[實用新型]拋光介質制備裝置和機械化學拋光設備

有效

• 申請號: 202021103179.0
• 申請日: 2020-06-15
• 公開（公告）號: CN212553248U
• 公開（公告）日: 2021-02-19
• 發明（設計）人: 尹濤;趙盼盼;尹永仁;馮凱萍;張天雷
• 申請（專利權）人: 衢州學院;嘉興星微納米科技有限公司
• 主分類號: B24B29/02
• 分類號: B24B29/02;B24B57/02;B01F3/04;B01F5/00;H01L21/306;H01L21/67
• 代理公司: 北京潤平知識產權代理有限公司 11283
• 代理人: 鄭磊

1.一種拋光介質制備裝置，其特征在于，所述拋光介質制備裝置包括用于儲存拋光液的儲液罐(1)、用于向所述儲液罐(1)內釋放預定壓力氣體的氣壓泵(2)、第一管道(3)和第二管道(4)；所述第一管道(3)的一端與所述氣壓泵(2)的出氣口連接，另一端從所述儲液罐(1)的進液口延伸至所述儲液罐(1)的底部；所述第二管道(4)從所述儲液罐(1)的底部延伸至所述儲液罐(1)外；所述第一管道(3)延伸至所述儲液罐(1)的底部的一端設置有螺旋增壓結構(5)，所述螺旋增壓結構(5)用于促進從所述第一管道(3)釋放的氣體與所述儲液罐(1)內的拋光液充分混合，以形成拋光介質；所述拋光介質制備裝置還包括第三管道(6)和設置儲氣罐(7)，所述第三管道(6)的一端與所述氣壓泵(2)的進氣口連接，另一端與所述儲氣罐(7)的出氣口連接，所述儲氣罐(7)上設置有用于檢測所述儲氣罐(7)壓力的壓力表(14)。

2.根據權利要求1所述的拋光介質制備裝置，其特征在于，所述第二管道(4)上設置有用于控制所述第二管道(4)中流體的流量的閥門(8)。

3.根據權利要求1所述的拋光介質制備裝置，其特征在于，所述螺旋增壓結構(5)包括本體(51)和設置在所述本體(51)的側壁上的通孔(52)，所述本體(51)內沿著所述本體(51)的軸線方向設置有螺旋通道(53)，所述通孔(52)與所述螺旋通道(53)連通；所述螺旋通道(53)至少滿足以下條件之一：

a所述螺旋通道(53)的螺距沿所述本體(51)的軸線方向遞減；

b所述螺旋通道(53)的截面直徑沿所述本體(51)的軸線方向遞減；

c所述螺旋通道(53)的直徑沿所述本體(51)的軸線方向遞減。

4.根據權利要求1所述的拋光介質制備裝置，其特征在于，所述螺旋增壓結構(5)包括本體(51)和設置在所述本體(51)的側壁上的通孔(52)，所述本體(51)的內壁設置有沿所述本體(51)的軸向分布的螺旋通道(53)，所述本體(51)內沿所述本體(51)的軸向設置有中心柱(54)，所述中心柱(54)的側壁緊貼于所述螺旋通道(53)或所述中心柱(54)的側壁與所述中心柱(54)的側壁之間設有一定空隙；所述通孔(52)與所述螺旋通道(53)連通；

所述螺旋通道(53)至少滿足以下條件之一：

a所述螺旋通道(53)的螺距沿所述本體(51)的軸線方向遞減；

b所述螺旋通道(53)的截面直徑沿所述本體(51)的軸線方向遞減；

c所述螺旋通道(53)的直徑沿所述本體(51)的軸線方向遞減。

5.一種機械化學拋光設備，其特征在于，所述機械化學拋光設備包括機械化學加工室以及權利要求1-4中任意一項所述的拋光介質制備裝置；

所述機械化學加工室還包括支架(9)、設置在所述支架(9)上的拋光盤(10)、設置在所述拋光盤(10)下方并用于驅動所述拋光盤(10)轉動的電機(11)、粘貼于所述拋光盤(10)上表面的拋光墊(12)、位于所述拋光盤(10)上方的壓力砝碼(13)以及用于驅動所述壓力砝碼(13)轉動的驅動機構；所述拋光介質能夠經過第二管道(4)流至所述拋光墊(12)的上表面。