[實用新型]真空蒸膜設備

有效

• 申請號: 202020239793.3
• 申請日: 2020-03-03
• 公開（公告）號: CN212800529U
• 公開（公告）日: 2021-03-26
• 發明（設計）人: 陳珉;黎守新
• 申請（專利權）人: 成都晶砂科技有限公司
• 主分類號: C23C14/54
• 分類號: C23C14/54;C23C14/24
• 代理公司: 成都百川興盛知識產權代理有限公司 51297
• 代理人: 王云春;夏曉明

本實用新型公開一種真空蒸膜設備，包括真空室；蒸發源；晶振座；晶振；傳感器；前反饋控制模塊；機架；基板；發光部件；光電傳感器部件；后反饋控制模塊；蒸發源擋板；第一驅動裝置；總控制模塊，其將蒸發速率與預定蒸發速率比較得到比較結果并基于比較結果向前反饋控制模塊發出控制第一驅動裝置驅動蒸發源擋板沿與蒸發源中的材料在氣相時向晶振、基板流動的路徑相交的軌跡往復移動使擋住蒸發源中的材料在氣相時向晶振座、基板流動的路徑的面積增大、減小或保持不變的第一控制信號，其當實際測量厚度等于或大于預定厚度值時發出表征蒸膜已完成的第二控制信號。它能監測蒸發源材料蒸發速率及沉積在基片上膜層厚度，精確控制沉積過程中膜層厚度。

技術領域

本實用新型涉及OLED元件鍍膜技術領域，特別涉及真空蒸膜設備。

背景技術

現代技術中，在真空蒸鍍機等鍍膜裝置機，為了測量在基板上成膜的膜的厚度和成膜速度而使用稱為石英晶體微天平( QCM: Quartz Crystal Microbalance ) 方法的技術。該方法是利用了配置在腔室內的石英晶體諧振器 ( quartz—crystal:石英晶體諧振器／又稱石英晶體／俗稱晶振）的諧振頻率的如下特性：蒸鍍過程中隨著材料的蒸發，石英芯片質量增加，從而改變石英芯片的固有振蕩周期，即該諧振頻率由于蒸鍍物的沉積帶來的質量增加而減少。因此，將石英振蕩器組裝到振蕩回路中使薄膜質量的變化作為頻率的變化讀出，可通過測量石英晶體諧振器的諧振頻率的變化來測量膜厚和成膜速度。

另一方面，對于這種膜厚傳感器而言，隨著鎖膜量的增加，石英晶體諧振器的諧振頻率逐步降低，當達到規定的頻率時，頻率的變動大到已經無法進行穩定的膜厚測量的程度。因此，當諧振頻率降低了規定值以上時，則判斷為石英晶體諧振器達到使用壽命而實施更換。

近年來，在OLED元件的制造領域，廣泛使用真空蒸鍍法進行有機層的成膜。但是(QCM)的精確度是有限的，部分原因是由于它監控的是被鍍膜的質量而不是其光學厚度。此外，雖然QCM在較低溫度下非常穩定，但溫度較高時，它會變得對溫度非常敏感。在長時間的加熱過程中，很難阻止傳感器跌入這個敏感區域，從而對膜層造成重大誤差。然而，在OLED顯示器中，由于像素間的有機層膜厚的偏差會對圖像質量產生較大影響，因此，需要進行高精度的膜厚控制。

光學監控是無損高精密鍍膜的首選監控方式，這是因為它可以更精確地控制膜層厚度(如果運用得當)。精確度的改進源于很多因素,但最根本的原因是對光學厚度的監控。單波長光學監控系統采用間接測控，結合光學監控軟件，能有效提高光學反應對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來減少終極誤差，提供了反饋或傳輸的選擇模式和大范圍的監測波長，特別適合于各種膜厚的鍍膜監控包括非規整膜監控。

發明內容

本實用新型的目的在于提供一種真空蒸膜設備，其能監測蒸發源的材料蒸發速率及蒸發成氣態的材料沉積在基板上膜層的厚度，實現精確地控制沉積過程中膜層厚度。

一種真空蒸膜設備，包括：

真空室，其包括提供真空環境的空腔；

蒸發源，其設置于空腔內；

晶振座，其設置于空腔內，其朝向蒸發源；

晶振，其安裝于晶振座；

傳感器，其安裝于晶振座，其用于測量晶振的頻率變化量并將所測量的晶振的頻率變化量轉換成第一電信號；

前反饋控制模塊，其用于獲取第一電信號并對材料沉積在晶振上的時間進行計時得到沉積時間t，其用于基于所獲取的第一電信號得到晶振的頻率變化量，其用于基于晶振的頻率變化量計算得到沉積在晶振上的材料的質量變化量，再基于沉積在晶振上的材料的質量變化量和沉積時間計算得到蒸發源中材料的蒸發速率V；

機架，其設置于空腔內；

基板，其設置于空腔內；