[發明專利]一種可用于光電子器件的防潮結構及其制備方法

在審

• 申請號: 202011463276.5
• 申請日: 2020-12-14
• 公開（公告）號: CN112509984A
• 公開（公告）日: 2021-03-16
• 發明（設計）人: 于軍勝;周殿力;李嘉文;蔣泉
• 申請（專利權）人: 電子科技大學
• 主分類號: H01L23/00
• 分類號: H01L23/00;H01L21/56;B82Y30/00
• 代理公司: 成都弘毅天承知識產權代理有限公司 51230
• 代理人: 梁偉東

1.一種可用于光電子器件的防潮結構，其特征在于，從下到上依次為，附著面和防潮薄膜結構，

所述防潮薄膜結構的總厚度不超過20um；

所述防潮薄膜結構是由混合溶劑、防潮劑和保護劑的混合溶液經噴涂而成；

所述防潮薄膜結構以質量成分計，分別為，混合溶劑：40～60％、防潮劑：30～40％、保護劑：10～20％。

2.根據權利要求1所述的一種可用于光電子器件的防潮結構，其特征在于，所述附著面為基底的表面或者光電子器件的表面。

3.根據權利要求2所述的一種可用于光電子器件的防潮結構，其特征在于，所述基底為剛性基底或柔性基底。

4.根據權利要求3所述的一種可用于光電子器件的防潮結構，其特征在于，所述剛性基底為玻璃或藍寶石。

5.根據權利要求3所述的一種可用于光電子器件的防潮結構，其特征在于，所述柔性基底為金屬箔、聚乙烯、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚氨基甲酸酯、聚酰亞胺、氯醋樹脂或聚丙烯酸薄膜中的一種。

6.根據權利要求1所述的一種可用于光電子器件的防潮結構，其特征在于，所述混合溶劑為乙二醇、高分子聚電解質型731分散劑、硅烷偶聯劑YGO-1204和水性乳液，其組分比例為：1:1:2:1。

7.根據權利要求1所述的一種可用于光電子器件的防潮結構，其特征在于，所述防潮劑為采用輥涂、LB膜法、刮涂、旋涂、滴涂、噴涂、提拉法、流延法、浸涂、噴墨打印、自組裝或絲網印刷任一處理方法處理后具有穩定薄膜結構15％水松根部萃取物和甘油混合液。

8.根據權利要求1所述的一種可用于光電子器件的防潮結構，其特征在于，所述保護劑為用乙二醇作為溶劑的納米級多孔SiO₂顆粒。

9.一種可用于光電子器件的防潮結構的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟S1：先對光電子器件的表面或基底的表面進行清洗，包括如下分步驟：

步驟S1-1：先對光電子器件的表面或基底的表面進行清洗；

步驟S1-2：將清洗后的光電子器件的表面或基底的表面用干燥氮氣吹干；

步驟S1-3：然后用氧離子對光電子器件的表面或基底的表面進行轟擊；

步驟S2：分別制備混合溶劑、防潮劑和保護劑；

步驟S3：將步驟S2制備好的混合溶劑、防潮劑和保護劑按照混合溶劑：40～60％、防潮劑：30～40％、保護劑：10～20％的質量比例進行混合；

步驟S4：將步驟S3所得的混合溶液采用噴涂法噴涂到步驟S1得到的光電子器件的表面或基底的表面，混合溶液的濃度為2mg/ml，噴涂速率為515μL/min；

步驟S5：將步驟S4得到的薄膜結構進行80℃烘干處理5min，得到防潮薄膜結構；

步驟S6：將步驟S5得到的防潮薄膜結構進行防潮測試。