[發(fā)明專利]一種新型的預拉深成型工藝在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011496063.2 | 申請日： | 2020-12-17 |
| 公開（公告）號： | CN112792199A | 公開（公告）日： | 2021-05-14 |
| 發(fā)明（設計）人： | 張麗珍;周星良;陳敢 | 申請（專利權）人： | 漳州銳騰電器有限公司 |
| 主分類號： | B21D22/20 | 分類號： | B21D22/20;B21D37/10 |
| 代理公司： | 泉州市潭思專利代理事務所(普通合伙) 35221 | 代理人： | 林麗英 |
| 地址： | 363900 福建省*** | 國省代碼： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 新型 預拉深 成型 工藝 | ||
1.一種新型的預拉深成型工藝，其特征在于，包括如下步驟：
步驟一，將待拉深零件放置在凸模具上，進行零件預拉深；
步驟二，零件預拉深結束，再利用凹模具進行回整形加工，最終獲得成型零件；
所述用于加工零件的凹凸模具之間的拉深間隙大于一個材料厚度。
2.根據權利要求1所述的一種新型的預拉深成型工藝，其特征在于，所述凹凸模具之間材料較薄的一側拉深間隙小于材料較厚的一側拉深間隙。
3.根據權利要求2所述的一種新型的預拉深成型工藝，其特征在于，所述凹凸模具之間材料較薄的一側拉深間隙為1.5個材料厚度。
4.根據權利要求3所述的一種新型的預拉深成型工藝，其特征在于所述凹凸模具之間材料較厚的一側拉深間隙為2個材料厚度。
5.根據權利要求4所述的一種新型的預拉深成型工藝，其特征在于，所述拉深R角所在圓的半徑小于所述凸模R1角所在圓的半徑，所述拉深R角所在圓的半徑大于零件上R2角所在圓的半徑。
6.根據權利要求5所述的一種新型的預拉深成型工藝，其特征在于，所述凹凸模具之間材料較薄的一側拉深R角所在圓的半徑小于凹凸模具之間材料較厚的一側的拉深R角所在圓的半徑。
7.根據權利要求6所述的一種新型的預拉深成型工藝，其特征在于，所述拉深R角所在圓的半徑與所述凸模R1角所在圓的半徑之差不超過0.3mm。
8.根據權利要求7所述的一種新型的預拉深成型工藝，其特征在于，所述凹凸模具之間材料較厚的一側拉深R角所在圓的半徑與所述凸模R1角所在圓的半徑之差為0.1mm。
9.根據權利要求1所述的一種新型的預拉深成型工藝，其特征在于，步驟一中所述零件預拉深高度為1.33mm。
10.根據權利要求9所述的一種新型的預拉深成型工藝，其特征在于，步驟二中所述零件回整形加工的回整R3角為0.3mm。
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