[發明專利]固定式真空閥

在審

• 申請號: 202011442205.7
• 申請日: 2020-12-11
• 公開（公告）號: CN114619015A
• 公開（公告）日: 2022-06-14
• 發明（設計）人: 唐乃光;陸致瑋;黃菀筠;賴建利
• 申請（專利權）人: 財團法人金屬工業研究發展中心
• 主分類號: B22D17/22
• 分類號: B22D17/22;B22D17/14
• 代理公司: 北京泰吉知識產權代理有限公司 11355
• 代理人: 謝瓊慧;顧以中

1.一種固定式真空閥，其特征在于：所述固定式真空閥包含可動側排氣塊及固定側排氣塊，所述可動側排氣塊包括基體，及設置于所述基體的一端部上且自所述端部朝遠離所述基體的方向延伸呈錐狀的導引體，所述可動側排氣塊具有由所述導引體的錐端延伸至所述基體另一端的排氣通道，所述排氣通道用以供氣體流通并排出于外界，所述可動側排氣塊與所述固定側排氣塊共同圈圍出流道與接口，所述流道自所述導引體銜接所述基體的一端呈螺旋延伸至所述導引體的錐端，所述流道連通所述排氣通道，所述接口連通所述流道與外界。

2.根據權利要求1所述的固定式真空閥，其特征在于：所述可動側排氣塊的導引體的錐度為5°至30°。

3.根據權利要求1所述的固定式真空閥，其特征在于：所述固定側排氣塊包括供所述可動側排氣塊的導引體插置的承接部，及套設于所述承接部上的外固定部，所述承接部與所述外固定部相配合界定出螺旋延伸而位于所述流道外側的冷卻水道，所述外固定部界定出連通所述冷卻水道的進水口及出水口。

4.根據權利要求3所述的固定式真空閥，其特征在于：所述可動側排氣塊的導引體在外表面形成連續螺旋延伸的溝槽，所述溝槽與所述固定側排氣塊的承接部的內表面相配合界定出所述流道。

5.根據權利要求4所述的固定式真空閥，其特征在于：所述溝槽的拔模斜度為1°至3°。

6.根據權利要求3所述的固定式真空閥，其特征在于：所述固定側排氣塊的承接部在外表面形成連續螺旋延伸的通槽，所述通槽與所述外固定部的內表面相配合界定出所述冷卻水道。

7.根據權利要求1所述的固定式真空閥，其特征在于：所述固定式真空閥還包含可拆卸地設置于所述排氣通道內的濾網，所述基體還界定出連通所述排氣通道的進氣口。

8.根據權利要求1所述的固定式真空閥，其特征在于：所述流道的環繞圈數至少3圈以上。