[實用新型]一種避免磁鐵接觸冷卻水的圓柱靶及鍍膜設備

有效

• 申請號: 202020372465.0
• 申請日: 2020-03-20
• 公開（公告）號: CN211848119U
• 公開（公告）日: 2020-11-03
• 發明（設計）人: 戰永剛
• 申請（專利權）人: 深圳市三束鍍膜技術有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 深圳市中科創為專利代理有限公司 44384
• 代理人: 彭濤;劉曰瑩

本實用新型公開一種避免磁鐵接觸冷卻水的圓柱靶及鍍膜設備，其中圓柱靶包括靶材和靶芯，靶芯包括進水管、磁靴及磁鐵組，在磁鐵組和磁靴的外側設置防水密封套板，防水密封套板能夠將磁鐵組和磁靴沿徑向包裹住，進水管位于防水密封套板的外側，在磁鐵組和磁靴的兩端分別設置密封套環，密封套環能夠將磁鐵組和磁靴的兩端頭沿橫向包裹住。本實用新型通過在磁鐵組和磁靴的外部設置防水密封套板，在磁鐵組和磁靴的頂部和底部設置密封套環，能避免磁鐵組和磁靴接觸冷卻水，減少磁鐵組及磁靴被腐蝕的風險，進而保證靶面磁場的均勻性，提高鍍膜產品的品質，增加鍍膜設備的穩定性磁鐵組。

技術領域

本實用新型涉及鍍膜設備技術領域，尤其涉及一種避免磁鐵接觸冷卻水的圓柱靶及鍍膜設備。

背景技術

磁控濺射是物理氣相沉積的一種，一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點，而上世紀70年代發展起來的磁控濺射法更是實現了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。該技術廣泛應用于低輻射玻璃和透明導電玻璃，特別是透明導電玻璃可以用于平板顯示器件、太陽能電池、微波與射頻屏蔽裝置與器件傳感器等。現在在智能手機行業、互聯汽車行業、智能家電行業及機械工模具行業有極廣泛的應用。

現在圓柱靶結構是將磁鐵組和磁靴全部浸泡在冷卻水中，通過減少冷卻水的雜質含量來避免磁鐵組被腐蝕的情況發生，從而延長磁鐵組的使用壽命。而在實際生產中冷卻水對磁鐵的腐蝕情況卻經常發生，屢見不鮮。磁鐵組長期浸泡冷卻水中，磁鐵組表面被冷卻水腐蝕，導致磁鐵組表面磁性發生變化，從而改變靶材處磁場，最終對靶材的濺射狀態產生消極影響，影響鍍膜產品品質。同時磁鐵組長期被冷卻水腐蝕，表面被腐蝕掉的殘渣會影響冷卻水的流通狀態，長此以往會堵塞冷卻水路，使靶材表面溫度不均衡的情況發生，靶材表面積累的溫度會越來越高，最終靶材表面的鍍膜材料會炸裂，嚴重影響鍍膜生產的產品品質及鍍膜設備的正常運轉。

因此，現有技術存在不足，需要改進。

實用新型內容

本實用新型的目的是克服現有技術的不足，提供一種避免磁鐵接觸冷卻水的圓柱靶，所述圓柱靶包括靶材和靶芯，所述靶芯包括：進水管、磁靴及磁鐵組，在所述磁鐵組和所述磁靴的外側設置防水密封套板，所述防水密封套板能夠將所述磁鐵組和所述磁靴沿徑向包裹住，所述進水管位于所述防水密封套板的外側，在所述磁鐵組和所述磁靴的兩端分別設置密封套環，所述密封套環能夠將所述磁鐵組和所述磁靴的兩端頭沿橫向包裹住。

進一步地，所述防水密封套板及密封套環均通過密封連接的方式與所述靶芯進行連接固定。

進一步地，所述密封連接的方式包括焊接和/或密封膠密封。

進一步地，所述防水密封套板及密封套環均為金屬非導磁性材料。

進一步地，所述防水密封套板的形狀與所述磁鐵組的形狀一致，所述密封套環的形狀與所述磁靴的形狀一致。

進一步地，所述防水密封套板的寬度比所述磁鐵組的寬度大4-6mm，所述防水密封套板的厚度為1-2mm。

所述密封套環的直徑比所述磁靴的直徑大1-2mm，所述密封套環的厚度為1-2mm。

進一步地，所述靶芯還包括靶芯上座和靶芯下座，所述靶芯上座與所述靶芯下座相對設置，所述進水管、磁靴及磁鐵組固定在所述靶芯上座與所述靶芯下座之間，所述密封套環設于所述靶芯上座和/或所述靶芯下座的外側。

進一步地，所述防水密封套板的兩邊分別密封連接在所述磁靴的兩側壁上，一所述密封套環兩邊緣分別密封連接在所述靶芯上座和所述防水密封套板上，另一所述密封套環兩邊緣分別密封連接在所述靶芯下座和所述防水密封套板上。

本實用新型還提供一種鍍膜設備，包括如上所述的圓柱靶。