[發明專利]臥式等離子熔融爐

在審

• 申請號: 202011468754.1
• 申請日: 2020-12-15
• 公開（公告）號: CN112555849A
• 公開（公告）日: 2021-03-26
• 發明（設計）人: 胡春云;吳家樺;謝斐;陳鵬;朱鼎;田建;陳慧
• 申請（專利權）人: 東方電氣潔能科技成都有限公司
• 主分類號: F23G5/04
• 分類號: F23G5/04;F23G5/027;F23G5/08;F23G5/14;F23G5/44;F23J1/08
• 代理公司: 成都天嘉專利事務所(普通合伙) 51211
• 代理人: 蔣斯琪

1.臥式等離子熔融爐，其特征在于：整個爐體臥式布置，爐體側壁的兩側分別設置有進料口（8）和煙氣出口（9），爐體的底部設置有排渣口（10）；所述熔融爐的爐膛內分為干燥干餾區、氧化還原區、燃燒區和熔渣區，干燥干餾區位于進料口（8）側，氧化還原區與干燥干餾區鄰接且位于等離子炬口所在區域，熔渣區與干燥干餾區鄰接且位于氧化還原區下端，熔渣區的底部為排渣口（10），燃燒區位于煙氣出口（9）側且與干燥干餾區、氧化還原區、熔渣區縱向鄰接；在氧化還原區所在爐體壁面上，設置有等離子炬安裝孔（5）；

按照原料進入爐膛的移動方向，原料從進料口（8）進入爐膛后進入干燥干餾區，在干燥干餾區被干燥干餾后進入氧化還原區，在氧化還原區進行氧化還原反應，經過氧化還原反應后，進入燃燒區進行充分燃燒；原料中的無機物被熔融成液態由排渣口（10）流出，原料中的有機物被干餾、熱解、氧化后形成含二氧化碳和水蒸氣的高溫煙氣，高溫煙氣從煙氣出口（9）排出。

2.如權利要求1所述的臥式等離子熔融爐，其特征在于：在氧化還原區所在爐體壁面上，至少設置有兩個等離子炬安裝孔（5），所述等離子炬安裝孔（5）可對稱布置于同一水平位置上。

3.如權利要求1或2所述的臥式等離子熔融爐，其特征在于：在氧化還原區所在爐體壁面上，還設置有助燃風口一（7），助燃風口一（7）靠近氧化還原區與干燥干餾區的鄰接線，助燃風口一（7）和安裝等離子炬安裝孔（5）的高度一致；所述助燃風口一（7）通入空氣。

4.如權利要求1或2所述的臥式等離子熔融爐，其特征在于：在熔渣區所在爐體壁面上，還設置有助燃風口二（6），助燃風口二（6）低于等離子炬安裝孔（5）；所述助燃風口二（6）通入空氣。

5.如權利要求1所述的臥式等離子熔融爐，其特征在于：在燃燒區所在爐體壁面上，設置有燃盡風口（4），燃盡風口（4）靠近燃燒區與干燥干餾區、氧化還原區、熔渣區的鄰接線；所述燃盡風口（4）噴入空氣。

6.如權利要求1所述的臥式等離子熔融爐，其特征在于：所述爐體的整個壁面包括外層的鋼外殼（1）和內層的耐火材料（2），整個壁面包括頂面、側壁和底面，頂面為水平壁面，側壁為豎直壁面，底面包括靠近進料口（8）側的漏斗狀壁面和靠近煙氣出口（9）側的水平段壁面，排渣口（10）位于漏斗狀壁面的底部。

7.如權利要求1所述的臥式等離子熔融爐，其特征在于：所述排渣口（10）下端設置有沿圓錐形腔壁布置的螺旋狀的電加熱盤（3）。

8.如權利要求1所述的臥式等離子熔融爐，其特征在于：所述進料口（8）處設置有助推裝置。

9.如權利要求1所述的臥式等離子熔融爐，其特征在于：所述氧化還原區的反應溫度為900-1100℃，所述經過煙氣出口（9）的高溫煙氣溫度950℃，所述排渣口（10）的溫度1000℃。