[實用新型]成像結構和頭戴顯示設備有效
| 申請號: | 202022382932.0 | 申請日: | 2020-10-22 |
| 公開(公告)號: | CN212846157U | 公開(公告)日: | 2021-03-30 |
| 發明(設計)人: | 史柴源;楊春;宋文寶 | 申請(專利權)人: | 青島歌爾聲學科技有限公司 |
| 主分類號: | G02B27/01 | 分類號: | G02B27/01 |
| 代理公司: | 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 44287 | 代理人: | 梁馨怡 |
| 地址: | 266000 山東省青島市嶗山區秦*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 成像 結構 顯示 設備 | ||
本實用新型公開了一種成像結構和頭戴顯示設備,所述成像結構包括:顯示屏幕、第一成像透鏡和第二成像透鏡,所述顯示屏幕用于發射圓偏振的成像光線;所述第一成像透鏡設于所述成像光線的出射方向;所述第二成像透鏡設于所述第一成像透鏡背離所述顯示屏幕的一側的光路中,所述第一成像透鏡的入光面設置半反半透膜,所述第二成像透鏡的入光面設置四分之一波片和偏振反射膜,所述四分之一波片和所述偏振反射膜沿所述成像光線的出射方向依次設置,所述第一成像透鏡的入光面和出光面至少其中之一為非球面,所述第二透鏡的出光面為非球面。本實用新型的技術方案能夠減少顯示圖像畸變的同時,還能夠避免功耗的增加。
技術領域
本實用新型涉及光學顯示技術領域,尤其涉及一種成像結構和頭戴顯示設備。
背景技術
頭戴顯示設備是一種能夠使用戶獲得身臨其境的感官體驗的電子設備,隨著技術的進步,頭戴顯示設備的體積越來越小。在頭戴顯示設備進行畫面顯示時,需要將小圖像放大傳遞,在這個過程中易導致圖像出現畸變。為此,需要對顯示圖像進行校正處理,減少顯示圖像的畸變。但是在對顯示圖像進行校正處理時,導致了系統的功耗增加。
實用新型內容
基于此,針對顯示圖像進行校正處理,導致了系統的功耗增加的問題,有必要提供一種成像結構和頭戴顯示設備,旨在能夠減少顯示圖像畸變的同時,還能夠避免功耗的增加。
為實現上述目的,本實用新型提出的一種成像結構,所述成像結構包括:
顯示屏幕,所述顯示屏幕用于發射圓偏振的成像光線;
第一成像透鏡,所述第一成像透鏡設于所述成像光線的出射方向;以及
第二成像透鏡,所述第二成像透鏡設于所述第一成像透鏡背離所述顯示屏幕的一側的光路中,所述第一成像透鏡的入光面設置半反半透膜,所述第二成像透鏡的入光面設置四分之一波片和偏振反射膜,所述四分之一波片和所述偏振反射膜沿所述成像光線的出射方向依次設置,所述第一成像透鏡的入光面和出光面至少其中之一為非球面,所述第二成像透鏡的出光面為非球面。
可選地,所述成像結構還包括偏振膜,所述偏振膜設于所述第二成像透鏡的入光面和所述偏振反射膜之間。
可選地,所述成像結構還包括增透膜,所述第一成像透鏡的出光面和所述第二成像透鏡的出光面至少其中之一設置所述增透膜。
可選地,所述第一成像透鏡的入光面和出光面均為非球面,所述第一成像透鏡的入光面和出光面均向所述顯示屏幕凸起,所述第二成像透鏡的入光面為平面。
可選地,所述成像結構還包括移動部件,所述第一成像透鏡設于所述移動部件,所述移動部件帶動所述第一成像透鏡在所述顯示屏幕和所述第二成像透鏡之間的光路移動。
可選地,所述成像結構的厚度為L,則滿足關系:L<30mm。
可選地,所述第一成像透鏡的光焦度為所述第一成像透鏡的折射率為n1,所述第一成像透鏡的色散系數為V1,所述第一成像透鏡的厚度為D1,則滿足關系:1.45<n1<1.60,50<V1<75,2mm<D1<8mm。
可選地,所述第二成像透鏡的光焦度為所述第二成像透鏡的折射率為n2,所述第二成像透鏡的色散系數為V2,所述第二成像透鏡的厚度為D2,則滿足關系:1.45<n2<1.60,50<V2<75,2mm<D2<8mm。
可選地,所述第一成像透鏡的出光面與所述第二成像透鏡的入光面之間的距離為T,則滿足關系:5mm<T<20mm。
此外,為了解決上述問題,本實用新型還提供一種頭戴顯示設備,所述頭戴顯示設備包括殼體和如上文所述成像結構,所述成像結構設于所述殼體。
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