[發明專利]具有抑制生物物質附著的能力的離子絡合材料及其制造方法在審
| 申請號： | 202011478711.1 | 申請日： | 2014-06-09 |
| 公開（公告）號： | CN112625535A | 公開（公告）日： | 2021-04-09 |
| 發明（設計）人： | 廣井佳臣;大谷彩子;岸岡高廣;西野泰斗;小澤智行 | 申請（專利權）人： | 日產化學工業株式會社 |
| 主分類號： | C09D143/02 | 分類號： | C09D143/02;C09D5/16;C08F230/02;C08F220/34 |
| 代理公司： | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人： | 李國卿 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 具有 抑制 生物 物質 附著 能力 離子 絡合 材料 及其 制造 方法 | ||
1.涂覆膜，其是通過包括以下工序的方法得到的：
將涂覆膜形成用組合物涂布于基體的工序，以及
于－200℃～200℃的溫度進行干燥的工序，
所述涂覆膜形成用組合物包含下述共聚物和溶劑，所述共聚物包含：
包含下述式(a)表示的有機基團的重復單元和包含下述式(b)表示的有機基團的重復單元，
式中，
Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3各自獨立地表示氫原子、或碳原子數1～5的直鏈或支鏈烷基，An－表示選自鹵化物離子、無機酸根離子、氫氧化物離子及異硫氰酸根離子中的陰離子。
2.如權利要求1所述的涂覆膜，其中，溶劑包含水或醇。
3.如權利要求1或2所述的涂覆膜，其中，涂覆膜形成用組合物中的共聚物的濃度為0.01質量％～4質量％。
4.如權利要求1～3中任一項所述的涂覆膜，其中，基體選自玻璃、含金屬化合物、含半金屬化合物及樹脂。
5.如權利要求1～4中任一項所述的涂覆膜，其具有抑制生物物質附著的能力。
6.如權利要求1～5中任一項所述的涂覆膜，其中，共聚物包含下述式(a1)及式(b1)的重復單元：
式中，
Ta、Tb、Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3各自獨立地表示氫原子、或碳原子數1～5的直鏈或支鏈烷基，Qa及Qb各自獨立地表示單鍵、酯鍵或酰胺鍵，Ra及Rb各自獨立地表示可被鹵原子取代的碳原子數1～10的直鏈或支鏈亞烷基，An－表示選自鹵化物離子、無機酸根離子、氫氧化物離子及異硫氰酸根離子中的陰離子，m表示0～6的整數。
7.如權利要求1～6中任一項所述的涂覆膜，其中，m為1，Ra及Rb各自獨立地表示亞乙基或亞丙基。
8.如權利要求1～7中任一項所述的涂覆膜，其中，包括預先對涂覆膜形成用組合物進行pH調節的工序。
9.如權利要求1～8中任一項所述的涂覆膜，其中，包括進一步用選自水和含有電解質的水溶液中的至少1種溶劑對在干燥工序后得到的膜進行洗滌的工序。
10.涂覆膜的制造方法，其包括以下工序：
將涂覆膜形成用組合物涂布于基體的工序，以及
于－200℃～200℃的溫度進行干燥的工序，
所述涂覆膜形成用組合物包含下述共聚物和溶劑，所述共聚物包含：
包含下述式(a)表示的有機基團的重復單元和包含下述式(b)表示的有機基團的重復單元，
式中，
Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3各自獨立地表示氫原子、或碳原子數1～5的直鏈或支鏈烷基，An－表示選自鹵化物離子、無機酸根離子、氫氧化物離子及異硫氰酸根離子中的陰離子。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于日產化學工業株式會社，未經日產化學工業株式會社許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011478711.1/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
