[實用新型]烘烤支架

有效

• 申請號: 202022246834.4
• 申請日: 2020-10-10
• 公開（公告）號: CN213208676U
• 公開（公告）日: 2021-05-14
• 發明（設計）人: 蘭鵬國
• 申請（專利權）人: 蘇州尚勤光電科技有限公司
• 主分類號: F27D5/00
• 分類號: F27D5/00
• 代理公司: 無錫市匯誠永信專利代理事務所(普通合伙) 32260
• 代理人: 許云峰

本實用新型公開了一種烘烤支架，包括支架主體，所述支架主體的下端設有用于支撐的連接桿；所述支架主體的上端等距間隔分布有若干個放置槽，所述放置槽上具有供部件放置的搭接面，所述搭接面為一傾斜向下的斜面，使放置槽的橫截面呈上大下小結構。能放置不同規格的部件，通用性強，等距放置的放置槽，為部件烘烤時提供了足夠的通道，部件表面被高溫分解物質及時帶離，增加清潔效率的同時節約電能、氣體等資源。

技術領域

本實用新型涉及一種清潔輔助工具，用于MOCVD反應器內的部件清潔，尤其涉及一種石墨大盤、ceiling、cover segment放置的烘烤支架。

背景技術

MOCVD外延薄膜沉積工藝結束后反應腔內的石墨大盤、ceiling(天花板)、coversegment(覆蓋件)等需要進行烘烤以保障反應腔內潔凈度。目前，大部分MOCVD用戶采用爐內烘烤，即在反應腔內進行高溫烘烤，沉積物的分解速率會隨著溫度升高而加快，當溫度高于1100℃左右時候沉積物的分解速率將會加快，但是由于MOCVD反應腔內溫度只能升至1100℃左右，所以烘烤后的潔凈度并不高。部分客戶采用爐外烘烤工藝，需要將石墨大盤、天花板、覆蓋件等放在爐外的烘烤爐內進行烘烤，但目前的爐外烘烤針對單個部件進行烘烤，沒有通用支架同時承載石墨大盤、天花板、覆蓋件，導致資源分配不合理，效率低下。

實用新型內容

為克服上述缺點，本實用新型的目的在于提供一種烘烤支架，用于爐外烘烤，可用時放置石墨大盤、天花板、覆蓋件三款部件，提高爐外烘烤效率。

為了達到以上目的，本實用新型采用的技術方案是：一種烘烤支架，包括支架主體，所述支架主體的下端設有用于支撐的連接桿；所述支架主體的上端等距間隔分布有若干個放置槽，所述放置槽上具有供部件放置的搭接面，所述搭接面為一傾斜向下的斜面，使放置槽的橫截面呈上大下小結構。

進一步來說，所述放置槽的橫截面為等腰梯形結構。

進一步來說，所述放置槽的兩側斜面坡度介于45°～60°。

進一步來說，相鄰兩個所述放置槽之間的間距為20mm。

進一步來說，所述放置槽包括放置石墨大盤的第一放置槽、放置天花板的第二放置槽和放置覆蓋件的第三放置槽。

進一步來說，所述第一放置槽的數量為三個，分別放置在支架主體左中右三個方位；相鄰兩個所述第一放置槽之間分別放置有一個第二放置槽和一個第三放置槽。

該支架根據石墨大盤、天花板、覆蓋件三種部件的實際尺寸進行設計，可同時承載3片大盤，2片天花板，2片覆蓋件，有效解決了同時烘烤不同部件，增加了烘烤爐的清潔效率，節約了電能，氣體等資源。

與現有技術相比，本實用新型能放置不同規格的部件，通用性強，等距放置的放置槽，為部件烘烤時提供了足夠的通道，部件表面被高溫分解物質及時帶離，增加清潔效率的同時節約電能、氣體等資源。

附圖說明

圖1為本實用新型實施例的俯視結構示意圖。

圖2為圖1中沿A－A方向的剖視圖。

圖3為本實用新型實施例中放置槽的剖視圖。

圖中：

1－支架主體；2－第一放置槽；3－第二放置槽；4－第三放置槽。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型的較佳實施例進行詳細闡述，以使本實用新型的優點和特征能更易于被本領域技術人員理解，從而對本實用新型的保護范圍做出更為清楚明確的界定。

實施例