[發明專利]用于水族箱的撓性清潔裝置和方法

在審

• 申請號: 202080092017.8
• 申請日: 2020-12-04
• 公開（公告）號: CN115397236A
• 公開（公告）日: 2022-11-25
• 發明（設計）人: 貝恩德·瓦爾邁爾;卡特婭·貢特拉赫
• 申請（專利權）人: 斯派克初姆布蘭斯有限公司
• 主分類號: A01K63/10
• 分類號: A01K63/10;A01K63/00;B08B1/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 張麗娜

1.一種用于對水族箱壁的內表面進行清潔的水族箱清潔裝置，所述清潔裝置包括：

(a)清潔本體，所述清潔本體具有清潔表面、相反的外表面以及在所述清潔表面與所述外表面之間延伸的側壁；所述清潔表面在所述清潔本體不受力時包含在第一平面內；

(i)在所述清潔本體內保持有第一磁體布置結構；

(ii)所述清潔本體在受到外力時能夠圍繞所述第一平面彈性地撓曲；

(b)手柄構件，所述手柄構件具有壁接合表面、相反的外表面以及在所述壁接合表面與所述外表面之間延伸的手柄側壁；所述壁接合表面在所述手柄構件不受力時包含在第二平面內；

(i)在所述手柄構件內保持有第二磁體布置結構，并且所述第二磁體布置結構定位成在所述清潔本體的所述清潔表面和所述手柄構件的所述壁接合表面處于彼此相對時吸引所述第一磁體布置結構；并且

(ii)所述手柄構件在受到外力時能夠圍繞所述第二平面彈性地撓曲。

2.根據權利要求1所述的清潔裝置，其中：

(a)所述清潔本體在所述清潔本體中具有第一凹部布置結構，以允許圍繞所述第一平面具有撓性；并且

(b)所述手柄構件在所述手柄構件中具有第二凹部布置結構，以允許圍繞所述第二平面具有撓性。

3.根據權利要求2所述的清潔裝置，其中，所述第一凹部布置結構在所述清潔本體中包括撓性區域，所述撓性區域包括與一個或更多個翅片交替的多個凹部。

4.根據權利要求3所述的清潔裝置，其中，所述清潔本體包括彼此間隔開的多個撓性區域，每個撓性區域具有與一個或更多個翅片交替的多個凹部。

5.根據權利要求2至4中的任一項所述的清潔裝置，其中，所述第一凹部布置結構從所述清潔表面延伸到所述清潔本體和所述側壁中，并且不延伸到所述外表面中。

6.根據權利要求2至5中的任一項所述的清潔裝置，其中，所述清潔本體的所述外表面是實心的且無凹部的。

7.根據權利要求4所述的清潔裝置，其中，在所述清潔本體中具有至少三個撓性區域，所述至少三個撓性區域由非撓性區域彼此間隔開。

8.根據權利要求7所述的清潔裝置，其中，所述第一磁體布置結構在所述清潔本體中、在所述非撓性區域中的至少一個非撓性區域中包括至少一個磁體。

9.根據權利要求8所述的清潔裝置，其中，所述清潔本體的所述非撓性區域中的每個非撓性區域中具有至少一個磁體。

10.根據權利要求2至9中的任一項所述的清潔裝置，其中，所述第二凹部布置結構在所述手柄構件中包括撓性部段，所述撓性部段包括與一個或更多個翅片交替的多個凹部。

11.根據權利要求10所述的清潔裝置，其中，所述手柄構件包括彼此間隔開的多個撓性部段，每個撓性部段具有與一個或更多個翅片交替的多個凹部。

12.根據權利要求11所述的清潔裝置，其中：

(a)至少三個撓性部段從所述壁接合表面部分地延伸到所述手柄構件和所述手柄側壁中；并且

(b)至少三個撓性部段從所述外表面部分地延伸到所述手柄構件和所述手柄側壁中。

13.根據權利要求12所述的清潔裝置，其中，在所述手柄構件中，各個撓性部段之間是非撓性部段。

14.根據權利要求13所述的清潔裝置，其中，所述第二磁體布置結構在所述手柄構件中、在所述非撓性部段中的至少一個非撓性部段中包括至少一個磁體。

15.根據權利要求13和14中的任一項所述的清潔裝置，其中，所述手柄構件的所述非撓性部段中的每個非撓性部段中具有至少一個磁體。