[發(fā)明專利]一種X射線發(fā)光光譜分析系統(tǒng)

在審

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• 申請日: 2020-12-18
• 公開（公告）號: CN112577983A
• 公開（公告）日: 2021-03-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 楊黃浩;陳秋水;馬恩;李娟;楊志堅;楊鴻藝;何聿;黃麗冰
• 申請（專利權(quán)）人: 福州大學(xué);廈門稀土材料研究所
• 主分類號: G01N23/22
• 分類號: G01N23/22
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 陳志海

1.一種X射線發(fā)光光譜分析系統(tǒng)，其特征在于，包括：光源模塊(2)、收光模塊(4)、光譜分析模塊(5)和控制模塊(6)；

所述光源模塊(2)用于為待測樣品提供激發(fā)光，所述收光模塊(4)用于收集所述待測樣品受激發(fā)后發(fā)出的熒光，所述光譜分析模塊(5)用于采集所述收光模塊(4)收集到的熒光信號并將其轉(zhuǎn)化為數(shù)字信號，所述控制模塊(6)用于接收由所述光譜分析模塊(5)轉(zhuǎn)換得到的數(shù)字信號并進行處理。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線發(fā)光光譜分析系統(tǒng)，其特征在于，所述光源模塊(2)包括：用于為所述待測樣品提供X射線激發(fā)光的X射線光源組件；

所述X射線光源組件包括：X射線光源(2-1)和射線整形錐(2-2)；所述X射線光源(2-1)的出光口與所述射線整形錐(2-2)的小口連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線發(fā)光光譜分析系統(tǒng)，其特征在于，所述光源模塊(2)還包括：用于為所述待測樣品提供拓展激發(fā)光束的激發(fā)光源組件。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的X射線發(fā)光光譜分析系統(tǒng)，其特征在于，所述激發(fā)光源組件包括：激發(fā)光源(2-3)、擴束器(2-5)和二向色鏡(2-6)；

所述激發(fā)光源(2-3)與所述擴束器(2-5)通訊連接，所述二向色鏡(2-6)用于將經(jīng)所述擴束器(2-5)輸出的拓展激發(fā)光束反射至所述待測樣品的表面。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線發(fā)光光譜分析系統(tǒng)，其特征在于，所述收光模塊(4)包括：透鏡組(4-2)；

所述透鏡組(4-2)與所述光譜分析模塊(5)通訊連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的X射線發(fā)光光譜分析系統(tǒng)，其特征在于，所述收光模塊(4)還包括：設(shè)置在所述光源模塊(2)與所述透鏡組(4-2)之間，用于過濾所述待測樣品受激發(fā)后發(fā)出的熒光的電動濾光片轉(zhuǎn)輪(4-1)；

所述電動濾光片轉(zhuǎn)輪(4-1)與所述控制模塊(6)通訊連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線發(fā)光光譜分析系統(tǒng)，其特征在于，還包括：防護箱(1)；

所述光源模塊(2)包括：用于為所述待測樣品提供X射線激發(fā)光的X射線光源組件；

所述X射線光源組件、所述收光模塊(4)和所述光譜分析模塊(5)均設(shè)置于所述防護箱(1)內(nèi)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的X射線發(fā)光光譜分析系統(tǒng)，其特征在于，所述防護箱(1)包括：箱體(1-1)、第一隔板(1-2)和第二隔板(1-3)；

所述第一隔板(1-2)和所述第二隔板(1-3)由下往上依次設(shè)置于所述箱體(1-1)內(nèi)，以使得所述箱體(1-1)由下往上被依次分隔形成射線源倉、樣品倉和光路倉，所述第一隔板(1-2)開設(shè)有第一通光孔，所述第二隔板(1-3)開設(shè)有第二通光孔；

所述X射線光源組件設(shè)置于所述射線源倉內(nèi)，所述收光模塊(4)和所述光譜分析模塊(5)均設(shè)置于所述光路倉內(nèi)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線發(fā)光光譜分析系統(tǒng)，其特征在于，還包括：用于調(diào)節(jié)所述待測樣品的溫度的變溫模塊(3)。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的X射線發(fā)光光譜分析系統(tǒng)，其特征在于，所述變溫模塊(3)包括：

變溫樣品臺(3-1)；

和用于控制所述變溫樣品臺(3-1)的溫度的溫度控制器(3-2)。