[實用新型]流體流動控制設備和用于流體流動控制設備的閥內件

有效

• 申請號: 202022220477.4
• 申請日: 2020-09-30
• 公開（公告）號: CN213512098U
• 公開（公告）日: 2021-06-22
• 發明（設計）人: K·R·巴榮;D·J·艾勒斯
• 申請（專利權）人: 費希爾控制產品國際有限公司
• 主分類號: F16K1/00
• 分類號: F16K1/00;F16K1/32;F16K1/36;F16K1/42;F16K1/54;F16K31/12
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 丁燕

一種流體流動控制設備和用于流體流動控制設備的閥內件。閥內件包括由外閥籠壁和耦接到外閥籠壁的內閥籠壁限定的閥籠本體，外閥籠壁從內閥籠壁徑向向外間隔開。閥內件還包括形成在外閥籠壁中的多個第一流動特征通路，以及形成在內閥籠壁中的多個第二流動特征通路。閥籠本體至少部分地由抗腐蝕材料制成。

相關申請的交叉引用

本申請要求2019年10月2日提交的美國臨時申請號62/909,660和2019 年10月1日提交的美國臨時申請號62/909,164的優先權。這些申請中的每一個的全部公開內容通過引用并入本文。

技術領域

本公開內容總體上涉及流體減壓設備，并且更具體而言，涉及用于流體流動控制設備的抗腐蝕的閥內件。

背景技術

在過程控制系統中(諸如通常在化學、石油、發電或其它工業過程中發現的分布式或可擴展過程控制系統中)，通常有必要降低流體的壓力。在一些情況下，必須顯著地降低流體壓力。在需要相對較高的壓降的情況下，壓降比(壓力變化除以入口壓力)可能會很高。

一般而言，壓降通常引起不想要的噪聲和/或振動的增加的水平。在具有相對較高的壓降比的應用中，這些問題可能甚至更加明顯。為了防止或至少減少噪聲和振動，過程系統經常使用限流設備以減小壓降比并也減小流體壓力。這種限流設備包括例如閥內件、擴散器和消音器。

然而，已知的閥內件通常由高度易受高壓降和由于流經其中的流體引起的腐蝕的材料制成。當這些閥內件用于臟的服務應用(即，涉及嚴酷流動條件的應用，例如其中流體變臟的煉油廠的催化劑細粉、發電廠的磁鐵礦、石油生產中的砂子)時尤其如此。實際上，當流過這些閥內件中的一個閥內件的流體變臟(例如，包括微粒)時，該流體趨于迅速腐蝕閥內件。繼而，需要頻繁的維護，這可能是相當昂貴的并且可能需要關閉過程控制系統(或其一部分)。

實用新型內容

根據本實用新型的一個示例性方面，提供了一種用于流體流動控制設備的閥內件。所述閥內件包括具有第一端和與所述第一端相對的第二端的閥籠本體。所述閥籠本體由外閥籠壁和耦接到所述外閥籠壁的內閥籠壁限定，所述外閥籠壁從所述內閥籠壁徑向向外間隔開。所述閥內件還包括流體減壓部分。所述流體減壓部分包括形成在所述外閥籠壁中的多個第一流動特征通路和形成在所述內閥籠壁中的多個第二流動特征通路。所述閥內件還包括由所述閥籠本體承載的閥座，所述閥座鄰近所述閥籠本體的所述第二端但在所述閥籠本體的所述第二端的上游，使得所述閥座與流體減壓部分隔離。

根據本實用新型的另一個示例性方面，提供了一種用于流體流動控制設備的閥內件。所述閥內件包括由外閥籠壁和耦接到所述外閥籠壁的內閥籠壁限定的閥籠本體，所述外閥籠壁從所述內閥籠壁徑向向外間隔開。所述閥內件還包括形成在所述外閥籠壁中的多個第一流動特征通路，以及形成在所述內閥籠壁中的多個第二流動特征通路。所述閥籠本體至少部分地由抗腐蝕材料制成。

根據本實用新型的另一個示例性方面，提供了一種流體流動控制設備。所述流體流動控制設備包括閥本體，所述閥本體包括閥本體入口、閥本體出口以及在所述閥本體入口與所述閥本體出口之間延伸的通道。所述流體流動控制設備還包括至少部分地設置在所述閥本體的所述通道中的閥內件。所述閥內件包括由外閥籠壁和耦接到所述外閥籠壁的內閥籠壁限定的閥籠本體，所述外閥籠壁從所述內閥籠壁徑向向外間隔開。所述閥內件還包括形成在所述外閥籠壁中的多個第一流動特征通路，以及形成在所述內閥籠壁中的多個第二流動特征通路。所述閥籠本體至少部分地由抗腐蝕材料制成。

根據本實用新型的另一個示例性方面，提供了一種制造用于流體流動控制設備的閥內件的方法。所述方法包括使用增材制造技術來生成外閥籠元件，所述外閥籠元件包括多個第一流動特征通路。所述方法還包括使用增材制造技術來生成內閥籠元件，所述內籠元件由抗腐蝕材料形成并且包括多個第二流動特征通路。所述方法還包括將所述外閥籠元件耦接到所述內閥籠元件，從而形成閥籠本體，所述閥籠本體具有由所述外閥籠元件限定的外壁和由所述內閥籠元件限定的內壁。