[實(shí)用新型]一種微波激發(fā)式PVD鍍膜設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202021984853.0
• 申請(qǐng)日: 2020-09-11
• 公開（公告）號(hào): CN213232474U
• 公開（公告）日: 2021-05-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張紅星;張小健;樊天柱
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 昆山市正行電子科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/34
• 分類號(hào): C23C14/34
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實(shí)用新型公開了一種微波激發(fā)式PVD鍍膜設(shè)備，涉及PVD鍍膜領(lǐng)域，包括裝置主體，裝置主體的兩側(cè)固定有冷卻箱，裝置主體與冷卻箱之間連接有出氣管，冷卻箱的頂部安裝有真空泵，真空泵的輸出端連接有輸氣管，輸氣管的頂端固定有變向閥，變向閥的一側(cè)連接有排氣管。本實(shí)用新型通過設(shè)置有電機(jī)、第一隔板、第二隔板、旋轉(zhuǎn)桿和連桿，當(dāng)使用者需要使用該裝置時(shí)，使用者將密封門打開，然后使用者將需要鍍膜的物料掛在連桿上，將物料掛滿后使用者件密封門關(guān)閉，然后使用者通過操作面板啟動(dòng)電機(jī)工作，電機(jī)帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)桿轉(zhuǎn)動(dòng)，旋轉(zhuǎn)桿帶動(dòng)連桿轉(zhuǎn)動(dòng)，從而避免了裝置無法對(duì)物料進(jìn)行多個(gè)面進(jìn)行鍍膜，且提高了裝置的工作效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及PVD鍍膜領(lǐng)域，具體為一種微波激發(fā)式PVD鍍膜設(shè)備。

背景技術(shù)

物理氣相沉積(英文：Physical Vapor Deposition，簡(jiǎn)稱PVD)是一種工業(yè)制造上的工藝，即真空鍍膜，多用在鈑金件、蝕刻件、擠壓件、金屬射出成型(MIM)、粉末射出成型(PIM)、機(jī)加件、焊接件等零件的工藝上。物理氣相沉積法是利用高溫?zé)嵩磳⒃霞訜嶂粮邷兀怪畾饣蛐纬傻入x子體，然后在基體(即待鍍膜材料)上冷卻凝聚成各種形態(tài)的材料(如單晶、薄膜、晶粒等)。

根據(jù)公開號(hào)為CN203128646U的中國(guó)專利公開了一種微波激發(fā)式PVD鍍膜設(shè)備，包括殼體及靶材，還包括具有微波發(fā)射喇叭的微波發(fā)生器。

該實(shí)用新型中，通過設(shè)置有鍍膜材料表面平行移動(dòng)的移動(dòng)裝置，解決了鍍膜時(shí)溫度不均勻的問題；但該裝置在使用的過程中，裝置使用自然風(fēng)進(jìn)行冷卻，裝置冷卻緩慢，從而導(dǎo)致使用者需等待大量時(shí)間才能夠?qū)⑽锪先〕觯以撗b置在使用的過程中，蒸發(fā)的靶材會(huì)漂浮在裝置內(nèi)使用者取出物料取出時(shí)會(huì)將其帶出，進(jìn)而導(dǎo)致使用者將氣化的靶材吸入，導(dǎo)致使用者出現(xiàn)肺部疾病；同時(shí)該裝置在使用的過程中，該裝置只能對(duì)一塊板的單面進(jìn)行鍍膜，從而使得裝置的使用效率低，只能對(duì)同一型號(hào)的板材進(jìn)行鍍膜，從而使的使用者對(duì)其他型號(hào)的物料進(jìn)行鍍膜時(shí)，就需要更換裝置，進(jìn)而導(dǎo)致該裝置無法使用。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于；為了解決該裝置降溫速度慢和裝置對(duì)物料鍍膜效率慢的問題，提供一種微波激發(fā)式PVD鍍膜設(shè)備。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案；一種微波激發(fā)式PVD 鍍膜設(shè)備，包括裝置主體，所述裝置主體的兩側(cè)固定有冷卻箱，所述裝置主體與冷卻箱之間連接有出氣管，所述冷卻箱的頂部安裝有真空泵，所述真空泵的輸出端連接有輸氣管，所述輸氣管的頂端固定有變向閥，所述變向閥的一側(cè)連接有排氣管，所述變向閥的另一端連接有延伸至裝置主體內(nèi)部的進(jìn)氣管，所述裝置主體的內(nèi)部下方固定有擋板，所述裝置主體的內(nèi)部固定有固定桿，所述固定桿的外表面固定有靶材，所述裝置主體的，所述裝置主體的頂部安裝有電機(jī)，所述電機(jī)的輸出端連接有旋轉(zhuǎn)桿，所述旋轉(zhuǎn)桿，的外表面上方與下方均固定有第一隔板，所述兩個(gè)第一隔板之間固定有連桿，所述裝置主體的背部安裝有微波發(fā)射器，所述微波發(fā)射器的輸出端連接有延伸至裝置主體內(nèi)部的導(dǎo)管，所述裝置主體的外表面通過轉(zhuǎn)軸連接有密封門。

優(yōu)選地，所述裝置主體的外表面有操作面板，且所述操作面板與真空泵、電機(jī)、微波發(fā)射器和變向閥電性連接。

優(yōu)選地，所述出氣管的一端沿冷卻箱的縱軸中心線向下傾斜。

優(yōu)選地，所述擋板與裝置主體均采用金屬制造而成，且所述擋板與裝置主體的內(nèi)部光滑。

優(yōu)選地，所述裝置主體與第二隔板通過軸承箱連接，且所述裝置主體與第二隔板相接觸的面套有密封圈。

優(yōu)選地，所述連桿設(shè)置有六個(gè)，且六個(gè)所述連桿呈環(huán)形陣列狀分布在兩個(gè)第一隔板之間。

優(yōu)選地所述冷卻箱設(shè)置有兩個(gè)，且所述兩個(gè)冷卻箱沿裝置主體的縱軸中心線對(duì)稱設(shè)置。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是；