[發明專利]一種回流裝置在審
| 申請號: | 202011596929.7 | 申請日: | 2020-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN112775517A | 公開(公告)日: | 2021-05-11 |
| 發明(設計)人: | 潘華東;吳桂林;李泉靈;周軍;裘利平 | 申請(專利權)人: | 蘇州長光華芯光電技術股份有限公司;蘇州長光華芯半導體激光創新研究院有限公司 |
| 主分類號: | B23K3/04 | 分類號: | B23K3/04;B23K3/08;H05K3/34 |
| 代理公司: | 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250 | 代理人: | 安志嬌 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州市高新區昆侖山路189號*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 回流 裝置 | ||
1.一種回流裝置,其特征在于,包括:
底座(1),所述底座(1)上設有支撐結構(12),待焊接件設于所述底座(1)上;
蓋板(2),可拆卸地設置在所述支撐結構(12)上,所述蓋板(2)具有多個貫穿部(21),所述貫穿部(21)內設有壓針組件(3),所述壓針組件(3)具有懸空狀態和與所述待焊接件接觸的焊接狀態。
2.根據權利要求1所述的回流裝置,其特征在于,所述壓針組件(3)包括:
壓針本體(31),具有多個,均設于所述貫穿部(21)內;
限位結構,設于所述蓋板(2)上,用于限制所述壓針本體(31)相對所述貫穿部(21)的位置。
3.根據權利要求2所述的回流裝置,其特征在于,所述限位結構為活動設于所述蓋板(2)上的限位架(33),多個所述壓針本體(31)位于所述限位架(33)內。
4.根據權利要求2所述的回流裝置,其特征在于,還包括凸出部(32),所述凸出部(32)設于所述壓針本體(31)的側壁上,所述凸出部(32)搭設在所述限位結構上。
5.根據權利要求1-4中任一項所述的回流裝置,其特征在于,所述蓋板(2)與所述底座(1)平行設置。
6.根據權利要求5所述的回流裝置,其特征在于,所述支撐結構(12)為設于所述底座(1)上的支撐柱。
7.根據權利要求5所述的回流裝置,其特征在于,所述蓋板(2)上設有與所述支撐結構(12)位置相對應的定位腔(23),所述支撐結構(12)插入至所述定位腔(23)內。
8.根據權利要求7所述的回流裝置,其特征在于,還包括設于所述定位腔(23)內的緩沖件,所述緩沖件為所述支撐結構與所述蓋板(2)的連接提供了緩沖力。
9.根據權利要求8所述的回流裝置,其特征在于,所述緩沖件為滾珠直線軸承。
10.根據權利要求8所述的回流裝置,其特征在于,還包括焊接柱(4),所述焊接柱(4)插設于連通孔(22)內,所述焊接柱(4)用于焊接相鄰兩個待焊接件之間的熱橋。
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