[實用新型]一種加熱板式蒸發源

有效

• 申請號: 202020904037.8
• 申請日: 2020-05-26
• 公開（公告）號: CN212247186U
• 公開（公告）日: 2020-12-29
• 發明（設計）人: 臧世偉;劉文卿
• 申請（專利權）人: 重慶金美新材料科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 深圳市遠航專利商標事務所(普通合伙) 44276
• 代理人: 張朝陽;田藝兒

本實用新型公開了一種加熱板式蒸發源，其特征在于，包括長槽形坩堝以及鋪設于長槽形坩堝底部的加熱部件，長槽形坩堝內設有容置腔，加熱部件包括載體以及發熱體，發熱體均勻鋪設于載體的表面，發熱體與電源連接。其有益效果在于，通電后，該加熱板式蒸發源均勻加熱，設于蒸發源內的金屬蒸鍍材料也受熱均勻，微粒團均勻的附著在與金屬蒸鍍材料對向設置的基材表面，從而減少微粒團濺射到鍍膜上擊穿鍍膜。

技術領域

本實用新型涉及真空蒸鍍技術領域，尤其涉及一種加熱板式蒸發源。

背景技術

真空鍍膜是在真空環境中，對金屬蒸鍍材料進行加熱使其蒸發，從而使其在鍍膜對象表面沉積形成薄膜，目前常用的真空鍍膜方法主要包括真空蒸鍍、分子束沉積和離子電鍍。其中，真空鍍膜方法中加熱蒸鍍材料的方法又包括電阻加熱、電子束加熱、激光束加熱等方法。

現有的蒸發源主要是在蒸發槽中放置多個小型蒸發坩堝，其缺點有:一是多個小型蒸發坩堝的布置容易導致蒸發的金屬微粒不均勻，從而使鍍膜厚度不一致；二是加熱部件不均勻的放置在坩堝的下方或者是其他位置來提供加熱源，導致蒸發裝置局部受熱不均勻，容易激發出高溫金屬微粒團而將鍍膜擊穿。

以上問題，有待解決。

發明內容

為了克服現有的技術的不足，本實用新型提供一種加熱板式蒸發源。

本實用新型技術方案如下所述：

一種加熱板式蒸發源，包括長槽形坩堝以及鋪設于所述長槽形坩堝底部的加熱部件，所述長槽形坩堝內設有放置金屬蒸鍍材料的容置腔，所述加熱部件包括載體以及發熱體，所述發熱體均勻鋪設于所述載體的表面，所述發熱體與電源連接。

根據上述方案的本實用新型，優選的，所述長槽形坩堝呈倒梯形結構，所述容置腔呈倒梯形結構。

根據上述方案的本實用新型，優選的，所述長槽形坩堝的材料為耐高溫材料。

根據上述方案的本實用新型，優選的，所述載體上設有蛇形槽，所述發熱體沿著所述蛇形槽均勻鋪設于載體。

根據上述方案的本實用新型，優選的，所述長槽形坩堝的長度為120cm-140cm。

根據上述方案的本實用新型，優選的，所述長槽形坩堝的上底邊的寬度為30cm-50cm。

根據上述方案的本實用新型，優選的，所述長槽形坩堝的高度為30cm-40cm。

根據上述方案的本實用新型，優選的，所述容置腔的底部至所述長槽形坩堝的底部的厚度為1cm-5cm。

根據上述方案的本實用新型，優選的，所述容置腔的槽邊厚度為1cm-3cm。

根據上述方案的本實用新型，優選的，所述槽邊與所述長槽形坩堝的鍋底呈α角度傾斜固定，其中，90°α180°。

根據上述方案的本實用新型，其有益效果在于，通電后，該加熱板式蒸發源均勻加熱，設于容置腔內的金屬蒸鍍材料也均勻受熱，微粒團均勻的附著在與金屬蒸鍍材料對向設置的基材表面，從而減少微粒團濺射到鍍膜上擊穿鍍膜。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖。

圖2為本實用新型的加熱部件結構放大圖。

在圖中，1、長槽形坩堝，2、加熱部件，10、容置腔，100、槽邊，20載體，21、發熱體，200、蛇形槽。

具體實施方式

下面結合附圖以及實施方式對本實用新型進行進一步的描述：