[發(fā)明專利]質(zhì)譜離子源進樣裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011587623.5
• 申請日: 2020-12-28
• 公開（公告）號: CN112614773A
• 公開（公告）日: 2021-04-06
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 卓澤銘;蘇柏江;杜緒兵;楊俊林
• 申請（專利權(quán)）人: 廣州禾信儀器股份有限公司
• 主分類號: H01J49/04
• 分類號: H01J49/04;H01J49/16
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 馮潔

1.一種質(zhì)譜離子源進樣裝置，其特征在于，包括：

吸附組件，所述吸附組件用于吸附樣品中的VOC氣態(tài)分子，所述吸附組件設(shè)置有出口；

電離組件，所述電離組件包括電離殼體、毛細管和空氣動力學(xué)透鏡，所述空氣動力學(xué)透鏡設(shè)置于所述電離殼體內(nèi)，所述電離殼體內(nèi)設(shè)置有電離室腔體，沿樣品在所述電離殼體內(nèi)移動的方向，所述電離室腔體位于所述空氣動力學(xué)透鏡的下游；所述毛細管設(shè)置于所述電離殼體，且所述毛細管伸入所述電離室腔體內(nèi)，用于提供電噴霧，以使所述電離室腔體內(nèi)的粒子束與所述電噴霧接觸電離形成樣品離子；所述電離殼體還設(shè)置有與所述出口連通的進樣口、以及與所述電離室腔體連通的出樣口，所述出樣口用于使所述電離室腔體內(nèi)形成的所述樣品離子進入質(zhì)譜儀。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的質(zhì)譜離子源進樣裝置，其特征在于，所述電離組件包括至少兩個所述空氣動力學(xué)透鏡，沿所述樣品在所述電離殼體內(nèi)移動的方向，至少兩個所述空氣動力學(xué)透鏡依次間隔排布。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的質(zhì)譜離子源進樣裝置，其特征在于，至少兩個所述空氣動力學(xué)透鏡同軸分布。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的質(zhì)譜離子源進樣裝置，其特征在于，所述吸附組件包括吸附殼體和設(shè)置于所述吸附殼體內(nèi)的吸附材料，所述吸附殼體設(shè)置有進口和所述出口，所述吸附材料用于吸附從所述進口進入所述吸附殼體內(nèi)的樣品中的VOC氣態(tài)分子。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的質(zhì)譜離子源進樣裝置，其特征在于，所述吸附材料包括活性炭。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的質(zhì)譜離子源進樣裝置，其特征在于，所述電離組件還包括固定支座和散熱板，所述固定支座與所述電離殼體連接，且鄰近所述出樣口設(shè)置，所述散熱板與所述固定支座背離所述進樣口的一側(cè)連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的質(zhì)譜離子源進樣裝置，其特征在于，所述電離組件還包括隔熱板，所述隔熱板與所述散熱板背離所述固定支座的一側(cè)連接。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的質(zhì)譜離子源進樣裝置，其特征在于，所述質(zhì)譜離子源進樣裝置還包括電極聚焦模塊，所述電極聚焦模塊設(shè)置于所述電離室腔體內(nèi)，且鄰近所述出樣口設(shè)置。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的質(zhì)譜離子源進樣裝置，其特征在于，所述毛細管的長度延伸方向與所述樣品在所述電離殼體內(nèi)的移動方向呈夾角設(shè)置。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的質(zhì)譜離子源進樣裝置，其特征在于，所述毛細管的霧化口與所述空氣動力學(xué)透鏡的軸線的延長線之間的間距為5-15mm。