[實用新型]鍍膜設備

有效

• 申請號: 202021509116.5
• 申請日: 2020-07-27
• 公開（公告）號: CN213417009U
• 公開（公告）日: 2021-06-11
• 發明（設計）人: 宗堅
• 申請（專利權）人: 江蘇菲沃泰納米科技股份有限公司
• 主分類號: C23C16/50
• 分類號: C23C16/50;C23C16/455
• 代理公司: 寧波理文知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 33244
• 代理人: 羅京;王麗芳

本實用新型公開一鍍膜設備，其中所述鍍膜設備包括一鍍膜裝置和一原料氣化裝置，所述鍍膜設備用于通過等離體子氣相沉積的方式形成膜層，所述原料氣化裝置包括：一第一級氣化部件，所述第一級氣化部件用于將送入的原料進行初級氣化；一第二級氣化部件，所述第二級氣化部件用于將第一級氣化部件初級氣化后的原料進一步氣化；和一進料控制部，其中所述進料控制部用于送入需要被氣化的原料，所述進料控制部控制地連通所述第一級氣化部件，由此提高原料的氣化效率。

技術領域

本實用新型涉及鍍膜、涂層技術領域，更進一步，涉及一原料氣化裝置和鍍膜設備，所述原料氣化裝置為鍍膜、涂層設備提供蒸氣原料。

背景技術

等離子體鍍膜技術由于其具有成膜質量好等眾多優勢，被廣泛應用于航空航天、汽車制造、機械重工以及五金工具制造等眾多領域。近些年來，尤其智能觸屏手機等各種電子設備的快速發展，等離子體鍍膜技術也被逐漸應用于電子設備領域，并且產生良好的效果。

在進行等離子體鍍膜工藝時，需要通過一氣化設備將液相的反應原料氣化后送入鍍膜裝置，舉例地，在進行鍍膜時，將鍍膜裝置的內部抽真空，通過負壓將氣化設備氣化后的原料吸入鍍膜裝置中，而后在鍍膜裝置中的基體表面，通過等離子體氣相沉積的方式在基體表面形成膜層，因此氣化的程度影響鍍膜沉積的效果。

發明人發現現有的氣化設備存在以下不足之處：

首先，現有的氣化設備通常只有單個氣化腔室，在使用的過程中，單個氣化腔室的氣化效率極低，經常出現化學原料氣化不充分的問題，使得氣化腔室內殘留的液態化學原料或者未充分氣化的化學原料被吸入鍍膜設備中，從而導致鍍膜厚度不均勻甚至鍍膜失效的問題。

其次，液態的化學原料進入氣化設備后，直接被加熱蒸發，化學原料容易產生堆積而使得氣化不充分。

第三，不同狀態的化學原料聚集在同一個蒸發腔室中，一次性地進行加熱蒸發，使得蒸發效果較差，也就是說，氣化效率低。

實用新型內容

本實用新型的一個優勢在于提供一原料氣化裝置和鍍膜設備，其通過延長氣化路徑的方式來提高對液態化學原料的氣化效率。

本實用新型的另一個優勢在于提供一原料氣化裝置和鍍膜設備，其通過設置多級的氣化部件來延長氣化路徑。

本實用新型的另一個優勢在于提供一原料氣化裝置和鍍膜設備，其中所述原料氣化裝置包括至少兩級氣化部件，兩級所述氣化部件局部地連通，使得兩個氣化部件能夠相對獨立地進行分級氣化。

本實用新型的另一個優勢在于提供一原料氣化裝置和鍍膜設備，其中兩個氣化室分別被設置加熱部件，使得對不同狀態或者說不同氣化程度的原料相對應地分別進行加熱氣化，從而提高氣化效率。

本實用新型的另一個優勢在于提供一原料氣化裝置和鍍膜設備，其中在一級加熱時，先對進入的液體原料進行較低溫度的預熱，而后進行較高溫度的加熱，使得化學原料能夠逐漸地從低溫到高溫氣化，進一步地提高氣化程度。

本實用新型的另一個優勢在于提供一原料氣化裝置和鍍膜設備，其中進料方向、多級氣化方向分別按不同方向布置，在延長氣化路徑的同時減少空間的占用。

本實用新型的另一個優勢在于提供一原料氣化裝置和鍍膜設備，其中在第一級氣化部件中原料入口位于較高位置，氣化出口位于較低位置，使得液態的化學原料能夠充分進入第一級氣化部件，避免出現化學原料堆積或者堵塞。

本實用新型的另一個優勢在于提供一原料氣化裝置和鍍膜設備，其中在第二級氣化部件中入口位于較低位置，出口位于較高位置，使得充分氣化后的原料被送出，從而減少或者避免氣化不充分的原料流出。

本實用新型的另一個優勢在于提供一原料氣化裝置和鍍膜設備，其中相鄰的兩級氣化部件之間隔熱地連接，使得各級氣化部件能夠獨立地加熱。