[實(shí)用新型]一種用于解決硅片表面清洗過(guò)程劃傷和沾污的底座裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202023072823.5
• 申請(qǐng)日: 2020-12-18
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN213816083U
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-07-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張帥;梁興勃;盧飛紅;荊濤;劉亮榮;陸宇凡;盧鋒;劉建剛
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 浙江金瑞泓科技股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01L21/67
• 分類(lèi)號(hào): H01L21/67
• 代理公司: 上海泰能知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31233
• 代理人: 王亮;孫健

本實(shí)用新型涉及一種用于解決硅片表面清洗過(guò)程劃傷和沾污的底座裝置，包括底座，所述的底座呈長(zhǎng)板狀結(jié)構(gòu)，該底座的上端面上沿著長(zhǎng)度方向均勻開(kāi)設(shè)有多個(gè)凹槽，所述的凹槽的兩側(cè)分別貫穿底座兩側(cè)的側(cè)壁，該凹槽的底面為斜面，所述的斜面上均勻布置有若干個(gè)孔洞，所述的孔洞呈豎直布置且下端貫穿底座的底面。本實(shí)用新型通過(guò)多個(gè)凹槽將片架一一分隔開(kāi)來(lái)，硅片由于凹槽的斜面傾斜，硅片會(huì)通過(guò)自身重力作用斜靠到片架上，這樣可以有效避免硅片在清洗過(guò)程中由于相互吸附和碰撞，導(dǎo)致清洗后硅片表面出現(xiàn)劃傷和沾污，有利于提高硅片表面清洗質(zhì)量。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及硅片清洗技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種用于解決硅片表面清洗過(guò)程劃傷和沾污的底座裝置。

背景技術(shù)

硅片清洗是IC制造過(guò)程中非常重要的環(huán)節(jié)，半導(dǎo)體加工過(guò)程中大部分工藝流程都涉及到清洗。硅片表面清潔是實(shí)現(xiàn)高性能處理的第一步，如果硅片表面不清潔或者有損傷，后續(xù)工藝無(wú)法正常進(jìn)行。因此對(duì)硅片表面質(zhì)量的要求將日趨嚴(yán)格，因?yàn)檫@是實(shí)現(xiàn)大規(guī)模集成電路立體化結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵。

清洗過(guò)程通常包括干法清洗和濕法清洗，其中濕法清洗又分為槽式清洗和單片清洗。槽式清洗是一整盒硅片裝在一個(gè)片架中，然后平放投入裝滿清洗液中進(jìn)行清洗，槽體中液體是處于流動(dòng)狀態(tài)的，這樣有利于帶走硅片表面的顆粒等其他物質(zhì)。但是由于片架卡槽之間的距離有限，硅片在藥液中很容易吸附在一起，流動(dòng)的液體會(huì)帶動(dòng)硅片發(fā)生移動(dòng)，這時(shí)吸附在一起的硅片很容易出現(xiàn)相互摩擦，導(dǎo)致清洗后硅片表面出現(xiàn)劃傷和沾污。

發(fā)明內(nèi)容

本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種用于解決硅片表面清洗過(guò)程劃傷和沾污的底座裝置，通過(guò)多個(gè)凹槽將片架一一分隔開(kāi)來(lái)，硅片由于凹槽的斜面傾斜，硅片會(huì)通過(guò)自身重力作用斜靠到片架上，這樣可以有效避免硅片在清洗過(guò)程中由于相互吸附和碰撞，導(dǎo)致清洗后硅片表面出現(xiàn)劃傷和沾污，有利于提高硅片表面清洗質(zhì)量。

本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是：提供一種用于解決硅片表面清洗過(guò)程劃傷和沾污的底座裝置，包括底座，所述的底座呈長(zhǎng)板狀結(jié)構(gòu)，該底座的上端面上沿著長(zhǎng)度方向均勻開(kāi)設(shè)有多個(gè)凹槽，所述的凹槽的兩側(cè)分別貫穿底座兩側(cè)的側(cè)壁，該凹槽的底面為斜面，所述的斜面上均勻布置有若干個(gè)孔洞，所述的孔洞呈豎直布置且下端貫穿底座的底面。

作為對(duì)本實(shí)用新型所述的技術(shù)方案的一種補(bǔ)充，所述的底座采用PVDF材質(zhì)制成。

作為對(duì)本實(shí)用新型所述的技術(shù)方案的一種補(bǔ)充，所述的底座的底面為水平面，所述的斜面與水平面之間的夾角為5度。

作為對(duì)本實(shí)用新型所述的技術(shù)方案的一種補(bǔ)充，每個(gè)斜面上的孔洞均呈矩形陣列排布。

有益效果：本實(shí)用新型涉及一種用于解決硅片表面清洗過(guò)程劃傷和沾污的底座裝置，整個(gè)底座裝置放置于槽式清洗機(jī)槽底，硅片裝于PFA片架中，然后將片架放置于底座的凹槽，通過(guò)多個(gè)凹槽將片架一一分隔開(kāi)來(lái)，硅片由于凹槽的斜面傾斜，硅片會(huì)通過(guò)自身重力作用斜靠到片架上，這樣可以有效避免硅片在清洗過(guò)程中由于相互吸附和碰撞，導(dǎo)致清洗后硅片表面出現(xiàn)劃傷和沾污，有利于提高硅片表面清洗質(zhì)量。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本實(shí)用新型不同規(guī)格的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖示：1、底座，2、凹槽，3、孔洞，4、斜面。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合具體實(shí)施例，進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型。應(yīng)理解，這些實(shí)施例僅用于說(shuō)明本實(shí)用新型而不用于限制本實(shí)用新型的范圍。此外應(yīng)理解，在閱讀了本實(shí)用新型講授的內(nèi)容之后，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以對(duì)本實(shí)用新型作各種改動(dòng)或修改，這些等價(jià)形式同樣落于本申請(qǐng)所附權(quán)利要求書(shū)所限定的范圍。