[發(fā)明專利]一種陣列基板、顯示面板及顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011610414.8 | 申請日: | 2020-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN112558344B | 公開(公告)日: | 2022-08-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 高嬌;邱英彰;滕用進(jìn);林麗敏 | 申請(專利權(quán))人: | 廈門天馬微電子有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1333 | 分類號: | G02F1/1333;G02F1/1335;G02F1/1362;G09G3/36 |
| 代理公司: | 北京晟睿智杰知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11603 | 代理人: | 于淼 |
| 地址: | 361101 福建*** | 國省代碼: | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 陣列 顯示 面板 顯示裝置 | ||
1.一種陣列基板,其特征在于,包括玻璃基板;
所述玻璃基板上設(shè)置多條掃描線和多條數(shù)據(jù)線,多條所述掃描線和多條所述數(shù)據(jù)線交叉限定出多個(gè)子像素單元,所述多個(gè)子像素單元沿第一方向排布形成子像素行,所述多個(gè)子像素行沿第二方向排布,所述第一方向和所述第二方向交叉;
所述玻璃基板上設(shè)置多個(gè)開關(guān)器件,每個(gè)所述子像素單元包括一個(gè)所述開關(guān)器件,且所述開關(guān)器件包括柵極、源極和漏極;所述源極和所述漏極位于所述柵極背離所述玻璃基板一側(cè),所述源極和所述漏極位于同一層,所述柵極與所述掃描線電連接,所述源極與所述數(shù)據(jù)線電連接;
所述玻璃基板上還設(shè)置像素電極、色阻、多條觸控線和多個(gè)觸控電極;
每個(gè)所述子像素單元包括所述色阻,所述色阻位于所述漏極與所述像素電極之間,沿著所述第一方向,同一行所述子像素單元的所述色阻顏色相同,所述色阻包括沿所述第二方向相對設(shè)置的第一子邊和第二子邊,至少一個(gè)子邊具有至少一個(gè)第一凹部,沿所述第二方向,與所述第一凹部相鄰的所述子像素單元為相對子像素單元,所述相對子像素單元的所述色阻包括沿所述第二方向相對設(shè)置的第三子邊和第四子邊,所述相對子像素單元的其中一個(gè)所述子邊與所述第一凹部相鄰,且具有至少一個(gè)第二凹部,所述第一凹部和所述第二凹部相對設(shè)置形成第一通孔;
每個(gè)所述子像素單元包括所述像素電極,所述像素電極位于所述色阻背離所述漏極的一側(cè),所述像素電極通過所述第一通孔與所述漏極電連接;
所述觸控線位于所述漏極與所述像素電極之間,且所述觸控線位于所述色阻背離所述漏極一側(cè)的表面,所述觸控線的延伸方向?yàn)樗龅诙较?,所述觸控線在所述陣列基板的垂直投影與所述第一通孔在所述陣列基板的垂直投影不交疊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,沿所述第一方向,在同一所述子像素行的所述子像素單元的所述色阻所在的膜層上,至少部分所述子像素單元的所述色阻是連續(xù)的。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列基板,其特征在于,所述觸控線位于所述漏極和所述色阻之間,所述色阻具有第三通孔,所述第三通孔在所述陣列基板的垂直投影與所述觸控線在所述陣列基板的垂直投影部分交疊,且至少一條所述觸控線通過所述第三通孔與至少一個(gè)所述觸控電極電連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的陣列基板,其特征在于,沿所述第一方向,在同一所述子像素行中,部分連續(xù)的色阻形成色阻條,沿所述第二方向,所述色阻條具有相對設(shè)置的第一邊和第二邊,部分所述色阻條的所述第一邊或者所述第二邊具有至少一個(gè)第三凹部,沿所述第二方向,與所述第三凹部相鄰的色阻條具有第三邊和第四邊,所述第三邊或者第四邊與所述第三凹部相鄰,且具有至少一個(gè)第四凹部,所述第三凹部和所述第四凹部相對設(shè)置形成所述第三通孔。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,沿所述第一方向,相鄰兩條所述觸控線之間具有至少一條輔助走線,所述輔助走線沿所述第二方向延伸,所述輔助走線與所述觸控線位于同一層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,沿所述第二方向,所述子像素單元的所述色阻的所述第一子邊或者所述第二子邊具有兩個(gè)所述第一凹部,沿所述第二方向,與所述第一凹部相鄰的所述第三子邊或者所述第四子邊具有兩個(gè)所述第二凹部,兩個(gè)所述第一凹部和第二凹部相對設(shè)置形成兩個(gè)所述第一通孔,兩個(gè)所述第一通孔包括第一子通孔和第二子通孔,所述子像素單元的所述像素電極通過所述第一子通孔與其對應(yīng)的漏極電連接,所述相對子像素單元的所述像素電極通過所述第二子通孔與其對應(yīng)的漏極電連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述第一通孔在所述陣列基板的垂直投影為圓形、橢圓形、矩形、菱形、正多邊形。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述掃描線沿所述第二方向延伸,所述數(shù)據(jù)線沿所述第一方向延伸,所述數(shù)據(jù)線在所述陣列基板的垂直投影與所述第一通孔在所述陣列基板的垂直投影不交疊。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于廈門天馬微電子有限公司,未經(jīng)廈門天馬微電子有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011610414.8/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





