[實用新型]一種靶材環(huán)件安裝結構有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202022163348.6 | 申請日: | 2020-09-27 |
| 公開(公告)號: | CN213895982U | 公開(公告)日: | 2021-08-06 |
| 發(fā)明(設計)人: | 姚力軍;邊逸軍;潘杰;王學澤;馮周瑜 | 申請(專利權)人: | 寧波江豐電子材料股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34 |
| 代理公司: | 北京遠智匯知識產(chǎn)權代理有限公司 11659 | 代理人: | 王巖 |
| 地址: | 315400 浙江省寧波市*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 靶材環(huán)件 安裝 結構 | ||
本實用新型提供了一種靶材環(huán)件安裝結構,所述安裝結構包括環(huán)件本體、環(huán)件本體配件、內配合組件、外配合組件、固定件和濺射設備配件,所述濺射設備配件環(huán)繞設置于環(huán)件本體的外側,其上設有通孔;內配合組件一端與環(huán)件本體配件接觸,另一端呈凹陷結構,外配合組件的一端呈凸出結構,所述凸出結構穿過濺射設備配件的通孔與內配合組件中凹陷結構組合;所述內、外配合組件為貫穿空心結構,固定件貫穿內、外配合組件將兩者固定。本實用新型通過靶材環(huán)件安裝結構中內、外配合組件結構的改變,使之能夠適用于多種類靶材環(huán)件的安裝使用,避免因環(huán)件尺寸變化而難以安裝的問題;所述安裝結構改進方式簡單,無需進行大的結構變化,成本較低,適用性廣。
技術領域
本實用新型屬于靶材制備技術領域,涉及一種靶材環(huán)件安裝結構。
背景技術
隨著半導體行業(yè)的快速發(fā)展,鍍膜材料作為半導體電子器件制造的重要材料,其需求量也日益增加,而鍍膜材料的主要制備方法為物理氣相沉積法,其重要的制備原料為靶材,因此靶材的高效利用是制備高性能薄膜材料的重要影響因素。
在半導體鍍膜生產(chǎn)過程中,為了提高鍍膜的均勻性,通常會使用一些環(huán)件結構來配合靶材一起使用,而環(huán)件結構的固定與安裝對靶材的后續(xù)使用具有重要的影響,需要采用相應的安裝配件將其固定;但目前使用的環(huán)件安裝結構受環(huán)件尺寸的影響較大,一旦環(huán)件尺寸變化,可能會造成環(huán)件與安裝結構本體不匹配,進而影響靶材環(huán)件的穩(wěn)定性。
目前,對于靶材環(huán)件的制備多有涉及,但對于其安裝過程中各組件的配合卻涉及較少。CN 107904563A公開了一種大晶粒低硬度濺射鈦環(huán)的制備方法,包括提供高純鈦錠、第一次熱處理、熱墩、冷軋、第二次熱處理、切割、卷圓、第三次熱處理,通過對鈦錠進行熱處理配合變形獲得大晶粒低硬度濺射鈦環(huán);該濺射鈦環(huán)的端口呈正S形,該方法主要介紹了濺射鈦環(huán)的制備,并未明確其安裝結構以及如何進行安裝。
CN 108149204A公開了一種長壽命的環(huán)件結構,安裝于濺射設備內且環(huán)繞濺射靶材,所述環(huán)件結構包括:環(huán)件本體,包括朝向濺射靶材的內壁以及與內壁相對的外壁;固定于外壁上的安裝配件,用于將環(huán)件本體安裝于濺射設備內,安裝配件包括連接部,連接部用于固定于濺射設備內。由于所述連接部未凸出于環(huán)件本體內壁,不會參與濺射工藝,延長了換件結構的使用壽命,但該環(huán)件結構并未涉及到連接部與固定件位置關系的設置,對于環(huán)件增厚時,因尺寸變化連接部無法與固定件配合,如何進行改進也未提及。
綜上所述,對于靶材環(huán)件的安裝,需要對安裝配件的結構進行調整,以適應環(huán)件尺寸變化時與安裝鍋本體的位置關系,降低安裝的難度。
實用新型內容
針對現(xiàn)有技術存在的問題,本實用新型的目的在于提供一種靶材環(huán)件安裝結構,所述安裝結構能夠將靶材環(huán)件固定于濺射設備內,通過安裝組件結構的改變,可以在濺射設備配件尺寸不變的條件下增加環(huán)件的厚度,使之能夠適用于多種類的靶材環(huán)件的安裝使用,避免了因環(huán)件尺寸變化而難以安裝的問題。
為達此目的,本實用新型采用以下技術方案:
本實用新型提供了一種靶材環(huán)件安裝結構,所述安裝結構包括環(huán)件本體、環(huán)件本體配件、內配合組件、外配合組件、固定件和濺射設備配件,所述環(huán)件本體配件固定于環(huán)件本體的外壁上,所述濺射設備配件環(huán)繞設置于環(huán)件本體的外側,所述濺射設備配件上設有通孔;
所述內配合組件設置于環(huán)件本體配件與濺射設備配件之間,一端與環(huán)件本體配件接觸,另一端呈凹陷結構,不超過濺射設備配件上的通孔,所述外配合組件的一端呈凸出結構,所述凸出結構穿過濺射設備配件的通孔與內配合組件中凹陷結構的一端組合;
所述內配合組件和外配合組件均為貫穿空心結構,所述固定件貫穿內配合組件和外配合組件將兩者固定。
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





