[實用新型]用于解決加氫反應釜、氫氣分布器及氣源管堵塞的裝置

有效

• 申請號: 202022987864.0
• 申請日: 2020-12-11
• 公開（公告）號: CN214553471U
• 公開（公告）日: 2021-11-02
• 發明（設計）人: 侍作軍
• 申請（專利權）人: 鹽城輝煌化工有限公司
• 主分類號: B01J19/18
• 分類號: B01J19/18;B01J19/20;B01J19/00;B08B9/087;B08B9/093
• 代理公司: 北京卓嵐智財知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11624
• 代理人: 李艷芬

1.用于解決加氫反應釜、氫氣分布器及氣源管堵塞的裝置，包括釜體(1)、支撐腿(2)、集水箱(3)、注水管(4)和入料口(5)，其特征在于：所述釜體(1)底端的兩側均安裝有支撐腿(2)，所述釜體(1)一側的外壁上安裝有集水箱(3)，所述集水箱(3)內部的一側安裝有注水管(4)，且注水管(4)的一端延伸至釜體(1)的內部并安裝有高壓噴頭(10)，所述釜體(1)頂端的一側安裝有入料口(5)，所述釜體(1)頂端的一側設置有攪拌機構(6)，所述攪拌機構(6)包括工作電機(601)、轉軸(602)、攪拌軸(603)、攪拌葉(604)、連接桿(605)、攪拌桿(606)以及螺旋葉片(607)，所述工作電機(601)設置于釜體(1)頂端的一側，所述工作電機(601)的一端通過聯軸器安裝有轉軸(602)，且轉軸(602)的一端安裝有攪拌軸(603)，所述攪拌軸(603)的一端延伸至釜體(1)的內部，所述攪拌軸(603)表面的一側安裝有攪拌葉(604)，所述攪拌軸(603)表面的另一側安裝有連接桿(605)，且連接桿(605)的一端安裝有攪拌桿(606)，所述攪拌軸(603)表面遠離連接桿(605)的一側安裝有螺旋葉片(607)，所述釜體(1)內部的一側設置有加熱機構(7)，所述釜體(1)內部的一側安裝有清潔桿(8)，且清潔桿(8)一側的外壁上安裝有清潔刷(9)。

2.根據權利要求1所述的用于解決加氫反應釜、氫氣分布器及氣源管堵塞的裝置，其特征在于：所述支撐腿(2)在釜體(1)底端的一側設置有兩組，所述支撐腿(2)關于釜體(1)的垂直中軸線對稱分布。

3.根據權利要求1所述的用于解決加氫反應釜、氫氣分布器及氣源管堵塞的裝置，其特征在于：所述注水管(4)為橫向U形設計，且注水管(4)在集水箱(3)內部的一側設置有兩組。

4.根據權利要求1所述的用于解決加氫反應釜、氫氣分布器及氣源管堵塞的裝置，其特征在于：所述攪拌葉(604)在攪拌軸(603)表面的一側設置有若干個，所述攪拌葉(604)在攪拌軸(603)表面的一側等間距陣列分布。

5.根據權利要求1所述的用于解決加氫反應釜、氫氣分布器及氣源管堵塞的裝置，其特征在于：所述螺旋葉片(607)在攪拌軸(603)表面的一側以攪拌軸(603)為圓心呈螺旋分布，所述螺旋葉片(607)和攪拌軸(603)構成螺旋結構。

6.根據權利要求1所述的用于解決加氫反應釜、氫氣分布器及氣源管堵塞的裝置，其特征在于：所述加熱機構(7)包括安裝槽(701)、加熱腔(702)以及加熱絲(703)，所述安裝槽(701)設置于釜體(1)表面的一側，所述安裝槽(701)內部的一側設置有加熱腔(702)，且加熱腔(702)內部的一側安裝有加熱絲(703)。