[發明專利]一種用于鎢拋光的化學機械拋光液

在審

• 申請號: 202011619699.1
• 申請日: 2020-12-30
• 公開（公告）號: CN114686109A
• 公開（公告）日: 2022-07-01
• 發明（設計）人: 郁夏盈;李星;王晨;史經深
• 申請（專利權）人: 安集微電子（上海）有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;C23F3/06;C23F11/04
• 代理公司: 北京大成律師事務所 11352
• 代理人: 李佳銘;王芳

1.一種用于鎢拋光的化學機械拋光液，其特征在于，包括：

氯喹腐蝕抑制劑、水、SiO₂研磨顆粒、含鐵離子的催化劑、穩定劑、氧化劑和pH調節劑。

2.如權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述氯喹類腐蝕抑制劑的結構如式一所示：

3.如權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述腐蝕抑制劑選自磷酸氯喹，其結構見式二：

4.如權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述氯喹腐蝕抑制劑的質量百分比含量范圍為0.005％-0.07％。

5.如權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述研磨顆粒的質量百分比含量范圍為0.5％-3％。

6.如權利要求5所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述研磨顆粒的質量百分比含量范圍為1％-3％。

7.如權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述含鐵離子的催化劑為九水硝酸鐵。

8.如權利要求7所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述含鐵離子的催化劑的質量百分比含量范圍為0.01％-0.1％。

9.如權利要求8所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述含鐵離子的催化劑的質量百分比含量范圍為0.01％-0.03％。

10.如權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述穩定劑為有機穩定劑。

11.如權利要求10所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述有機穩定劑為可以和鐵絡合的羧酸。

12.如權利要求11所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述可以和鐵絡合的羧酸為鄰苯二甲酸、草酸、丙二酸、丁二酸、己二酸、檸檬酸、馬來酸中的一種或多種。

13.如權利要求12所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述穩定劑為丙二酸。

14.如權利要求13所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述穩定劑的質量百分比含量范圍為0.01％-0.09％。

15.如權利要求14所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述穩定劑的質量百分比含量范圍為0.01％-0.06％。

16.如權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述氧化劑為H₂O₂。

17.如權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述氧化劑的質量百分比含量為2-4％。

18.如權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述pH調節劑為HNO₃。

19.如權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，

所述化學機械拋光液的pH值為2-4。