[實用新型]防止冷點偏移裝置以及光學晶體生長設備

有效

• 申請號: 202021330222.7
• 申請日: 2020-07-08
• 公開（公告）號: CN212713843U
• 公開（公告）日: 2021-03-16
• 發明（設計）人: 楊勇;賴維明
• 申請（專利權）人: 成都東駿激光股份有限公司
• 主分類號: C30B15/20
• 分類號: C30B15/20;C30B28/10
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 畢翔宇

本申請涉及光學晶體生長設備技術領域，尤其是涉及一種防止冷點偏移裝置以及光學晶體生長設備。一種防止冷點偏移裝置，包括：坩堝、固定構件以及加熱件；坩堝設置在所述固定構件上，加熱件環繞所述坩堝設置；固定構件能夠固定坩堝以使坩堝與加熱件同軸。本申請中利用固定構件固定坩堝，使得坩堝與所述加熱件同軸，即保證了坩堝的軸線與加熱件發出熱量構成的溫場的軸線重合，從而確保晶體的冷點不偏移，有利于引晶和放肩，保證了坩堝內的晶體各處生長速率一致。

技術領域

本申請涉及光學晶體生長設備技術領域，尤其是涉及一種防止冷點偏移裝置以及光學晶體生長設備。

背景技術

光學晶體提拉法生長過程中坩堝放置在坩堝托上，現有的坩堝托為平面，在實際安裝過程中，操作人員根據參照物對坩堝的位置進行調整，調整過程中往往存在誤差，導致坩堝軸心偏離溫場軸心，使得晶體的冷點偏移進而導致引晶困難、不均勻放肩和晶體各處生長速率不一致等問題。

因此，亟需一種防止冷點偏移裝置以及光學晶體生長設備，在一定程度上以解決現有技術中存在的問題。

實用新型內容

本申請的目的在于提供一種防止冷點偏移裝置以及光學晶體生長設備，在一定程度上解決了現有技術中坩堝軸心偏離溫場軸心的技術問題。

本申請提供了一種防止冷點偏移裝置，包括：坩堝、固定構件以及加熱件；

所述坩堝設置在所述固定構件上，所述加熱件環繞所述坩堝設置；

所述固定構件能夠固定所述坩堝以使所述坩堝與所述加熱件同軸，

所述固定構件包括托盤以及第一固定部；

所述第一固定部沿所述托盤的周向設置在所述托盤的邊沿，以使所述第一固定部與所述托盤之間形成有第一安裝空間，所述坩堝的底部坐落在所述第一安裝空間內，所述第一安裝空間用于固定所述坩堝。

在上述任一技術方案中，進一步地，還包括鉬圓筒，所述鉬圓筒環繞所述加熱件設置，所述鉬圓筒能夠將所述加熱件發出的熱反射并聚集至所述坩堝上。

在上述任一技術方案中，進一步地，還包括固定筒，所述固定筒套設在所述坩堝的外側壁。

在上述任一技術方案中，進一步地，所述固定構件還包括第二固定部；

所述第二固定部沿所述第一固定部的周向設置在所述第一固定部的邊沿，以使所述第二固定部與所述第一固定部之間形成有第二安裝空間，所述固定筒的底部位于所述第二安裝空間內，所述第二安裝空間用于固定所述固定筒。

在上述任一技術方案中，進一步地，還包括底座，所述加熱件、所述鉬圓筒以及所述坩堝均設置在所述底座上。

在上述任一技術方案中，進一步地，所述固定構件還支撐座，所述支撐座的一端設置在所述底座上，且另一端連接所述托盤；

所述支撐座、所述托盤以及所述加熱件同軸設置。

在上述任一技術方案中，進一步地，所述固定筒為石英固定筒。

在上述任一技術方案中，進一步地，所述加熱件為加熱器。

本申請還提供一種光學晶體生長設備，包括上述的防止冷點偏移裝置。

與現有技術相比，本申請的有益效果為：

本申請提供了一種防止冷點偏移裝置，包括：坩堝、固定構件以及加熱件；所述坩堝設置在所述固定構件上，所述加熱件環繞所述坩堝設置；所述固定構件能夠固定所述坩堝以使所述坩堝與所述加熱件同軸。

具體地，本申請中利用固定構件固定坩堝，使得所述坩堝與所述加熱件同軸，即保證了所述坩堝的軸線與所述加熱件發出熱量構成的溫場的軸線重合，從而確保晶體的冷點不偏移，有利于引晶和放肩，保證了坩堝內的晶體各處生長速率一致。