[發明專利]一種用于控制不均勻沉降的結構及施工方法

在審

• 申請號: 202011624512.7
• 申請日: 2020-12-31
• 公開（公告）號: CN112813954A
• 公開（公告）日: 2021-05-18
• 發明（設計）人: 朱建群;李雄威;王椿新;楊小禮;李唐;陳輝
• 申請（專利權）人: 常州工學院;中鐵第五勘察設計院集團有限公司;中南大學
• 主分類號: E02D3/00
• 分類號: E02D3/00;E02D3/08;E02D27/00
• 代理公司: 常州佰業騰飛專利代理事務所(普通合伙) 32231
• 代理人: 顧翰林

1.一種用于控制不均勻沉降的結構，包括地基(0)，所述地基(0)由多個不同地基土組成，其特征在于：還包括加固層一(1)和加固層二(2)，所述加固層一(1)和加固層二(2)均設在地基(0)中，所述加固層一(1)與加固層二(2)平行，還包括灌注樁(3)若干，每根灌注樁(3)均穿過加固層一(1)與加固層二(2)，每根灌注樁(3)均延伸至地基(0)的頂部。

2.根據權利要求1所述的用于控制不均勻沉降的結構，其特征在于：還包括連接部(4)，所述加固層一(1)為若干，相鄰加固層一(1)之間通過連接部(4)連接，所述連接部(4)設在不同地基土相鄰的分界處。

3.根據權利要求2所述的用于控制不均勻沉降的結構，其特征在于：所述加固層二(2)為若干，相鄰加固層二(2)之間也通過連接部(4)連接。

4.根據權利要求2或3所述的用于控制不均勻沉降的結構，其特征在于：所述連接部(4)為混凝土澆筑板。

5.一種如權利要求1所述的用于控制不均勻沉降的結構的控制方法，其特征在于：包括如下步驟：步驟一、在地基(0)上向下開挖基坑，基坑中的不同地基土分別堆置以待回填，開挖完畢將不同地基土之間的分界線用記號標明，并以分界線將整個基坑進行編號；

步驟二、對每個基坑，從基坑中心處按灌注樁的分布方式布置鉆孔，樁孔的深度即為灌注樁在地基層的插入深度；

步驟三、在每個樁孔預留鋼板底座位置，放入圓環狀鋼板底座；

步驟四、在樁孔中放入鋼管至鋼管接觸到圓環狀鋼板底座，邊澆筑混凝土邊向上拔出鋼管，距樁孔頂部3-3.5米時停止澆筑，從下往上等間距每30-50公分打入3個鉚釘，相鄰兩個鉚釘之間夾角為120度，將各層地基土進行回填，并在同一水平面上回填砂土形成加固層一(1)和加固層二(2)，在分界線周圍預留邊長為20公分的正方形截面，高度為15公分；

步驟五、在預留處澆筑混凝土板，并在澆筑的混凝土板內等間距布設鋼筋，鋼筋露出長度控制在3至8公分；

步驟六、繼續向樁孔中澆筑混凝土并向上拔出鋼管至鋼管完全被拔出，等待灌注樁成型。