[發(fā)明專利]電子霧化裝置及其霧化器在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011551367.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-12-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114652021A | 公開(公告)日: | 2022-06-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 雷桂林;徐丹 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳麥克韋爾科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | A24F40/40 | 分類號(hào): | A24F40/40;A24F40/46;A24F40/48 |
| 代理公司: | 深圳市瑞方達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44314 | 代理人: | 張約宗 |
| 地址: | 518102 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電子 霧化 裝置 及其 霧化器 | ||
本發(fā)明涉及電子霧化裝置及其霧化器,霧化器包括殼體、設(shè)置于所述殼體中的霧化組件;所述殼體中設(shè)有容置所述霧化組件的霧化腔,所述殼體中還設(shè)有氣流通道,所述氣流通道設(shè)置于所述霧化腔的一側(cè)且與所述霧化腔連通;所述霧化器還包括與所述霧化腔連通的進(jìn)氣口、以及設(shè)置于所述霧化腔中以對(duì)所述進(jìn)氣口氣流進(jìn)行導(dǎo)流的導(dǎo)流結(jié)構(gòu),所述導(dǎo)流結(jié)構(gòu)靠近所述氣流通道設(shè)置。該霧化器通過設(shè)置導(dǎo)流結(jié)構(gòu),從而可對(duì)從進(jìn)氣口進(jìn)來的氣流進(jìn)行導(dǎo)流,以將部分氣流導(dǎo)向霧化腔的封閉端,可避免霧化腔的封閉端積累大量高溫?zé)煔猓苊饫淠旱漠a(chǎn)生以及塑膠融化增加煙氣的雜氣和焦味風(fēng)險(xiǎn)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及霧化裝置,更具體地說,涉及一種電子霧化裝置及其霧化器。
背景技術(shù)
相關(guān)技術(shù)中具有側(cè)氣道電子霧化裝置的內(nèi)部,容易在封閉端形成大量的高溫?zé)煔夥e累,進(jìn)而導(dǎo)致兩個(gè)問題:一是煙氣冷凝形成冷凝液,二是在封閉端形成高溫區(qū)域,從而形成塑膠融化,增加煙氣的雜氣和焦味風(fēng)險(xiǎn)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題在于,提供一種改進(jìn)的霧化器,進(jìn)一步提供一種改進(jìn)的電子霧化裝置。
本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:構(gòu)造一種霧化器,包括殼體、設(shè)置于所述殼體中的霧化組件;所述殼體中設(shè)有容置所述霧化組件的霧化腔,所述殼體中還設(shè)有氣流通道,所述氣流通道設(shè)置于所述霧化腔的一側(cè)且與所述霧化腔連通;
所述霧化器還包括與所述霧化腔連通的進(jìn)氣口、以及設(shè)置于所述霧化腔中以對(duì)所述進(jìn)氣口氣流進(jìn)行導(dǎo)流的導(dǎo)流結(jié)構(gòu),所述導(dǎo)流結(jié)構(gòu)靠近所述氣流通道設(shè)置。
優(yōu)選地,所述導(dǎo)流結(jié)構(gòu)包括與所述進(jìn)氣口相對(duì)設(shè)置的導(dǎo)流面;
所述導(dǎo)流面與所述進(jìn)氣口的進(jìn)氣端面形成一設(shè)定夾角。
優(yōu)選地,所述設(shè)定夾角為銳角。
優(yōu)選地,所述霧化腔還包括與所述氣流通道相對(duì)設(shè)置的封閉區(qū);
所述導(dǎo)流面朝向所述封閉區(qū)設(shè)置,以將部分氣流導(dǎo)向至所述霧化腔的封閉區(qū)并對(duì)所述霧化腔輸出至所述氣流通道的氣流進(jìn)行擠壓提速和導(dǎo)流。
優(yōu)選地,所述進(jìn)氣口包括中心軸;
所述導(dǎo)流結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述中心軸的一側(cè)。
優(yōu)選地,所述導(dǎo)流結(jié)構(gòu)的尺寸小于所述霧化腔的尺寸。
優(yōu)選地,所述導(dǎo)流結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述霧化組件與所述進(jìn)氣口之間,且與所述霧化組件之間留設(shè)間隔;
所述間隔形成連通所述霧化腔和所述氣流通道的連通通道。
優(yōu)選地,所述霧化組件包括相對(duì)所述霧化腔設(shè)置的霧化面;
所述導(dǎo)流結(jié)構(gòu)還包括與所述霧化面相對(duì)設(shè)置的過流面;
所述連通通道設(shè)置于所述過流面和所述霧化面之間。
優(yōu)選地,所述過流面與所述霧化面之間的距離大于零且不大于三分之二霧化腔的高度。
優(yōu)選地,所述殼體的橫截面包括長度方向以及寬度方向;
所述導(dǎo)流結(jié)構(gòu)的兩相對(duì)側(cè)分別沿所述殼體的寬度方向延伸至所述殼體的側(cè)壁。
優(yōu)選地,所述導(dǎo)流結(jié)構(gòu)與所述殼體一體成型。
優(yōu)選地,所述導(dǎo)流結(jié)構(gòu)呈三角形、楔形或者梯形。
優(yōu)選地,所述霧化器還包括與所述霧化組件導(dǎo)電連接的兩個(gè)電極柱;
所述兩個(gè)電極柱間隔設(shè)置;
所述導(dǎo)流結(jié)構(gòu)設(shè)置于兩個(gè)所述電極柱之間。
優(yōu)選地,所述霧化器還包括底座;
所述殼體套設(shè)于所述底座上;
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