[發(fā)明專利]顯示設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202080069768.8 | 申請日: | 2020-03-12 |
| 公開(公告)號: | CN114503271A | 公開(公告)日: | 2022-05-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 太昌一;康在雄;姜信喆;文秀美;吳元植 | 申請(專利權(quán))人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/15 | 分類號: | H01L27/15;H01L27/12;H01L21/768;H01L33/36;H01L33/38 |
| 代理公司: | 北京英賽嘉華知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11204 | 代理人: | 王達(dá)佐;劉錚 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 設(shè)備 | ||
1.顯示設(shè)備,包括:
襯底,包括顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域,所述顯示區(qū)域包括多個像素區(qū)域,所述多個像素區(qū)域中的每個包括發(fā)射區(qū)域,所述非顯示區(qū)域在所述顯示區(qū)域的至少一側(cè)處;以及
像素,設(shè)置在所述多個像素區(qū)域中的每個中,
其中,所述像素包括:
第一電極和第二電極,在所述襯底上彼此隔開;
多個發(fā)光元件,連接在所述第一電極和所述第二電極之間;以及
光學(xué)圖案,設(shè)置在所述多個發(fā)光元件上并且與所述多個發(fā)光元件中的至少一些重疊,以及
其中,所述光學(xué)圖案配置成提取從所述多個發(fā)光元件發(fā)射的光。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備,其中,所述光學(xué)圖案包括透鏡。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示設(shè)備,還包括設(shè)置在所述第一電極和所述第二電極以及所述發(fā)光元件上的封裝層。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示設(shè)備,其中,所述光學(xué)圖案與所述封裝層一體。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示設(shè)備,其中,所述封裝層設(shè)置在所述光學(xué)圖案上。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示設(shè)備,
其中,所述光學(xué)圖案包括多個子光學(xué)圖案,以及
其中,所述多個子光學(xué)圖案中的每個將所述多個發(fā)光元件中的特定數(shù)量的發(fā)光元件分組為一個單元,并且位于所述一個單元上。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示設(shè)備,其中,所述多個子光學(xué)圖案具有彼此不同的形狀。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示設(shè)備,其中,所述多個子光學(xué)圖案具有相同的形狀。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示設(shè)備,還包括直接設(shè)置在所述多個發(fā)光元件中的每個的上表面上的絕緣層,
其中,所述光學(xué)圖案設(shè)置在所述多個發(fā)光元件上,且所述絕緣層插置在所述光學(xué)圖案和所述多個發(fā)光元件之間。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示設(shè)備,還包括:
第一接觸電極,設(shè)置在所述絕緣層上并且將所述第一電極與所述發(fā)光元件的相對端中的一端電連接;以及
第二接觸電極,在所述絕緣層上與所述第一接觸電極隔開,并且將所述第二電極與所述發(fā)光元件的相對端中的另一端電連接,
其中,所述光學(xué)圖案覆蓋所述第一接觸電極的一部分和所述第二接觸電極的一部分。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的顯示設(shè)備,其中,所述光學(xué)圖案包括光漫射顆粒。
12.顯示設(shè)備,包括:
襯底,包括顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域,所述顯示區(qū)域包括多個像素區(qū)域,所述多個像素區(qū)域中的每個包括發(fā)射區(qū)域,所述非顯示區(qū)域在所述顯示區(qū)域的至少一側(cè)處;以及
像素,設(shè)置在所述多個像素區(qū)域中的每個中,
其中,所述像素包括:
第一電極和第二電極,在所述襯底上彼此隔開;
多個發(fā)光元件,連接在所述第一電極和所述第二電極之間;
絕緣光學(xué)圖案,設(shè)置在所述多個發(fā)光元件中的每個的上表面上,并且配置成提取從所述多個發(fā)光元件發(fā)射的光;
第一接觸電極和第二接觸電極,在所述絕緣光學(xué)圖案上彼此隔開;以及
封裝層,設(shè)置在所述第一接觸電極和所述第二接觸電極上。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的顯示設(shè)備,其中,所述絕緣光學(xué)圖案具有向上突出的形狀,并且包括分散在其中的光學(xué)漫射顆粒。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的顯示設(shè)備,其中,所述絕緣光學(xué)圖案包括有機(jī)絕緣材料。
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- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點的熱電元件的;包括有熱磁組件的
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗設(shè)備、驗證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





