[發明專利]轉印薄膜、層疊體的制造方法

在審

• 申請號: 202080088401.0
• 申請日: 2020-12-11
• 公開（公告）號: CN114846407A
• 公開（公告）日: 2022-08-02
• 發明（設計）人: 植木啟吾;江夏泰雄;豐島悠樹;福重裕一;豐岡健太郎
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: G03F7/11
• 分類號: G03F7/11;B32B27/00;B32B27/18;B32B27/32;B32B27/36;G03F7/004;G03F7/027;B32B7/06;G06F3/041
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 薛海蛟

1.一種轉印薄膜，其依次具有臨時支承體、感光性組合物層及覆膜，

所述覆膜從所述感光性組合物層側依次具有剝離性樹脂層及基材，

所述剝離性樹脂層的所述感光性組合物層側的表面的表面自由能的氫鍵成分為4.0mN/m以下。

2.根據權利要求1所述的轉印薄膜，其中，

所述剝離性樹脂層的厚度為10nm～500nm。

3.根據權利要求1或2所述的轉印薄膜，其中，

所述剝離性樹脂層的所述感光性組合物層側的表面的表面粗糙度Ra為50nm以下。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的轉印薄膜，其中，

所述剝離性樹脂層包含樹脂及表面活性劑。

5.根據權利要求4所述的轉印薄膜，其中，

所述樹脂包含烯烴系樹脂。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的轉印薄膜，其中，

所述基材包含聚酯樹脂。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的轉印薄膜，其中，

所述剝離性樹脂層的所述感光性組合物層側的表面的表面自由能的氫鍵成分與分散力成分滿足式(1)的關系，

式(1) γ^d+10×γ^h≤42.0mN/m

γ^d表示所述表面自由能的分散力成分，γ^h表示所述表面自由能的氫鍵成分。

8.根據權利要求1至7中任一項所述的轉印薄膜，其中，

所述感光性組合物層包含聚合性化合物、堿溶性樹脂及聚合引發劑。

9.根據權利要求1至8中任一項所述的轉印薄膜，其中，

所述感光性組合物層用于形成觸摸面板電極保護膜。

10.一種層疊體的制造方法，其具有：

貼合工序，從權利要求1至9中任一項所述的轉印薄膜剝離所述覆膜，使所述臨時支承體上的所述感光性組合物層與具有導電層的基板接觸而進行貼合，獲得帶感光性組合物層的基板；

曝光工序，對所述感光性組合物層進行圖案曝光；及

顯影工序，對經曝光的所述感光性組合物層進行顯影而形成圖案，

所述層疊體的制造方法還具有剝離工序，在所述貼合工序與所述曝光工序之間或所述曝光工序與所述顯影工序之間，從所述帶感光性組合物層的基板剝離所述臨時支承體。