[實用新型]一種整面反射鏡的垂直結(jié)構(gòu)LED芯片有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202020458084.4 | 申請日: | 2020-04-01 |
| 公開(公告)號: | CN212161845U | 公開(公告)日: | 2020-12-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李國強 | 申請(專利權(quán))人: | 河源市眾拓光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/44 | 分類號: | H01L33/44;H01L33/46;H01L33/00 |
| 代理公司: | 廣州凱東知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44259 | 代理人: | 李勤輝 |
| 地址: | 517000 廣東省河源市高新技術(shù)開*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 反射 垂直 結(jié)構(gòu) led 芯片 | ||
1.一種整面反射鏡的垂直結(jié)構(gòu)LED芯片,其特征在于,一種整面發(fā)射的垂直結(jié)構(gòu)LED芯片,包括n電極(7)、外延層(6)、絕緣層(5)、反射金屬層(4)、保護層金屬(3)、鍵合層金屬(2)和支撐導(dǎo)電基板(1);其中,所述鍵合層金屬(2)安裝在支撐導(dǎo)電基板(1)上,所述鍵合層金屬(2)頂部設(shè)有第一凸起(21),所述保護層金屬(3)包括第一凹槽(31)和第二凸起(32),所述第一凹槽(31)與第一凸起(21)相匹配,所述反射金屬層(4)包括第二凹槽(41)和第三凸起(42),所述第二凹槽(41)與第二凸起(32)相匹配,所述絕緣層(5)安裝于所述第三凸起(42)外側(cè),所述外延層(6)安裝于所述絕緣層(5)和所述反射金屬層(4)上,所述n電極(7)安裝于外延層(6)上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種整面反射鏡的垂直結(jié)構(gòu)LED芯片,其特征在于:所述外延層(6)為硅基或藍寶石或SiC襯底上生長的發(fā)光GaN層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種整面反射鏡的垂直結(jié)構(gòu)LED芯片,其特征在于:所述絕緣層(5)為SiO2,所述絕緣層(5)厚度100nm-10000nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種整面反射鏡的垂直結(jié)構(gòu)LED芯片,其特征在于:所述反射金屬層(4)為NiAg疊層,所述反射金屬層(4)厚度為100nm-1000nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種整面反射鏡的垂直結(jié)構(gòu)LED芯片,其特征在于:所述保護層金屬(3)為Ti、TiW、Pt、Ni、Cr和Au的多金屬疊層,所述保護層金屬(3)厚度在100nm-5000nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種整面反射鏡的垂直結(jié)構(gòu)LED芯片,其特征在于:所述鍵合層金屬(2)為Ni和Sn的疊層或共晶合金,所述鍵合層金屬(2)厚度在100nm-5000nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種整面反射鏡的垂直結(jié)構(gòu)LED芯片,其特征在于:所述支撐導(dǎo)電基板(1)為單晶硅或多晶硅,所述支撐導(dǎo)電基板(1)厚度在50um-400um。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種整面反射鏡的垂直結(jié)構(gòu)LED芯片,其特征在于:所述n電極(7)為Cr、Ti、Al、Ni、Au和Pt中的一種或多種金屬的疊層,所述n電極(7)厚度在0.5um-10um。
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