[發明專利]一種用于等離子清洗機或蝕刻機的真空清洗結構及清洗工藝在審
| 申請號： | 202011481840.6 | 申請日： | 2020-12-15 |
| 公開（公告）號： | CN112490101A | 公開（公告）日： | 2021-03-12 |
| 發明（設計）人： | 鄒軍 | 申請（專利權）人： | 深圳市普拉斯瑪自動化設備有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/20 | 分類號： | H01J37/20;H01J37/305;H01J37/32;B08B7/00;B08B13/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市寶安區松崗*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 等離子 清洗 蝕刻 真空 結構 工藝 | ||
1.一種用于等離子清洗機或蝕刻機的真空清洗結構，包括真空腔體，其特征在于，所述真空腔體內設置有可轉動的公轉盤，所述公轉盤上設置有若干可轉動的工件座。
2.根據權利要求1所述的真空清洗結構，其特征在于，所述真空腔體具有底板，所述底板的外側設置有驅動電機，所述底板的內側設置有驅動軸，所述驅動電機與所述驅動軸連接，所述公轉盤設置于所述底板上，所述公轉盤與所述驅動軸連接，所述驅動電機驅動所述公轉盤轉動。
3.根據權利要求1所述的真空清洗結構，其特征在于，所述公轉盤上設置有主轉動齒輪和若干次轉動齒輪，所述主轉動齒輪設置于所述驅動軸上，所述若干次轉動齒輪分別與所述主轉動齒輪連接，每一所述次轉動齒輪上設置有連接卡位，所述工件座扣合于所述連接卡位上。
4.根據權利要求1所述的真空清洗結構，其特征在于，所述連接卡位上設置有定位槽，所述工件座的底部設置有對應的定位部，所述定位部扣合于所述定位槽內。
5.根據權利要求1所述的真空清洗結構，其特征在于，所述工件座包括支架和間隔分布與支架上的料板。
6.根據權利要求1所述的真空清洗結構，其特征在于，若干所述次轉動齒輪間隔環繞于所述主轉動齒輪的四周。
7.一種等離子真空機的清洗或蝕刻工藝，應用于真空腔體內，其特征在于，包括以下步驟：在真空腔體內清洗或蝕刻過程中，同時轉動用于放置有料盒的公轉盤和用于放置工件的轉動的工件座。
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