[實用新型]拋光機漫流過濾盤

有效

• 申請號: 202020206233.8
• 申請日: 2020-02-25
• 公開（公告）號: CN211913013U
• 公開（公告）日: 2020-11-13
• 發明（設計）人: 袁保軍;賀賢漢
• 申請（專利權）人: 上海漢虹精密機械有限公司
• 主分類號: B01D36/04
• 分類號: B01D36/04;B24B57/00
• 代理公司: 上海申浩律師事務所 31280
• 代理人: 呂琳琳

本實用新型涉及機械技術領域。拋光機漫流過濾盤，包括一中空外殼、一進液管以及排液管；還包括一用于上下分隔中空外殼內腔的漫流盤，漫流盤的外邊緣開設有出液孔，漫流盤上沿著徑向從內至外依次設置有至少兩個外凸部，外凸部為首尾相連的封閉狀結構；還包括至少三個縱向排布的擋流管，擋流管首尾相連，擋流管固定在中空外殼的內壁；擋流管設置在所述中空外殼內位于所述漫流盤下方的區域。本專利通過在漫流盤減緩拋光液流速，途中大顆粒雜質在重力的作用下，被外凸部進行阻擋，進而沉降在漫流盤上，拋光液經漫流盤外邊緣的出液孔流出；通過擋流管，實現對拋光液的第二級激蕩匯流，使拋光液中拋光顆粒SiO₂攪拌均勻并加速從排液管中流出。

技術領域

本實用新型涉及機械技術領域，具體涉及拋光機拋光液循環用過濾裝置。

背景技術

拋光是硅片生產加工過程中必不可少的工序。

拋光液因為使用量大，一般會采用拋光液循環系統對拋光液進行回收使用。目前，拋光液循環系統往往采用尼龍過濾網進行過濾，來實現拋光顆粒的回收。

當過濾網的目數大到1000目時，過濾網很容易阻塞。當過濾網的目數小于1000目時，對13μm以下的顆粒不能過濾，而需要回收的拋光顆粒為10nm，這種小于1000目的過濾網，過濾精度不佳，未過濾掉的大顆粒會劃傷硅片。

實用新型內容

針對現有技術存在的問題，本實用新型提供拋光機漫流過濾盤，以解決上述至少一個技術問題。

本實用新型的技術方案是：拋光機漫流過濾盤，其特征在于，包括一中空外殼、一用于導入拋光液的進液管以及用于導出拋光液的排液管，所述進液管安裝在所述中空外殼的頂部，所述進液管伸入所述中空外殼內，所述排液管安裝在所述中空外殼的底部，且與所述中空外殼的內腔導通；

還包括一用于上下分隔中空外殼內腔的漫流盤，所述漫流盤固定在中空外殼內，且設置在所述進液管與所述排液管之間，所述漫流盤的外邊緣開設有出液孔，所述漫流盤上沿著徑向從內至外依次設置有至少兩個用于阻擋拋光液中的大顆粒的外凸部，所述外凸部為首尾相連的封閉狀結構；

還包括至少三個縱向排布且用于攪拌出液孔導出的拋光液的擋流管，所述擋流管首尾相連，所述擋流管固定在所述中空外殼的內壁；

所述中空外殼位于所述漫流盤下方區域的內壁的橫截面面積從上至下遞減；

所述擋流管設置在所述中空外殼內位于所述漫流盤下方的區域。

本專利通過在漫流盤減緩拋光液流速，途中大顆粒雜質在重力的作用下，被外凸部進行阻擋，進而沉降在漫流盤上，拋光液經漫流盤外邊緣的出液孔流出；通過擋流管，實現對拋光液的第二級激蕩匯流，使拋光液中拋光顆粒SiO₂攪拌均勻并加速從排液管中流出。

本裝置用于小于1000目的過濾網過濾后的拋光液的二次過濾，保證過濾精度。使用方法：拋光液循環系統對拋光液采用小于1000目的過濾網過濾后的拋光液的一次過濾后，導入本裝置進行二次過濾。

進一步優選的，所述中空外殼位于所述漫流盤下方區域的內壁呈上寬下窄的圓錐狀；

所述擋流管呈圓環狀。

進而實現對拋光液的二次激蕩匯流。

進一步優選的，所述擋流管設有三個。

進一步優選的，所述擋流管與所述中空外殼的內壁圍成依次開口向上的環狀容納槽。

便于實現大顆粒的沉降容納。

進一步優選的，所述擋流管的斷面呈圓形。

進一步優選的，所述出液孔設有至少8個，所有的出液孔等間隔呈環狀排布在漫流盤的外邊緣。

便于保證出液均勻性。