[實(shí)用新型]一種中藥研粉裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202020376698.8 | 申請(qǐng)日: | 2020-03-23 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN212189273U | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-12-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李晶晶;盧根娣;吳繼萍;過(guò)麗珍;廖曉琴;王煜 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海中醫(yī)藥大學(xué)附屬曙光醫(yī)院 |
| 主分類號(hào): | B02C4/02 | 分類號(hào): | B02C4/02;B02C4/30;B02C7/08;B02C7/12;B02C21/00;B02C23/00;A61J3/02 |
| 代理公司: | 上海卓陽(yáng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31262 | 代理人: | 金重慶 |
| 地址: | 200021 *** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 中藥 裝置 | ||
本實(shí)用新型涉及一種中藥研粉裝置,包括機(jī)體外殼、大轉(zhuǎn)輪、粉碎裝置和研磨裝置,所述機(jī)體外殼的左上方設(shè)置有進(jìn)料口,所述機(jī)體外殼內(nèi)設(shè)置為空心結(jié)構(gòu),所述機(jī)體外殼內(nèi)的正上方設(shè)置有粉碎裝置,所述的大轉(zhuǎn)輪位于粉碎裝置的后面,在粉碎裝置的下方設(shè)置有漏斗,所述漏斗的下方設(shè)有研磨裝置,所述研磨裝置的正下方設(shè)有出料口,所述的出料口由活動(dòng)橡皮塞進(jìn)行封口。其優(yōu)點(diǎn)表現(xiàn)在:本實(shí)新型操作簡(jiǎn)單,實(shí)用性強(qiáng),研磨效率高,其通過(guò)粉碎裝置和研磨裝置的雙重設(shè)置,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)物料的充分研磨,且所述大轉(zhuǎn)輪的設(shè)置減少了物料不能充分研磨情況的發(fā)生,實(shí)現(xiàn)了多次研磨的效果,使物料研磨的更為充分,不僅縮短了研磨時(shí)間,還減輕了人力的成本。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及醫(yī)療器械技術(shù)領(lǐng)域,具體地說(shuō),是一種中藥研粉裝置。
背景技術(shù)
研磨是利用涂敷或壓嵌在研具上的磨料顆粒,通過(guò)研具與工件在一定壓力下的相對(duì)運(yùn)動(dòng)對(duì)加工表面進(jìn)行的精整加工。
隨著中醫(yī)技術(shù)的普及,穴位貼敷通過(guò)貼敷于特定穴位,透皮給藥,避免了首過(guò)效應(yīng),越來(lái)越多的應(yīng)用于臨床,現(xiàn)階段臨床各科室采用手工制作穴位貼敷藥物,包括從研磨-調(diào)和 -成模,其大都是通過(guò)人工方式對(duì)中醫(yī)治療的穴位貼敷里面的藥物進(jìn)行研磨,不僅操作麻煩,研磨效率低,比較浪費(fèi)人力,而且研磨后藥物的顆粒大小不均勻,從而使得藥物的后期加工比較麻煩。
中國(guó)專利申請(qǐng):CN104056684A公開(kāi)了一種藥物研磨滾碎機(jī),所述滾碎機(jī)固定安裝在凹槽型的機(jī)架殼體上,所述的機(jī)架殼體的凹形槽內(nèi)設(shè)有固定滾筒結(jié)構(gòu),所述的固定滾筒通過(guò)旋轉(zhuǎn)軸連接在傳動(dòng)電機(jī)上,所述的凹形槽內(nèi)固定滾筒的側(cè)方設(shè)有活動(dòng)滾筒結(jié)構(gòu),所述的活動(dòng)滾筒通過(guò)緩沖裝置和固定桿連接凹形槽的側(cè)方,所述的緩沖裝置設(shè)置在固定桿和活動(dòng)滾筒之間,所述的緩沖裝置內(nèi)設(shè)有強(qiáng)力彈簧,但上述的該裝置結(jié)構(gòu)復(fù)雜、制作難度較大,同時(shí)在研磨時(shí)效率低,浪費(fèi)時(shí)間,不方便日常使用。
中國(guó)專利申請(qǐng):CN204685176U公開(kāi)了一種醫(yī)用藥物研磨機(jī)。它包括固定不動(dòng)的上磨盤、下磨盤和用于驅(qū)動(dòng)所述下磨盤轉(zhuǎn)動(dòng)的動(dòng)力源;所述上磨盤的下表面為傘狀結(jié)構(gòu);所述下磨盤的上表面為與所述上磨盤的下表面匹配的傘狀結(jié)構(gòu);所述下磨盤的上表面和上磨盤的下表面相向設(shè)置,且所述上磨盤和下磨盤的中心位于同一垂直線上;所述上磨盤的下表面的外邊緣距離下磨盤的上表面之間的垂直距離為0.2-1.0mm;所述上磨盤的下表面的內(nèi)邊緣距離下磨盤的上表面之間的垂直距離為5.0-20.0mm。該裝置雖然操作簡(jiǎn)單,能夠?qū)⒉糠炙幬镞M(jìn)行研磨,但研磨的效果并不理想,并且對(duì)于一些比較大的物料來(lái)講,該裝置則不能有效的進(jìn)行研磨。
所以綜上所述,現(xiàn)亟需要一種操作簡(jiǎn)單、實(shí)用性強(qiáng),研磨效率高且能夠減少藥物資源的浪費(fèi)、節(jié)省時(shí)間、減輕人力成本的中藥研粉裝置,而關(guān)于這種新型的中藥研粉裝置,目前還未見(jiàn)報(bào)道。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是,提供一種中藥研粉裝置。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型采取的技術(shù)方案是:
一種中藥研粉裝置,所述的研粉裝置包括機(jī)體外殼、大轉(zhuǎn)輪、粉碎裝置和研磨裝置,所述機(jī)體外殼的左上方設(shè)置有進(jìn)料口,所述機(jī)體外殼內(nèi)設(shè)置為空心結(jié)構(gòu),所述機(jī)體外殼內(nèi)的正上方設(shè)置有用以將藥物粉碎的粉碎裝置,所述的大轉(zhuǎn)輪位于粉碎裝置的后面,且靠近機(jī)體外殼的內(nèi)表面,在粉碎裝置的下方設(shè)置有承載藥物碎片的漏斗,所述漏斗的下方設(shè)有用以將藥物碎片進(jìn)行研磨的研磨裝置,所述研磨裝置的正下方設(shè)有出料口,所述的出料口由活動(dòng)橡皮塞進(jìn)行封口。
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