[實用新型]一種飽和土樣一維沖擊加載裝置

有效

• 申請號: 202020080429.7
• 申請日: 2020-01-15
• 公開（公告）號: CN211697321U
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發明（設計）人: 邱艷宇;王明洋;李杰;李胡軍;王亞松;趙章泳;岳松林;邢化島
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍陸軍工程大學
• 主分類號: G01N3/36
• 分類號: G01N3/36
• 代理公司: 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224
• 代理人: 王方超

1.一種飽和土樣一維沖擊加載裝置，其特征在于，包括氣炮、圍壓管、試樣罐、吸能裝置、水壓控制系統、脫氣裝置、可調底座，所述氣炮、所述圍壓管、所述試樣罐、所述吸能裝置分別配合設置于所述可調底座的上方，所述氣炮與所述水壓控制系統通訊連接，所述圍壓管、所述試樣罐、所述脫氣裝置分別與所述水壓控制系統相連通，所述脫氣裝置分別與所述圍壓管、所述試樣罐相連通，所述吸能裝置配合設置于所述試樣罐的尾部。

2.根據權利要求1所述的一種飽和土樣一維沖擊加載裝置，其特征在于，所述可調底座(45)上分別配合設置有兼具支撐和定位作用的定位支架(33)、滑輪支架(34)、限位支架(35)，所述氣炮和所述圍壓管通過所述定位支架(33)設置于所述可調底座上，所述吸能裝置通過所述滑輪支架(34)和所述限位支架(35)設置于所述可調底座上。

3.根據權利要求1所述的一種飽和土樣一維沖擊加載裝置，其特征在于，所述氣炮包括氣室(1)、電磁閥(2)、發射管(3)、彈體(4)，所述氣室(1)上設置有進氣閥(5)和壓力表(6)，所述電磁閥(2)的一端法蘭連接所述氣室(1)，所述電磁閥(2)的另一端法蘭連接所述發射管(3)；所述發射管(3)的中部設置有泄壓孔(7)，所述發射管(3)的右部設置有測速窗口(8)，所述彈體(4)配合適配于所述發射管(3)的內徑。

4.根據權利要求1所述的一種飽和土樣一維沖擊加載裝置，其特征在于，所述圍壓管包括圍壓管體(9)、活塞桿(11)，所述圍壓管體(9)的左端通過第一法蘭盤(10)密封，所述第一法蘭盤(10)與所述活塞桿(11)的外徑匹配，所述圍壓管體(9)的右端通過第二法蘭盤(14)與所述試樣罐相連接，所述活塞桿(11)的外端固定設置有加強帽(12)，所述活塞桿(11)的內端與所述圍壓管體(9)的內部配合連接；所述圍壓管體(9)的上方分別設置有第一注水孔(15)、第一排氣孔(16)、第一傳感器安裝孔(17)，所述圍壓管體(9)的下方設置有第一排水孔(18)。

5.根據權利要求1所述的一種飽和土樣一維沖擊加載裝置，其特征在于，所述試樣罐包括罐體(22)、壓環(27)，所述罐體(22)的左端設置有第三法蘭盤(23)，所述罐體(22)通過所述第三法蘭盤(23)與所述圍壓管配合連接；所述第三法蘭盤(23)上設置有階梯面(26)，所述壓環(27)與所述階梯面(26)相匹配；所述罐體(22)上分別設置有第二傳感器安裝孔(28)、第二排氣孔(29)、第二注水孔(30)。

6.根據權利要求1所述的一種飽和土樣一維沖擊加載裝置，其特征在于，所述吸能裝置包括若干吸能桿(31)、液壓缸(32)，所述吸能桿(31)沿所述試樣罐的軸線排列，相互獨立，所述液壓缸(32)水平放置并布設于所述可調底座的右端。

7.根據權利要求2所述的一種飽和土樣一維沖擊加載裝置，其特征在于，所述可調底座包括底座(45)、設置于所述底座(45)上方的軌道面(44)，所述軌道面(44)上設置有軌道(47)，所述底座(45)的下方固定設置有若干可調節底角螺栓(46)。

8.根據權利要求7所述的一種飽和土樣一維沖擊加載裝置，其特征在于，所述定位支架(33)的底端、所述滑輪支架(34)的底端、所述限位支架(35)的底端分別與所述可調底座的所述軌道(47)配合連接。

9.根據權利要求1所述的一種飽和土樣一維沖擊加載裝置，其特征在于，所述水壓控制系統包括水泵(48)、控制面板(49)，所述控制面板(49)分別與所述水泵(48)、所述氣炮通訊連接，所述水泵(48)分別與所述圍壓管、所述試樣罐相連通。

10.根據權利要求1所述的一種飽和土樣一維沖擊加載裝置，其特征在于，所述脫氣裝置包括真空泵(51)、壓力容器(50)，所述真空泵(51)與所述壓力容器(50)相連通；所述真空泵(51)分別與所述圍壓管、所述試樣罐相連通，所述壓力容器(50)設置有密封頂蓋(52)，所述壓力容器(50)的壓力容器出水口(56)與所述水壓控制系統相連通。