[實用新型]一種分體式烹飪器具

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202021800715.2
• 申請日: 2020-08-25
• 公開（公告）號: CN213371334U
• 公開（公告）日: 2021-06-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 朱澤春;崔瑞
• 申請（專利權(quán)）人: 杭州九陽小家電有限公司
• 主分類號: A47J27/00
• 分類號: A47J27/00;A47J36/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種分體式烹飪器具，包括鍋體和可取放地置于所述鍋體的鍋蓋；所述鍋蓋包括蓋體，所述蓋體設(shè)有上耦合器；所述鍋體設(shè)有能與所述上耦合器耦合的下耦合器，以及與所述上耦合器或所述下耦合器適配以供所述上、下耦合器耦合的通孔，所述鍋體內(nèi)設(shè)有電路板，所述鍋體內(nèi)還設(shè)有位于所述下耦合器下方的引流件，所述引流件具有用于盛接沿所述通孔和所述下耦合器流下的液體的承接部，且所述引流件遠(yuǎn)離所述電路板的一端設(shè)有排出端，由所述承接部進入所述引流件的液體經(jīng)所述排出端排出。引流件的設(shè)置，避免了液體直接滴落在鍋體內(nèi)電氣元件上而導(dǎo)致電氣元件受損進而影響烹飪器具使用的問題的發(fā)生，提高所述烹飪器具使用的穩(wěn)定性及其使用壽命。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型屬于廚房電器技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種分體式烹飪器具。

背景技術(shù)

目前，隨著社會的發(fā)展和科技的進步，市場上涌現(xiàn)出越來越多的廚房電器產(chǎn)品。對于分體式烹飪器具而言，鍋體和鍋蓋相互分離，兩者之間無法采用有線連接的方式實現(xiàn)鍋蓋與鍋體的電信號連通。為解決該技術(shù)問題，可以通過耦合器使分體式壓力烹飪器具的鍋體和鍋蓋實現(xiàn)電信號連通，設(shè)置在鍋蓋的耦合器稱為上耦合器，設(shè)置在鍋體上的耦合器稱為下耦合器。

傳統(tǒng)的分體式烹飪器具中，鍋體上開設(shè)有安裝下耦合器的通孔，在用戶的日常使用中，烹飪時溢出的湯汁、蒸汽凝結(jié)產(chǎn)生的液流以及清洗時的清洗劑和水都可能在鍋體處積聚后沿著該通孔和下耦合器的外壁以及耦合器連接線滲出流到所述分體式烹飪器具內(nèi)部，甚至直接滴落在所述分體式烹飪器具內(nèi)部的電氣元件(如電路板等)上而引起電氣元件短路等故障的發(fā)生，影響所述電氣元件使用的穩(wěn)定性和使用壽命，進而影響到所述分體式烹飪器具整體的使用穩(wěn)定性和使用壽命。

由此可見，現(xiàn)有技術(shù)有待于進一步的改進和提高。

實用新型內(nèi)容

本實用新型提供了一種鍋蓋組件及烹飪器具，以解決上述技術(shù)問題中的至少一個技術(shù)問題。

本實用新型所采用的技術(shù)方案為：

本實用新型公開了一種分體式烹飪器具，包括鍋體和可取放地置于所述鍋體的鍋蓋；所述鍋蓋包括蓋體，所述蓋體設(shè)置有上耦合器；所述鍋體設(shè)置有能夠與所述上耦合器耦合的下耦合器，以及與所述上耦合器或所述下耦合器適配以供所述上耦合器和所述下耦合器耦合的通孔，所述鍋體內(nèi)還設(shè)置有電路板，所述鍋體內(nèi)還設(shè)置有位于所述下耦合器下方的引流件，所述鍋體內(nèi)還設(shè)置有位于所述下耦合器下方的引流件，所述引流件具有用于盛接沿所述通孔和所述下耦合器流下的液體的承接部，且所述引流件遠(yuǎn)離所述電路板的一端設(shè)置有排出端，經(jīng)所述承接部進入所述引流件的液體經(jīng)所述排出端排出。

本實用新型中的分體式烹飪器具還具有下述附加特征：

所述鍋體還包括操作面板以及設(shè)置于所述鍋體內(nèi)且與所述操作面板毗鄰的面板后蓋，所述面板后蓋與所述電路板之間具有分隔間隙；

所述排出端抵近所述面板后蓋，自所述排出端流出的液體沿所述面板后蓋流動。

所述鍋體還包括底座，所述底座設(shè)有排液口，進入所述鍋體的液體自所述排液口排出所述鍋體，且所述底座的底部設(shè)有支腳，以在排液口與支腳底面之間形成排液空間。

所述下耦合器及所述通孔的水平方向的投影落在所述承接部當(dāng)中。

所述承接部具有所述排出端相對的封閉端；

所述承接部設(shè)置有在所述排出端和所述封閉端之間延伸的引線槽，所述引線槽具有供引線穿出的引線出口，所述引線槽的底壁為第一斜面，且所述引線出口設(shè)置于所述斜面的高位位置處。

所述承接部還設(shè)置有在所述排出端和所述封閉端之間延伸的引流槽，所述引流槽的底壁為第二斜面，且所述封閉端位于所述第二斜面的高位位置處；

且所述第一斜面的最高位位置的位置高度不低于所述第二斜面的最低位位置的位置高度。