[發明專利]質子束流的測量裝置及系統

在審

• 申請號: 202110010206.2
• 申請日: 2021-01-05
• 公開（公告）號: CN112666594A
• 公開（公告）日: 2021-04-16
• 發明（設計）人: 孔福全;隋麗;劉建成;龔毅豪;馬立秋;王巧娟;劉淇
• 申請（專利權）人: 中國原子能科學研究院
• 主分類號: G01T1/29
• 分類號: G01T1/29
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 張成新

1.一種質子束流的測量裝置，其特征在于，包括：

殼體結構，具有真空容置空間；

測量結構，套設于所述殼體結構的真空容置空間中，用于質子束流的測量；

其中，所述測量結構包括：

陣列件，具有均勻分布設置的多個法拉第筒，用于實現質子束流的注量率和均勻性的測量。

2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述陣列件還包括：

支撐板，垂直于所述質子束流的入射方向、并設置于所述殼體結構的真空容置空間中，用于作為所述多個法拉第筒的支撐結構。

3.根據權利要求2所述的裝置，其特征在于，所述支撐板的邊緣與所述殼體結構的內表面相互絕緣抵接。

4.根據權利要求2所述的裝置，其特征在于，所述支撐板包括：

多個設置孔，均勻分布設置于所述支撐板上，所述多個設置孔的每個設置孔貫穿所述支撐板，用于一一對應設置所述多個法拉第筒，以形成所述陣列件。

5.根據權利要求2所述的裝置，其特征在于，所述測量結構還包括：

高壓板，沿所述質子束流的入射路徑設置于所述陣列件的所述多個法拉第筒的前方，用于在被施加高壓時防止電子從所述多個法拉第筒中逸出。

6.根據權利要求5所述的裝置，其特征在于，所述高壓板與所述多個法拉第筒中每個法拉第筒之間具有間隙，使所述高壓板與所述多個法拉第筒之間絕緣。

7.根據權利要求5所述的裝置，其特征在于，所述高壓板包括：

多個光闌孔，所述多個光闌孔的每個光闌孔貫穿所述高壓板并與所述多個法拉第筒中每個法拉第筒對應，用于使得入射的質子束流保持準直特性。

8.根據權利要求6所述的裝置，其特征在于，所述測量結構還包括：

多個前支柱，所述多個前支柱均勻分布設置于所述高壓板和所述支撐板之間，用于對所述高壓板進行支撐，使得所述高壓板與所述陣列件之間絕緣。

9.根據權利要求8所述的裝置，其特征在于，所述多個前支柱的每個前支柱的一端穿設于所述支撐板上，另一端抵接于所述高壓板上。

10.根據權利要求2所述的裝置，其特征在于，所述殼體結構包括：

筒體，為沿所述質子束流入射路徑設置的筒柱狀結構，用于套設所述測量結構。

11.根據權利要求10所述的裝置，其特征在于，所述殼體結構還包括：

前面板，與所述筒體的一端的邊緣固定設置，用于形成所述殼體結構的迎束面。

12.根據權利要求11所述的裝置，其特征在于，所述前面板包括：

多個準直孔，所述多個準直孔的每個準直孔貫穿所述前面板并與所述多個法拉第筒中每個法拉第筒對應，用于使得入射的質子束流具有準直特性。

13.根據權利要求10所述的裝置，其特征在于，所述殼體結構還包括：

后面板，與所述筒體的另一端的邊緣固定設置，用于形成所述殼體結構的背束面。

14.根據權利要求13所述的裝置，其特征在于，所述后面板沿所述質子束流的入射路徑設置于所述陣列件的所述多個法拉第筒的后方，用于為所述測量結構提供支撐。

15.根據權利要求14所述的裝置，其特征在于，所述測量結構還包括：

多個后支柱，所述多個后支柱均勻分布設置于所述后面板和所述支撐板之間，用于對所述支撐板進行支撐。

16.根據權利要求15所述的裝置，其特征在于，所述多個后支柱的每個后支柱的一端穿設于所述支撐板上，另一端抵接于所述后面板上，使得所述后面板與所述陣列件之間絕緣。