[發明專利]顯示裝置

在審

• 申請號: 202011563550.6
• 申請日: 2020-12-25
• 公開（公告）號: CN113053961A
• 公開（公告）日: 2021-06-29
• 發明（設計）人: 金民圭
• 申請（專利權）人: 樂金顯示有限公司
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國

1.一種顯示裝置，包括：

具有顯示區域和非顯示區域的基板；

設置在所述非顯示區域中的下部連接線；

堤層，所述堤層設置在所述下部連接線上并且在所述堤層的下端部的邊緣處具有底切結構；

堤部蝕刻層，所述堤部蝕刻層設置在所述下部連接線與所述堤層之間并且具有在所述堤層的下端部的邊緣內側的邊緣；和

第二驅動電極，所述第二驅動電極設置在所述堤層上并且至少一次電連接至所述下部連接線，

其中在所述堤層中形成有多個堤部孔。

2.根據權利要求1所述的顯示裝置，其中所述第二驅動電極通過所述堤部孔連接至所述下部連接線，并且

所述第二驅動電極設置成與所述堤部蝕刻層分隔開。

3.根據權利要求1所述的顯示裝置，其中所述堤層在所述顯示區域的發光部中包括堤部開口部，并且

與所述堤部開口部相比，所述堤部孔更密集地設置。

4.根據權利要求3所述的顯示裝置，其中所述堤部孔形成為比所述堤部開口部小，為所述堤部開口部的1/3到1/5。

5.根據權利要求1所述的顯示裝置，其中與設置在所述非顯示區域中的堤部蝕刻層的邊緣相比，設置在所述顯示區域中的堤部蝕刻層的邊緣設置在所述堤層的下端部的邊緣內側。

6.根據權利要求1所述的顯示裝置，其中所述堤部蝕刻層形成為無機絕緣膜。

7.根據權利要求6所述的顯示裝置，其中所述無機絕緣膜包括選自硅氮化物、硅氧化物和氮硅氧化物之中的至少一種。

8.根據權利要求1所述的顯示裝置，還包括：

設置在所述顯示區域中的多個子像素；

對于每個子像素設置的第一驅動電極，所述第一驅動電極由與所述下部連接線相同的材料制成；和

設置在所述第一驅動電極和所述堤層上的空穴注入層，

其中所述空穴注入層在所述堤層的邊緣處分離地設置。

9.根據權利要求8所述的顯示裝置，其中所述空穴注入層設置成與所述第一驅動電極分隔開。

10.根據權利要求8所述的顯示裝置，其中所述堤部蝕刻層的厚度大于或等于所述空穴注入層的厚度。

11.根據權利要求1所述的顯示裝置，其中所述多個堤部孔之間的間隔比所述顯示區域中的堤層之間的間隔小，為所述顯示區域中的堤層之間的間隔的1/3到1/5。

12.根據權利要求1所述的顯示裝置，其中所述堤層由具有與所述堤部蝕刻層的蝕刻速率不同的蝕刻速率的材料制成。

13.根據權利要求8所述的顯示裝置，其中所述堤層的下端部與所述第一驅動電極的上部垂直分隔開。

14.根據權利要求8所述的顯示裝置，其中所述空穴注入層由于所述堤部蝕刻層的形狀被分離為形成在所述第一驅動電極的部分和形成在所述堤層上的部分，以使所述空穴注入層對于每個子像素分離地設置。