[發明專利]光學元件疵病的抑制設備及方法有效
| 申請號: | 202011644590.3 | 申請日: | 2020-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN112845372B | 公開(公告)日: | 2022-05-03 |
| 發明(設計)人: | 張劍鋒;張帥;雷向陽;安晨輝;汪圣飛;高銳;蘇文虎;張利平;王健;許喬 | 申請(專利權)人: | 中國工程物理研究院激光聚變研究中心 |
| 主分類號: | B08B5/02 | 分類號: | B08B5/02;B08B11/00;B08B11/02;B08B9/28;B08B9/34;B08B13/00 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 余菲 |
| 地址: | 610000 四*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 元件 抑制 設備 方法 | ||
本申請提供一種光學元件疵病的抑制設備及方法,該光學元件疵病的抑制設備包括:吹掃裝置、吸附裝置、第一吸盤和潔凈容器,吸附裝置、吹掃裝置與第一吸盤均安裝在潔凈容器中;吹掃裝置的出風口對向光學元件的待吹掃面;第一吸盤設置于潔凈容器的底座上,第一吸盤與吸附機構相對設置;吸附裝置用于吸附光學元件的吸附面,并通過升降機構驅動吸附機構將光學元件調整至吹掃高度;吹掃裝置用于吹掃光學元件的待吹掃面;吸附裝置用于將吹掃后的光學元件放置于第一吸盤上進行吸附,通過第一吸盤完成對光學元件的真空吸附裝夾。因此能夠解決光學元件在真空吸附裝夾過程中,存在容易產生表面疵病的技術問題。
技術領域
本申請涉及光學元件領域,具體而言,涉及一種光學元件疵病的抑制設備及方法。
背景技術
由于光學元件側邊受力時極易發生變形,會降低加工后元件的面形精度,故超薄光學元件在加工時一般不采用側邊裝夾,并且人工裝夾手握光學元件的地方容易引入表面污染,會影響邊緣的裝夾吸附質量。目前普遍采用的裝夾方式是吸附裝夾,在吸附裝夾過程中光學元件與吸附夾具表面之間會引入加工環境中的灰塵、切屑等微小顆粒,顆粒在該界面中受壓后嵌入光學元件裝夾面時,會形成脆性壓坑,或者在光學元件裝夾面劃出劃痕,會直接影響元件的損傷特性,縮短光學元件使用壽命。因此存在光學元件在吸附裝夾過程中,容易產生表面疵病的技術問題。
發明內容
為了解決上述技術問題,本申請實施例的目的在于提供一種光學元件疵病的抑制設備及方法。
為了解決上述技術問題,第一方面,本申請實施例提供一種光學元件疵病的抑制設備,包括:
吹掃裝置、吸附裝置、第一吸盤和潔凈容器,所述吸附裝置、所述吹掃裝置與所述第一吸盤均安裝在所述潔凈容器中;所述吹掃裝置的出風口對向光學元件的待吹掃面;所述吸附裝置包括升降機構和吸附機構,所述升降機構與所述吸附機構連接;所述第一吸盤設置于所述潔凈容器的底座上,所述第一吸盤與所述吸附機構相對設置;
所述吸附裝置用于吸附所述光學元件的吸附面,并通過所述升降機構驅動吸附機構將所述光學元件調整至吹掃高度,所述吹掃高度為所述待吹掃面與所述第一吸盤的吸附面預設高度;
所述吹掃裝置用于吹掃所述光學元件的所述待吹掃面;
所述吸附裝置用于將吹掃后的所述光學元件放置于所述第一吸盤上進行吸附,完成對所述光學元件的裝夾。
在上述實現過程中,可以通過潔凈容器提供局部清潔的環境,可以通過吸附裝置調整光學元件在潔凈容器中的位置,在吹掃裝置清潔光學元件裝夾面之后,將光學元件安置在第一吸盤中,完成對光學元件的真空吸附裝夾過程。由此可見,通過吹掃裝置在真空吸附裝夾過程中除去加工環境中和光學元件與吸附夾具表面之間的灰塵、切屑等微小顆粒,完成對光學元件的真空吸附裝夾,能夠防止光學元件裝夾面形成脆性壓坑以及劃痕,因此解決了光學元件在真空吸附裝夾過程中存在容易產生表面疵病的技術問題。
可選的,所述吹掃裝置包括氣管接頭和風刀;
所述氣管接頭通過第一管道與所述潔凈容器外的壓縮空氣管連接,用于提供吹掃所述光學元件的氣體;
所述風刀用于將所述氣體吹出,并調節氣流流速和氣流方向,吹掃所述光學元件。
在上述實現過程中,通過氣管接頭提供吹掃光學元件的氣體,通過風刀調節氣流流速和氣流方向,能夠產生強大的風幕吹掃光學元件。由此可見,可以通過吹掃裝置除去光學元件表面的異物,防止光學元件裝夾面在裝夾過程中形成脆性壓坑以及劃痕。
可選的,所述吸附機構包括支撐框和至少一個第二吸盤;所述升降機構與所述支撐框的橫梁連接,所述支撐框沿所述橫梁呈預設角度方向延伸設置有至少一個吸盤連接桿,每個吸盤連接桿的末端與一個所述第二吸盤連接,所述第二吸盤用于吸附所述光學元件的吸附面。
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