[實用新型]半導體生產設備的噴淋部件的洗凈浸泡治具有效
| 申請號: | 202022862827.7 | 申請日: | 2020-12-03 |
| 公開(公告)號: | CN214263143U | 公開(公告)日: | 2021-09-24 |
| 發明(設計)人: | 王云鵬;賀賢漢;周毅;王成明 | 申請(專利權)人: | 上海富樂德智能科技發展有限公司 |
| 主分類號: | B08B13/00 | 分類號: | B08B13/00;B08B3/04 |
| 代理公司: | 上海申浩律師事務所 31280 | 代理人: | 趙建敏 |
| 地址: | 200444 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體 生產 設備 噴淋 部件 洗凈 浸泡 | ||
1.半導體生產設備的噴淋部件的洗凈浸泡治具,其特征在于,包括一支撐架,所述支撐架包括一支撐面板,所述支撐面板的上表面用于支撐待浸泡工件,所述支撐面板呈圓環形;
所述支撐架還包括至少三個周向排布的支撐腳,所述支撐腳固定在所述支撐面板的外邊緣,所述支撐腳的頂部設有向上延伸的突起,所述突起高于所述支撐面板的上表面;
所述支撐腳的底部開設有用于嵌入所述突起的插槽。
2.根據權利要求1所述的半導體生產設備的噴淋部件的洗凈浸泡治具,其特征在于:所述突起的橫截面呈長方形。
3.根據權利要求1所述的半導體生產設備的噴淋部件的洗凈浸泡治具,其特征在于:兩個支撐架上下堆疊時,位于上方的支撐架的支撐腳與位于下方的支撐架的支撐腳旋轉卡接。
4.根據權利要求3所述的半導體生產設備的噴淋部件的洗凈浸泡治具,其特征在于:所述突起包括弧形定位主體以及弧形定位主體的內側向內延伸的限位塊;
所述插槽包括用于引導弧形定位主體周向轉動的定位部以及用于引導限位塊周向轉動的弧形引導部,所述定位部周向上的兩端均向外導通,所述定位部與所述弧形引導部導通。
5.根據權利要求1所述的半導體生產設備的噴淋部件的洗凈浸泡治具,其特征在于:所述支撐面板上設有向上延伸的弧形突起,以所述弧形突起的內側區域為用于擺放待浸泡工件的擺放區域。
6.根據權利要求1所述的半導體生產設備的噴淋部件的洗凈浸泡治具,其特征在于:兩個支撐架上下堆疊時,位于上方的支撐架的支撐腳與位于下方的支撐架的支撐腳之間存有用于待浸泡工件外邊緣軸向限位的間隙。
7.根據權利要求1所述的半導體生產設備的噴淋部件的洗凈浸泡治具,其特征在于:所述支撐架的材質是聚丙烯。
8.根據權利要求1所述的半導體生產設備的噴淋部件的洗凈浸泡治具,其特征在于:所述支撐面板上開設有滲水孔。
9.根據權利要求1所述的半導體生產設備的噴淋部件的洗凈浸泡治具,其特征在于:所述支撐面板的內徑與外徑的差值為1cm-2cm。
10.根據權利要求1所述的半導體生產設備的噴淋部件的洗凈浸泡治具,其特征在于:所述支撐腳是一可伸縮的支撐腳,所述支撐腳包括一螺紋連接的內管以及外管,所述外管的頂部固定有所述突起,所述外管與所述支撐面板固定連接;
所述內管的底部固定連接有一支撐塊,所述支撐塊上開設有所述插槽;
所述內管以及所述外管上均設有一豎直設置的基準線,
當內管上的基準線與外管上的基準線對位時,突起與插槽上下對位。
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