[發(fā)明專利]增加光器件的金絲鍵合阻抗連續(xù)性的方法及應(yīng)用裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011494842.9
• 申請日: 2020-12-17
• 公開（公告）號: CN112509927A
• 公開（公告）日: 2021-03-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 范巍;羅小東;丁征
• 申請（專利權(quán)）人: 四川華拓光通信股份有限公司
• 主分類號: H01L21/48
• 分類號: H01L21/48;H01L23/498
• 代理公司: 北京遠大卓悅知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11369
• 代理人: 賈曉燕

1.一種增加光器件的金絲鍵合阻抗連續(xù)性的方法，其特征在于，在采用金絲線鍵合連接的器件或者組件之間，通過填充相應(yīng)非導(dǎo)電材料的介質(zhì)，將金線線進行包裹，以通過降低阻抗，保證阻抗的連續(xù)性。

2.一種應(yīng)用如權(quán)利要求1所述增加光器件的金絲鍵合阻抗連續(xù)性方法得到的裝置，其特征在于，包括：

通過金絲線鍵合連接的器件或者組件；

設(shè)置在器件或組件之間，對金絲線進行全方位包裹的介質(zhì)層。

3.如權(quán)利要求2所述增加光器件金絲鍵合阻抗連續(xù)性的裝置，其特征在于，所述介質(zhì)層被配置為采用高分子膠層、丙烯酸酯膠層中的任意一種。

4.如權(quán)利要求2所述增加光器件金絲鍵合阻抗連續(xù)性的裝置，其特征在于，所述介質(zhì)層上端具有與金線線分布弧度相配合的弧形部。

5.如權(quán)利要求2所述增加光器件金絲鍵合阻抗連續(xù)性的裝置，其特征在于，所述介質(zhì)層被配置為延伸至器件與器件之間的間隙處。