度系數(shù)修正的深能級(jí)瞬態(tài)譜測(cè)試方法,以改善DLTS技術(shù)的適用性,解決當(dāng)前DLTS技術(shù)面對(duì)這種情況不準(zhǔn)確的問(wèn)題。
一種介電溫度系數(shù)修正的深能級(jí)瞬態(tài)譜測(cè)試方法,包括如下步驟:
步驟1:對(duì)目標(biāo)樣品進(jìn)行DLTS測(cè)試,收集不同溫度下目標(biāo)樣品的電容瞬態(tài)信息,得到不同溫度下電容瞬態(tài)C-t曲線,然后隨機(jī)選取兩個(gè)固定的時(shí)間t1,t2所對(duì)應(yīng)的電容相加,以得到不同溫度的電容變化量,電容變化量ΔC可表示為:
其中C(t1)、C(t2)是t1,t2時(shí)刻的測(cè)試電容,nT是陷阱中的電子濃度,C0是單位面積缺陷電容,ND是摻雜濃度,τn時(shí)間常數(shù)。DLTS信號(hào)常常使用ΔC/C0來(lái)表示,改變時(shí)間t1,t2可以得到多條曲線,得到原始的DLTS信號(hào)譜線圖。
步驟2:在某個(gè)溫度上ΔC會(huì)存在極值,根據(jù)步驟1得到的原始DLTS信號(hào)譜線圖,對(duì)公式1關(guān)于τn求導(dǎo),以得到曲線極值點(diǎn),即得到極值溫度。不同的時(shí)間t1,t2可以得到多條曲線,每一條曲線都有一個(gè)極值溫度和相對(duì)應(yīng)時(shí)間常數(shù)τn。
假設(shè)目標(biāo)樣品存在缺陷能級(jí)為ΔE的缺陷,則該缺陷對(duì)應(yīng)的時(shí)間常數(shù)τn為:
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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