[實(shí)用新型]觸控面板及其裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202020232772.9
• 申請(qǐng)日: 2020-02-28
• 公開（公告）號(hào): CN213302998U
• 公開（公告）日: 2021-05-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐維佑;黃薇臻;張良亦;陳漢威
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 宸美（廈門）光電有限公司
• 主分類號(hào): G06F3/041
• 分類號(hào): G06F3/041;H01L27/32;G02F1/1333
• 代理公司: 北京律誠(chéng)同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 王玉雙

一種觸控面板，觸控面板中的周邊引線包含導(dǎo)電納米結(jié)構(gòu)及一外加于所述導(dǎo)電納米結(jié)構(gòu)的膜層，所述導(dǎo)電納米結(jié)構(gòu)與所述膜層的界面實(shí)質(zhì)具有披覆結(jié)構(gòu)。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及觸控面板及包含觸控面板的裝置。

背景技術(shù)

近年來，透明導(dǎo)體可同時(shí)讓光穿過并提供適當(dāng)?shù)膶?dǎo)電性，因而常應(yīng)用于許多顯示或觸控相關(guān)的裝置中。一般而言，透明導(dǎo)體可以是各種金屬氧化物，例如氧化銦錫(IndiumTin Oxide，ITO)、氧化銦鋅(Indium Zinc Oxide，IZO)、氧化鎘錫(Cadmium Tin Oxide，CTO)或摻鋁氧化鋅(Aluminum-doped Zinc Oxide，AZO)。然而，這些金屬氧化物薄膜并不能滿足顯示設(shè)備的可撓性需求。因此，現(xiàn)今發(fā)展出了多種可撓性的透明導(dǎo)體，例如利用納米等級(jí)的材料所制作的透明導(dǎo)體。

然而，所述的納米等級(jí)的材料的制程技術(shù)尚有許多需要解決的問題，例如傳統(tǒng)上是利用減法制程，例如利用蝕刻等步驟移除不需要的材料達(dá)成圖案化，諸如此類的制程會(huì)造成材料的浪費(fèi)及制程上的復(fù)雜性。又例如利用納米線制作觸控電極，納米線與周邊區(qū)的引線須進(jìn)行搭接，所述搭接區(qū)域造成周邊區(qū)的尺寸無法縮減，進(jìn)而導(dǎo)致周邊區(qū)的寬度較大，無法滿足顯示器的窄邊框需求。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的部分實(shí)施方式中，形成披覆結(jié)構(gòu)于導(dǎo)電納米結(jié)構(gòu)(如金屬納米線)的特定表面，兩者形成并聯(lián)特性，以達(dá)到提升電特性的目的，以滿足低電阻與可撓性的應(yīng)用。

本實(shí)用新型的部分實(shí)施方式中，形成披覆結(jié)構(gòu)于導(dǎo)電納米結(jié)構(gòu)(如金屬納米線)上是一種直接成型的加法制程，制程較為簡(jiǎn)單且可降低材料成本。

本實(shí)用新型的部分實(shí)施方式中，透過設(shè)計(jì)周邊引線直接由改質(zhì)后的導(dǎo)電納米結(jié)構(gòu)(如金屬納米線)成型，藉以達(dá)到不需搭接的結(jié)構(gòu)，以形成寬度較小的周邊區(qū)，進(jìn)而滿足窄邊框的需求。

根據(jù)本實(shí)用新型的部分實(shí)施方式，一種觸控面板，其特征在于，包含：基板，其中該基板具有一顯示區(qū)與一周邊區(qū)；周邊引線，設(shè)置于該基板的該周邊區(qū)；以及觸控感應(yīng)電極，設(shè)置于該基板的該顯示區(qū)，該觸控感應(yīng)電極電性連接該周邊引線，其中該周邊引線與該觸控感應(yīng)電極包括多個(gè)導(dǎo)電納米結(jié)構(gòu)及一外加于所述導(dǎo)電納米結(jié)構(gòu)的膜層，該周邊引線中的所述導(dǎo)電納米結(jié)構(gòu)與所述膜層的界面實(shí)質(zhì)具有披覆結(jié)構(gòu)。

根據(jù)本實(shí)用新型的部分實(shí)施方式，一種電極，其特征在于，包含：導(dǎo)電納米結(jié)構(gòu)及一外加于所述導(dǎo)電納米結(jié)構(gòu)的膜層，所述導(dǎo)電納米結(jié)構(gòu)與所述膜層的界面實(shí)質(zhì)具有披覆結(jié)構(gòu)。

于本實(shí)用新型的部分實(shí)施方式中，披覆結(jié)構(gòu)包括鍍層，所述鍍層完全包覆導(dǎo)電納米結(jié)構(gòu)與膜層的界面。披覆結(jié)構(gòu)包括化學(xué)鍍層、電鍍層或其組合。

于本實(shí)用新型的部分實(shí)施方式中，膜層具有一未完全固化狀態(tài)，該披覆結(jié)構(gòu)系沿著所述導(dǎo)電納米結(jié)構(gòu)的表面所形成并位于所述導(dǎo)電納米結(jié)構(gòu)與所述膜層的界面。

于本實(shí)用新型的部分實(shí)施方式中，膜層具有一第一層區(qū)域與一第二層區(qū)域，該第二層區(qū)域的固化狀態(tài)高于該第一層區(qū)域的固化狀態(tài)；在第一層區(qū)域中，披覆結(jié)構(gòu)系沿著所述導(dǎo)電納米結(jié)構(gòu)的表面所形成并位于所述導(dǎo)電納米結(jié)構(gòu)與所述膜層的界面。在第二層區(qū)域中，至少部分的導(dǎo)電納米結(jié)構(gòu)的表面具有披覆結(jié)構(gòu)，或者導(dǎo)電納米結(jié)構(gòu)的表面具有披覆結(jié)構(gòu)均無披覆結(jié)構(gòu)。兩層區(qū)域相比，固化程度較小的區(qū)域，較大比例的導(dǎo)電納米結(jié)構(gòu)的表面被披覆結(jié)構(gòu)所覆蓋。

于本實(shí)用新型的部分實(shí)施方式中，相鄰的所述導(dǎo)電納米結(jié)構(gòu)之間填充有該膜層，該膜層中沒有單獨(dú)存在的所述披覆結(jié)構(gòu)。

于本實(shí)用新型的部分實(shí)施方式中，導(dǎo)電納米結(jié)構(gòu)包含金屬納米線，該披覆結(jié)構(gòu)完全包覆所述金屬納米線與所述膜層的界面，并在所述界面形成均勻的披覆層。所述均勻的披覆層可為厚度均勻的披覆層。

于本實(shí)用新型的部分實(shí)施方式中，披覆結(jié)構(gòu)為導(dǎo)電材料所制成的層狀結(jié)構(gòu)、島狀突起結(jié)構(gòu)、點(diǎn)狀突起結(jié)構(gòu)或其組合。