[實用新型]一種尺寸測量機構

有效

• 申請號: 202020349946.X
• 申請日: 2020-03-18
• 公開（公告）號: CN211904038U
• 公開（公告）日: 2020-11-10
• 發明（設計）人: 蔡金輝
• 申請（專利權）人: 漳州捷龍自動化技術有限公司
• 主分類號: G01B11/00
• 分類號: G01B11/00;G01B11/06;G01B21/04
• 代理公司: 泉州市潭思專利代理事務所(普通合伙) 35221
• 代理人: 林麗英

1.一種尺寸測量機構，包括第一探頭和第二探頭，其特征在于：還包括間歇式處于所述第一探頭和第二探頭之間的標定件；

還包括用于驅動所述標定件移動的驅動件，所述標定件具有標定位置和非標定位置兩種狀態，所述驅動件驅動所述標定件在標定位置和非標定位置之間切換。

2.根據權利要求1所述的一種尺寸測量機構，其特征在于：所述標定件為厚度均勻的板狀結構。

3.根據權利要求2所述的一種尺寸測量機構，其特征在于：所述驅動件驅動所述標定件在標定件所在平面內移動。

4.根據權利要求3所述的一種尺寸測量機構，其特征在于：所述標定件與所述第一探頭和第二探頭發出的探測信號傳輸方向相垂直。

5.根據權利要求4所述的一種尺寸測量機構，其特征在于：所述第一探頭和第二探頭為激光探頭。

6.根據權利要求5所述的一種尺寸測量機構，其特征在于：所述第一探頭和第二探頭發出的激光探測線相平行或重合。

7.根據權利要求6所述的一種尺寸測量機構，其特征在于：處于標定位置時，所述標定件將所述第一探頭和第二探頭發出的探測線均遮擋住；處于非標定位置時，所述標定件將所述第一探頭和第二探頭發出的探測線均未被遮擋住。

8.根據權利要求2-7中任一項所述的一種尺寸測量機構，其特征在于：所述第一探頭位于第二探頭上方。

9.根據權利要求8所述的一種尺寸測量機構，其特征在于：所述標定件水平設置。

10.根據權利要求9所述的一種尺寸測量機構，其特征在于：所述驅動件包括水平設置的流體壓缸，所述標定件安裝在所述流體壓缸的活動端上。

11.根據權利要求10所述的一種尺寸測量機構，其特征在于：所述標定件配設有導向裝置。

12.根據權利要求11所述的一種尺寸測量機構，其特征在于：所述導向裝置包括水平設置的導軌，和設于所述標定件上并與導軌相配合的滑塊。

13.根據權利要求12所述的一種尺寸測量機構，其特征在于：所述導軌包括處于所述標定件上方的上軌，和處于標定件下方并與上軌相平行的下軌；所述滑塊包括與所述上軌相配合的上塊，和與所述下軌相配合的下塊。

14.根據權利要求13所述的一種尺寸測量機構，其特征在于：兩個以上的所述上塊沿所述上軌排列設置，兩個以上的所述下塊沿所述下軌排列設置。

15.根據權利要求14所述的一種尺寸測量機構，其特征在于：所述上軌包括兩個相平行的上軌單體，所述下軌包括兩個相平行的下軌單體。

16.根據權利要求14所述的一種尺寸測量機構，其特征在于：所述上軌和下軌之間設有間距限位部件。

17.根據權利要求16所述的一種尺寸測量機構，其特征在于：所述上軌和下軌通過所述間距限位部件連接在一起。

18.根據權利要求15所述的一種尺寸測量機構，其特征在于：所述第一探頭配設有上保護殼，所述第二探頭配設有下保護殼。

19.根據權利要求18所述的一種尺寸測量機構，其特征在于：所述下保護殼包括處于所述第二探頭上方的基板，所述基板形成有供所述第一探頭和第二探頭的探測信號通過的窗口。

20.根據權利要求19所述的一種尺寸測量機構，其特征在于：所述導軌安裝于所述基板的下表面。