[發明專利]一種精控式蝕刻液及其蝕刻方法在審
| 申請號: | 202011608508.1 | 申請日: | 2020-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN112941516A | 公開(公告)日: | 2021-06-11 |
| 發明(設計)人: | 馬文勇 | 申請(專利權)人: | 蘇州運宏電子有限公司 |
| 主分類號: | C23F1/16 | 分類號: | C23F1/16;C23F1/02 |
| 代理公司: | 無錫風創知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 32461 | 代理人: | 邱國棟 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州市吳*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 精控式 蝕刻 及其 方法 | ||
1.一種精控式蝕刻液,其特征在于:包括以下組分:
過氧化氫穩定劑25~30份,過氧化氫3~4份,三氯化鐵0.8~5份,有機酸1~1.3份,蝕刻抑制劑0.2~0.4份,增稠助劑2~5份,螯合劑0.2~0.4份,去離子水72~90份;
所述蝕刻抑制劑采用長鏈形酮基化合物,所述增稠助劑采用乙醇胺氯化物,所述螯合劑采用二齒螯合物,所述有機酸采用草酸、酒石酸、檸檬酸、乙酸、乙醇酸、馬來酸、琥珀酸、蘋果酸、水楊酸、苯甲酸、丁二酸、乳酸中的至少一種;
所述二齒螯合物采用乙二胺、2,2'-聯吡啶、1,10-二氮菲、草酸根中的至少一種;
所述增稠助劑采用單乙醇胺氯化物或雙乙醇胺氯化物中的一種;
整體液相環境調節pH值至3~5。
2.根據權利要求1所述的一種精控式蝕刻液,其特征在于:所述二齒螯合物采用2,2'-聯吡啶,所述有機酸采用水楊酸。
3.根據權利要求1所述的一種精控式蝕刻液,其特征在于:所述二齒螯合物和有機酸均采用草酸。
4.根據權利要求1所述的一種精控式蝕刻液,其特征在于:所述增稠助劑采用雙乙醇胺氯化物。
5.使用如權利要求1~5所述的精控式蝕刻液的蝕刻方法,其特征在于:包括以下步驟:
S1、劃定蝕刻圖案范圍,進行并完成絲網印刷;
S2、沿絲網印刷構建的蝕刻線配置嵌入式限位框;
S3、沿嵌入式限位框注入精控式蝕刻液;
S4、配置加熱鼓風裝置,沿嵌入式限位框利用空壓推動精控式蝕刻液使之沿嵌入式限位框的沿伸方向穩速流動并完成蝕刻作業。
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