[發明專利]處理設備、用于處理設備的驅動單元以及處理設備的用途在審
| 申請號: | 202011498326.3 | 申請日: | 2020-12-17 |
| 公開(公告)號: | CN113005420A | 公開(公告)日: | 2021-06-22 |
| 發明(設計)人: | 弗蘭克·霍夫曼;卡爾·施密特;斯特凡·肯普夫;安德烈亞斯·阿姆萊因;伯恩哈德·科德;烏韋·霍利茨 | 申請(專利權)人: | 新格拉斯科技集團 |
| 主分類號: | C23C14/54 | 分類號: | C23C14/54;C23C14/56;C23C14/58;C23C14/06;C23C16/28;C23C16/52;C23C16/54;C23C16/56 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金國;吳啟超 |
| 地址: | 德國美茵河畔卡勒*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 處理 設備 用于 驅動 單元 以及 用途 | ||
一種處理設備包括用于處理一個或多個襯底的腔室。可旋轉地支撐的溫度受控軸(30)限定圓柱形的氣密中空空間。提供加熱布置(40、50)以用于電加熱所述軸(30)的布置在所述腔室中的至少一部分。所述加熱布置(40、50)包括用于容納至少一個電加熱元件(50)的容納芯軸(40),所述容納芯軸(40)以非旋轉方式布置并且延伸進入所述軸(30)的所述中空空間。所述容納芯軸(40)的外表面與所述軸(30)的內表面間隔開間隙。
技術領域
本發明涉及用于處理襯底的裝置和方法。本發明尤其涉及加熱的軸延伸到腔室中的此類裝置和方法。
背景技術
可廣泛使用可被配置為連續設備或間歇式設備的用于襯底處理的處理設備。示例性設備是硫屬元素汽相沉積設備或用于熱處理襯底的設備,例如用于對沉積到襯底上的層進行熱處理的設備。
將處理室中存在的部件的溫度調節成具體溫度或溫度范圍可能是必要的或期望的。例如,在沒有此類溫度控制的硫屬元素汽相沉積設備中,可能在處理設備的靠近襯底或襯底載體定位的非溫度受控的部件上發生不期望的高沉積。處理設備的部件上的此類沉積會以不期望方式縮短維護間隔。
盡管通常可毫不費力地對處理室中的固定元件進行溫度控制,但延伸到處理室中的部件(具體地在處理室中移動的部件,諸如旋轉軸)的溫度控制在技術上可能更為復雜。例如,在借助于油進行溫度控制的軸的情況下,由于技術原因,可能難以避免機械式旋轉傳輸引入件上的泄漏。例如,在借助于油進行溫度控制的此類軸的情況下,通常將加熱的導熱油通過機械式旋轉傳輸引入件引入到雙壁軸中。
DE 10 2009 016 677 A1描述了一種可用蒸汽加熱的中空軸。蒸汽導管使配置變得復雜。
EP 0 918 945 B1公開了一種可加熱的輥,并且其輥體包括帶有可汽化流體的通道,在所述通道中設有電輻射加熱系統。在輥體中使用通道使得輥的配置變得復雜。
DE 693 659 A公開了一種電加熱的壓延輥,其輥殼緊密地包圍輥芯。電氣部件以固定方式安裝。
DE 3 033 689 A1公開了一種可電加熱的輥,其具有內管和距內管一定距離同軸布置的外管并形成輥殼,所述內管和外管限定環形空間,在所述環形空間中插入彼此對接并插入并沿周向分布的若干加熱墊。設有滑動觸點以用于為加熱墊供應能量。此類滑動觸點易于磨損。
DE 10 2011 082 334 A1描述了一種用于在水平位置處理盤形基板的襯底處理設備,其具有輸送裝置,所述輸送裝置包括具有中空空間的多個輸送輥,加熱介質布置在所述中空空間中。所述加熱介質將可從外部穿過旋轉傳輸引入件的中空軸插入到輥體的中空空間中。然而,這種設計尤其是不利的,因為提供這種可旋轉地支撐的中空軸在技術上是復雜的、昂貴的并容易出錯。
需要改進的裝置和方法,可借助于所述裝置和方法控制,尤其是加熱,在處理設備的處理室中至少部分延伸的軸的溫度。特別地,需要這樣的裝置和方法,所述裝置和方法允許通過簡單布置來控制軸的溫度并避免液體泄漏的問題,這種問題可能在借助于油或蒸氣進行溫度控制的軸的情況下發生。
發明內容
根據本發明,提供了包括獨立權利要求中指定的特征的處理設備、驅動單元以及這種處理設備和驅動單元的用途。從屬權利要求限定優選實施方案。
根據本發明,提議一種配置,在所述配置中電加熱裝置,具體地加熱筒,以非旋轉方式布置在軸的內部。提供容納芯軸以容納電加熱裝置或加熱筒。所述容納芯軸相對于所述處理設備的腔室以非旋轉方式布置。
在所述容納芯軸的外表面與所述軸的內表面之間延伸有間隙。所述容納芯軸和所述可旋轉地支撐的軸之間的熱傳遞尤其可借助于所述軸與所述容納芯軸之間提供的氣體進行。熱傳遞基本上可借助于在所述軸內部通過此氣體的熱傳導來進行。
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