[發(fā)明專利]一種乳劑類化妝品制備方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011639553.3
• 申請日: 2020-12-31
• 公開（公告）號: CN112619458A
• 公開（公告）日: 2021-04-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 朱業(yè)林
• 申請（專利權(quán)）人: 朱業(yè)林
• 主分類號: B01F3/08
• 分類號: B01F3/08
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發(fā)明涉及一種乳劑類化妝品制備方法，包括底板、反應(yīng)裝置、定量裝置、進氣裝置和蓄水槽，底板上端安裝有反應(yīng)裝置，反應(yīng)裝置上端靠近右側(cè)安裝有定量裝置，定量裝置右方下側(cè)設(shè)置有進氣裝置。本發(fā)明可以解決現(xiàn)有的設(shè)備在針對化妝品油相進行制備時，不能從內(nèi)部和外部同時對材料進行蒸煮處理，材料易出現(xiàn)蒸煮不完全的現(xiàn)象，并且，不能對蒸汽溫度進行調(diào)節(jié)的功能，油相在制備時易出現(xiàn)溫度過高的現(xiàn)象，從而降低了油相制作的成功率，同時，不能實現(xiàn)改變材料盛放體積，不能精確油相制備所需材料混合的比例，降低了油相制備的成功率，并且，不能對設(shè)備上的材料進行刮除，易出現(xiàn)殘余的現(xiàn)象，增加了油相制作成本等問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及化妝用品技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種乳劑類化妝品制備方法。

背景技術(shù)

乳劑類化妝品是化妝品的一種，化妝品是指以涂抹、噴灑或者其他類似方法，散布于人體表面的任何部位，如皮膚、毛發(fā)、指趾甲、唇齒等，以達(dá)到清潔、保養(yǎng)、美容、修飾和改變外觀，或者修正人體氣味，保持良好狀態(tài)為目的的化學(xué)工業(yè)品，乳劑類化妝品通常將油相和水相混合，并經(jīng)過乳化冷卻后，形成化妝品。

目前，現(xiàn)有的設(shè)備在針對化妝品油相進行制備時，通常存在以下不足：1、現(xiàn)有設(shè)備不能從內(nèi)部和外部同時對材料進行蒸煮處理，材料易出現(xiàn)蒸煮不完全的現(xiàn)象，并且，不能對蒸汽溫度進行調(diào)節(jié)的功能，油相在制備時易出現(xiàn)溫度過高的現(xiàn)象，從而降低了油相制作的成功率；2、現(xiàn)有的設(shè)備不能實現(xiàn)改變材料盛放體積，不能精確油相制備所需材料混合的比例，降低了油相制備的成功率，并且，不能對設(shè)備上的材料進行刮除，易出現(xiàn)殘余的現(xiàn)象，增加了材料的浪費，增加了油相制作成本。

發(fā)明內(nèi)容

(一)要解決的技術(shù)問題

本發(fā)明可以解決現(xiàn)有的設(shè)備在針對化妝品油相進行制備時，不能從內(nèi)部和外部同時對材料進行蒸煮處理，材料易出現(xiàn)蒸煮不完全的現(xiàn)象，并且，不能對蒸汽溫度進行調(diào)節(jié)的功能，油相在制備時易出現(xiàn)溫度過高的現(xiàn)象，從而降低了油相制作的成功率，同時，不能實現(xiàn)改變材料盛放體積，不能精確油相制備所需材料混合的比例，降低了油相制備的成功率，并且，不能對設(shè)備上的材料進行刮除，易出現(xiàn)殘余的現(xiàn)象，增加了材料的浪費，增加了油相制作成本等難題。

(二)技術(shù)方案

為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案，一種乳劑類化妝品制備方法，其使用了一種乳劑類化妝品制備設(shè)備，該乳劑類化妝品制備設(shè)備包括底板、反應(yīng)裝置、定量裝置、進氣裝置和蓄水槽，采用乳劑類化妝品制備設(shè)備對乳劑類化妝品進行油相制備時具體方法如下：

S1、設(shè)備檢測：通過人工的方式對設(shè)備進行常規(guī)檢測，并將設(shè)備進行清洗；

S2、材料準(zhǔn)備：通過人工的方式將制備油相所需的油、脂、蠟、乳化劑進行集中收集；

S3、油相制作：人工將步驟S2所準(zhǔn)備的材料通過定量裝置按比例倒入反應(yīng)裝置內(nèi)，之后，人工將蒸汽從進氣裝置注入反應(yīng)裝置內(nèi)，反應(yīng)裝置對材料進行攪拌和蒸煮；

S4、乳化冷卻：人工將步驟S3制成的油相和已制成的水相一起倒入乳化鍋內(nèi)，并進行攪拌乳化，之后冷卻形成乳劑類化妝品。

S5、灌裝入庫：人工將步驟S4成型的乳劑類化妝品進行灌裝，并進行收納入庫；

底板上端安裝有反應(yīng)裝置，反應(yīng)裝置上端靠近右側(cè)安裝有定量裝置，定量裝置右方下側(cè)設(shè)置有進氣裝置，進氣裝置安裝在反應(yīng)裝置上，進氣裝置下方設(shè)置有蓄水槽，蓄水槽安裝在底板上。