[實用新型]一種壓差開關、氣體控制箱和半導體處理設備

有效

• 申請號: 202021574414.2
• 申請日: 2020-07-31
• 公開（公告）號: CN213184199U
• 公開（公告）日: 2021-05-11
• 發明（設計）人: 江家瑋;王治平
• 申請（專利權）人: 中微半導體設備（上海）股份有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H01L21/67;G01L11/00
• 代理公司: 深圳中創智財知識產權代理有限公司 44553
• 代理人: 文言;田宇

1.一種壓差開關，其特征在于，包括：

至少兩個壓力探測機構，其中一個用于探測第一環境中的壓力，另外一個用于探測第二環境中的壓力；

壓力波動阻尼器，置于至少一個所述壓力探測機構中，用于過濾短暫的壓力波動。

2.根據權利要求1所述的壓差開關，其特征在于，部分的所述壓力探測機構中設置所述壓力波動阻尼器。

3.根據權利要求1所述的壓差開關，其特征在于，全部的壓力探測機構中均設置所述壓力波動阻尼器。

4.根據權利要求1所述的壓差開關，其特征在于，所述壓力波動阻尼器為多孔結構的零件。

5.根據權利要求4所述的壓差開關，其特征在于，所述多孔結構的零件的孔隙率范圍為10％至95％。

6.根據權利要求4所述的壓差開關，其特征在于，所述多孔結構的零件的材料包括泡棉或陶瓷中的至少一種。

7.根據權利要求4所述的壓差開關，其特征在于，所述多孔結構零件的長度范圍為所述壓力探測機構的管徑的一倍至填滿整個所述壓力探測機構。

8.根據權利要求1所述的壓差開關，其特征在于，所述壓差開關為膜片式的壓差開關或不帶有過濾波動的壓差開關中的一種。

9.一種氣體控制箱，其特征在于，包括：

氣箱，其包括進氣口和出氣口，所述出氣口與排氣管道連接；

如權利要求1至權利要求8任一項所述壓差開關，其中一個壓力探測機構連接到所述排氣管道內，另一個所述壓力探測機構放置在外界大氣中。

10.根據權利要求9所述的一種氣體控制箱，其特征在于，所述排氣管道為負壓管道。

11.根據權利要求9所述的一種氣體控制箱，其特征在于，所述排氣管道為正壓管道。

12.一種半導體處理設備，其特征在于，包括：

反應腔；

如權利要求9至權利要求11任一項所述氣體控制箱；

氣體輸送管道，其一端與所述氣體控制箱連接，另一端與所述反應腔連接，用于向所述反應腔內輸送氣體。

13.根據權利要求12所述的一種半導體處理設備，其特征在于，所述半導體處理設備為等離子體刻蝕設備。