[實(shí)用新型]一種電鍍銅缸有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202020719005.0 | 申請日: | 2020-04-30 |
| 公開(公告)號: | CN212324487U | 公開(公告)日: | 2021-01-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 羅郁新 | 申請(專利權(quán))人: | 廣州美維電子有限公司 |
| 主分類號: | H05K3/18 | 分類號: | H05K3/18;C25D5/48;C25D19/00 |
| 代理公司: | 廣州市越秀區(qū)哲力專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 44288 | 代理人: | 楊艷 |
| 地址: | 510663 廣東省廣州*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 鍍銅 | ||
本實(shí)用新型公開了一種電鍍銅缸,在傳統(tǒng)銅缸的配置配基礎(chǔ)上,在沉銅機(jī)構(gòu)的入口處的上方增加滴水裝置,使得PCB板在進(jìn)行沉銅過程中能噴淋到水,使得PCB板面表面形成水膜,能有效保護(hù)盲孔沉銅層不被氧化,避免盲孔沉銅層氧化反咬導(dǎo)致斷銅,使得蝕刻后孔內(nèi)無銅報廢。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種PCB板的電鍍設(shè)備,具體涉及一種電鍍銅缸。
背景技術(shù)
HDI板(High Density Interconnector),即高密度互連板,是使用微盲埋孔技術(shù)的一種線路分布密度比較高的電路板。HDI板有內(nèi)層線路和外層線路,再利用鉆孔、孔內(nèi)金屬化等工藝,使各層線路內(nèi)部實(shí)現(xiàn)連結(jié)。
HDI板一般采用積層法制造,積層的次數(shù)越多,板件的技術(shù)檔次越高。普通的HDI板基本上是1次積層,高階HDI采用2次或以上的積層技術(shù),同時采用疊孔、電鍍填孔、激光直接打孔等先進(jìn)PCB技術(shù)。
由于在盲孔沉銅時容易出現(xiàn)沉銅層氧化以及沉銅不良導(dǎo)致孔無銅的情況,從而會使得蝕刻后孔內(nèi)無銅報廢。
實(shí)用新型內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,本實(shí)用新型的目的在于提供一種電鍍銅缸,在現(xiàn)有銅缸的配制基礎(chǔ)上,增加滴水裝置為射流設(shè)計,保證滴水均勻噴淋在板面上,使板面水膜良好,能有效保護(hù)盲孔沉銅層不被氧化,從而避免蝕刻后孔內(nèi)無銅報廢。
本實(shí)用新型的目的采用如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
一種電鍍銅缸,包括缸體、鉆孔機(jī)構(gòu)、沉銅機(jī)構(gòu)和壓膜機(jī)構(gòu),鉆孔機(jī)構(gòu)、沉銅機(jī)構(gòu)和壓膜機(jī)構(gòu)依次設(shè)置在缸體上,還包括有滴水裝置,滴水裝置設(shè)置在沉銅機(jī)構(gòu)的入口處的上方,滴水裝置用于將水均勻噴淋在PCB板面上。
在傳統(tǒng)銅缸的配置配基礎(chǔ)上,在沉銅機(jī)構(gòu)的入口處的上方增加滴水裝置,使得PCB板在進(jìn)行沉銅過程中能噴淋到水,使得PCB板面表面形成水膜,能有效保護(hù)盲孔沉銅層不被氧化,避免盲孔沉銅層氧化反咬導(dǎo)致斷銅,使得蝕刻后孔內(nèi)無銅報廢。
進(jìn)一步,所述滴水裝置與流量計連接,滴水裝置的射流量為10-12L/hr。
再進(jìn)一步,所述滴水裝置與溫度控制裝置連接,滴水裝置的出水溫度控制在25~30℃。
進(jìn)一步,所述滴水裝置為若干條噴流管。
再進(jìn)一步,在缸體上位于沉銅機(jī)構(gòu)的入口處的上方設(shè)置有若干個小孔,若干條噴流管的出口與小孔匹配。
進(jìn)一步,所述小孔的直徑為1mm,小孔與小孔之間的間隔為35mm。
再進(jìn)一步,所述滴水裝置為可拆卸式滴水裝置。
相比現(xiàn)有技術(shù),本實(shí)用新型的有益效果在于:
本實(shí)用新型在傳統(tǒng)銅缸的配置配基礎(chǔ)上,在沉銅機(jī)構(gòu)的入口處的上方增加滴水裝置,使得PCB板在進(jìn)行沉銅過程中能噴淋到水,使得PCB板面表面形成水膜,能有效保護(hù)盲孔沉銅層不被氧化,避免盲孔沉銅層氧化反咬導(dǎo)致斷銅,使得蝕刻后孔內(nèi)無銅報廢。
附圖說明
圖1為滴水裝置的安裝示意圖;
圖2為滴水裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中:1、缸體;2、沉銅機(jī)構(gòu);3、小孔;4、滴水裝置。
具體實(shí)施方式
下面,結(jié)合附圖以及具體實(shí)施方式,對本實(shí)用新型做進(jìn)一步描述,需要說明的是,在不相沖突的前提下,以下描述的各實(shí)施例之間或各技術(shù)特征之間可以任意組合形成新的實(shí)施例。由于本實(shí)用新型是在傳統(tǒng)電鍍銅缸上進(jìn)行改進(jìn),所以電鍍銅缸的其他組件和機(jī)構(gòu)就不再累述。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于廣州美維電子有限公司,未經(jīng)廣州美維電子有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202020719005.0/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類





