[發(fā)明專利]一種晶圓加工磨邊設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011593859.X | 申請日: | 2020-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN112720154B | 公開(公告)日: | 2022-06-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 林斌發(fā) | 申請(專利權(quán))人: | 瑟德萊伯(嘉興)科技智造有限公司 |
| 主分類號: | B24B9/06 | 分類號: | B24B9/06;B24B27/00;B24B41/06;B24B47/00;B24B47/22;B24B55/06 |
| 代理公司: | 嘉興倍創(chuàng)專利代理事務(wù)所(普通合伙) 33395 | 代理人: | 鄭冰清 |
| 地址: | 314000 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 加工 磨邊 設(shè)備 | ||
本發(fā)明公開了一種晶圓加工磨邊設(shè)備,其結(jié)構(gòu)包括工作臺、放置槽、支撐架、氣缸、打磨器、控制面板,工作臺上表面安裝有放置槽,并且工作臺上端面與支撐架底部相焊接,板體進行橫向移動,板體內(nèi)側(cè)表面對晶圓外側(cè)邊進行抵觸,通過晶圓外側(cè)邊與拋光板進行抵觸,對晶圓外側(cè)邊進行磨邊,磨邊過程中產(chǎn)生的顆粒進入到凹槽內(nèi)部,防止磨邊過程中析出的顆粒吸附在晶圓外側(cè)邊周邊,通過轉(zhuǎn)動塊下端的輔助滑球在定位塊進行轉(zhuǎn)動,定位塊保持定位不動,抵觸板下端對晶圓上端面中部進行抵觸,抵觸過程中通過扭力彈簧的轉(zhuǎn)動,使得抵觸板對晶圓中心部分進行抵觸支撐固定,避免晶圓在進行磨板的過程中發(fā)生位置偏移,防止晶圓磨邊過程中外側(cè)周邊受損。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及晶圓加工領(lǐng)域,更具體地說,尤其是涉及到一種晶圓加工磨邊設(shè)備。
背景技術(shù)
從大的方面來講,晶圓生產(chǎn)包括晶棒制造和晶片制造兩大步驟,剛切下來的晶片外邊緣很鋒利,硅單晶又是脆性材料,為避免邊角崩裂影響晶片強度、破壞晶片表面光潔和對后工序帶來污染顆粒,使用磨邊設(shè)備自動修整晶片邊緣形狀和外徑尺寸,但是由于磨邊的過程中,難以對晶圓外側(cè)周邊進行裝夾,將晶圓直接放置在磨邊框內(nèi)部,磨邊的過程中,磨邊片與晶圓之間產(chǎn)生一定的摩擦,并且晶圓外側(cè)周邊的顆粒析出同時吸附在晶圓外側(cè)周邊難以掉落,這時顆粒與磨邊片之間產(chǎn)生的摩擦力度增大,加大了磨邊片與晶圓之間的擠壓力,造成晶圓容易在磨邊框內(nèi)部發(fā)生偏移,從而導(dǎo)致晶圓磨邊過程中外側(cè)周邊受損。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實現(xiàn)技術(shù)目的所采用的技術(shù)方案是:該一種晶圓加工磨邊設(shè)備,其結(jié)構(gòu)包括工作臺、放置槽、支撐架、氣缸、打磨器、控制面板,所述工作臺上表面安裝有放置槽,并且工作臺上端面與支撐架底部相焊接,所述支撐架頂部設(shè)有氣缸,并且氣缸輸出端與打磨器上端相焊接,所述打磨器位于放置槽正上方,所述支撐架右端設(shè)有控制面板,所述打磨器包括外框、電機、轉(zhuǎn)動球、支桿、磨邊裝置,所述外框內(nèi)部固定安裝有電機,并且電機輸出端與磨邊裝置上部中端相焊接,所述轉(zhuǎn)動球采用間隙配合安裝在外框下端內(nèi)部,并且轉(zhuǎn)動球下端與支桿頂部相焊接,所述支桿下端與磨邊裝置上端面外側(cè)相焊接,所述轉(zhuǎn)動球和支桿均設(shè)有兩個,分別設(shè)在磨邊裝置上端與外框下端間隙連接處。
作為本發(fā)明的進一步改進,所述磨邊裝置包括轉(zhuǎn)動盤、滑動框、頂簧、磨板機構(gòu)、定位抵觸裝置,所述轉(zhuǎn)動盤頂部中端隨著電機輸出端同步轉(zhuǎn)動,并且轉(zhuǎn)動盤下端內(nèi)部設(shè)有滑動框,所述滑動框內(nèi)部設(shè)有頂簧,并且磨板機構(gòu)上端滑動安裝在滑動框內(nèi)部,所述磨板機構(gòu)位于轉(zhuǎn)動盤下端外側(cè),所述定位抵觸裝置固定安裝在轉(zhuǎn)動盤下端中部,所述滑動框、頂簧和磨板機構(gòu)均設(shè)有四個,分別設(shè)在轉(zhuǎn)動盤下端四個方位上。
作為本發(fā)明的進一步改進,所述磨板機構(gòu)包括板體、滑動桿、緩沖貼合機構(gòu),所述滑動桿貫穿于板體內(nèi)部中端,并且滑動桿上端滑動安裝在滑動框內(nèi)部,所述滑動桿與頂簧外側(cè)端相焊接,所述板體內(nèi)側(cè)下端設(shè)有緩沖貼合機構(gòu),所述板體呈弧形結(jié)構(gòu)。
作為本發(fā)明的進一步改進,所述緩沖貼合機構(gòu)包括拋光板、凹槽、伸縮軟管,所述拋光板內(nèi)側(cè)表面嵌有凹槽,并且拋光板外側(cè)內(nèi)部通過伸縮軟管與板體內(nèi)側(cè)相連接,所述拋光板呈弧形結(jié)構(gòu),利于與晶圓外側(cè)邊進行貼合抵觸,所述凹槽呈內(nèi)凹弧形結(jié)構(gòu),所述伸縮軟管呈褶皺型結(jié)構(gòu),并且采用橡膠材質(zhì),具有一定的回彈性。
作為本發(fā)明的進一步改進,所述定位抵觸裝置包括固定軸、轉(zhuǎn)動塊、輔助滑球、平衡桿、定位塊、外展機構(gòu),所述固定軸內(nèi)部上端安裝有轉(zhuǎn)動塊,并且轉(zhuǎn)動塊頂部與轉(zhuǎn)動盤下端中部相固定,所述轉(zhuǎn)動塊下端固定安裝有輔助滑球,并且輔助滑球外側(cè)焊接有平衡桿,所述輔助滑球下端采用間隙配合安裝在定位塊上端內(nèi)部,并且平衡桿滑動安裝在定位塊內(nèi)部,所述定位塊下端設(shè)有外展機構(gòu),所述平衡桿共設(shè)有四個,分別設(shè)在輔助滑球外側(cè)四個方位上。
作為本發(fā)明的進一步改進,所述外展機構(gòu)包括固定盤、環(huán)桿、扭力彈簧、抵觸板,所述固定盤固定安裝在定位塊下端內(nèi)部,并且固定盤內(nèi)部設(shè)有環(huán)桿,所述環(huán)桿采用間隙配合貫穿于扭力彈簧內(nèi)部,并且扭力彈簧設(shè)在抵觸板上端外側(cè),所述環(huán)桿采用間隙配合貫穿于抵觸板上端內(nèi)部,所述扭力彈簧共設(shè)有二十四個,并且兩個扭力彈簧為一組,分別設(shè)在抵觸板上端的左右兩側(cè)外部。
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